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      南京工業(yè)大學(xué) 材料現(xiàn)代測(cè)試方法 劉云飛 李曉云 現(xiàn)代材料分析方法試題55則范文

      時(shí)間:2019-05-12 20:49:33下載本文作者:會(huì)員上傳
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      第一篇:南京工業(yè)大學(xué) 材料現(xiàn)代測(cè)試方法 劉云飛 李曉云 現(xiàn)代材料分析方法試題5

      一、名詞解釋(10分 每小題2分)

      1.X射線光電效應(yīng):當(dāng)X射線的波長足夠短時(shí),起光子的能量就很大,以至能把原子中處于某一能級(jí)

      上的電子打出來,而它本身則被吸收。它的能量就傳遞給該電子了,使之成為具有一定能量的光電子,并使原子處于高能的激發(fā)態(tài)。這種過程我們稱之為光電吸收或光電效應(yīng)

      2.衍射角:入射線與衍射線的交角。

      3.背散射電子:電子射入試樣后,受到原子的彈性和非彈性散射,有一部分電子的總散射角大于90o,重

      新從試樣表面逸出,稱為背散射電子。

      4.磁透鏡:產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)對(duì)稱磁場(chǎng)的線圈裝置稱為磁透鏡。

      5.差熱分析:把試樣和參比物置于相等的加熱條件下,測(cè)定兩者的溫度差對(duì)溫度或時(shí)間作圖的方法。記錄曲線稱為差熱曲線。

      二、填空(每題2分,共10分)

      1.X射線管中,焦點(diǎn)形狀可分為 點(diǎn)焦點(diǎn)和線焦點(diǎn),適合于衍射儀工作的是 線焦點(diǎn)。

      2.X射線衍射方法有 勞厄法、轉(zhuǎn)動(dòng)晶體法、粉晶法和衍射儀法。

      3.TEM的分辨率是 0.104—0.25 nm,放大倍數(shù)是100—80萬倍;SEM的分辨率是 3—6 nm,放大倍數(shù)是 15—30萬 倍。

      4.解釋掃描電子顯微像鏡的襯度有 形貌襯度、原子序數(shù)襯度 和 電壓襯度 三種襯度。

      5.XRD是X 射線衍射分析,TEM 是透射電子顯微分析,SEM 是掃描電子顯微分析。EPMA 是電子探針分析

      6.光電子能譜是在近十多年才發(fā)展起來的一種研究物質(zhì)表面的 性質(zhì)和狀態(tài)的新型物理方法。

      三、問答題(42分)

      1.X射線衍射的幾何條件是d、θ、λ必須滿足什么公式?寫出數(shù)學(xué)表達(dá)式,并說明d、θ、λ 的意義。(5分)

      答:X射線衍射的幾何條件是d、θ、λ必須滿足布拉格公式。其數(shù)學(xué)表達(dá)式:2dsinθ=λ(2dsinθ=nλ)

      其中d是晶體的晶面間距。θ是布拉格角,即入射線與晶面間的交角。λ是入射X射線的波長。

      2.畫圖說明半高寬中點(diǎn)法確定衍射峰位的方法(5分)

      答: 先連接衍射峰兩邊的背底ab,從強(qiáng)度極大點(diǎn)P作PP’,交ab于P’點(diǎn),PP’的中點(diǎn)O’即是峰高一半點(diǎn)。過O’

      作ab的平行線與衍射峰交于M和N點(diǎn),MN中點(diǎn)O的角位置即定作峰位。

      3.掃描電鏡的特點(diǎn)?(7分)

      答:(1)可以觀察直徑為10—30mm的大塊試樣,制樣方法簡單。(1分)

      (2)場(chǎng)深大,適用于粗糙表面和斷口的分析觀察,圖像富有立體感真實(shí)感。(1分)

      (3)放大倍數(shù)變化范圍大,15~300000倍。(1分)

      (4)分辨率3~6nm。透射電鏡的分辨率雖然高,但對(duì)樣品厚度的要求十分苛刻,且觀察的區(qū)域小。

      (5)可以通過電子學(xué)方法有效地控制和改善圖像的質(zhì)量。(1分)

      (6)可進(jìn)行多種功能的分析。觀察陰極熒光圖像和進(jìn)行陰極熒光光譜分析。(1分)

      (7)可使用加熱、冷卻和拉伸等樣品臺(tái)進(jìn)行動(dòng)態(tài)試驗(yàn),觀察各種環(huán)境條件下的項(xiàng)變及形態(tài)變化等。

      4.在透射電子顯微分析中,電子圖像的襯度有哪幾種?分別適用于哪種試樣和成像方法?

      答:質(zhì)厚襯度、衍射襯度和相位襯度(1分)

      質(zhì)厚襯度:適用于非晶體薄膜和復(fù)形膜試樣所成圖象的解釋(1分)

      衍射襯度和相位襯度:適用于晶體薄膜試樣所成圖象的解釋(1分)

      5.差熱分析中對(duì)參比物有哪些要求?常用什么物質(zhì)作參比物?(5分)

      答;摻比物的要求:

      (1).在整個(gè)測(cè)溫范圍內(nèi)無熱效應(yīng)。(1分)

      (2).比熱和導(dǎo)熱性能與試樣接近。(1分)

      (3).粒度與試樣相近(約50~150μm)。(1分)

      摻比物常用物質(zhì):α-Al2O3(1720K煅燒過的高純Al2O3粉)(2分)

      6.紅外光譜分析主要用于哪幾方面、哪些領(lǐng)域的研究和分析?紅外光譜法有什么特點(diǎn)?(5分)答:紅外光譜主要用于(1).化學(xué)組成和物相分析,(2).分子結(jié)構(gòu)研究。(2分)

      應(yīng)用領(lǐng)域:較多的應(yīng)用于有機(jī)化學(xué)領(lǐng)域,對(duì)于無機(jī)化合物和礦物的鑒定開始較晚。(1分)

      紅外光譜法的特點(diǎn):(1).特征性高;(2).不受物質(zhì)的物理狀態(tài)限制;(3).測(cè)定所需樣品數(shù)量少,幾克甚至幾毫克;(4).操作方便,測(cè)定速度快,重復(fù)性好;(5).已有的標(biāo)準(zhǔn)圖譜較多,便于查閱。

      四、論述題(10分)

      你認(rèn)為“電子顯微分析只能觀察顯微形貌”這種說法對(duì)嗎?論述電子顯微分析可對(duì)無機(jī)非金屬材料進(jìn)行哪些方面的分

      析?電子顯微分析有什么特點(diǎn)?

      答:(答題要點(diǎn))

      “電子顯微分析只能觀察顯微形貌”這種說法是不對(duì)的。(1分)

      電子顯微分析還可對(duì)無機(jī)非金屬材料進(jìn)行以下方面的分析:(4分)

      (1).形貌觀察:顆粒(晶粒)形貌、表面形貌。

      (2).晶界、位錯(cuò)及其它缺陷的觀察。

      (3).物相分析:選區(qū)、微區(qū)物相分析,與形貌觀察相結(jié)合,得到物相大小、形態(tài)和分布信息。

      (4).晶體結(jié)構(gòu)和取向分析。

      電子顯微分析有以下特點(diǎn):(5分)

      (1)分辨率高:0.2~0.3nm

      (2)放大倍數(shù)高:20倍~80萬倍

      (3)是選區(qū)、微區(qū)分析方法:可進(jìn)行納米尺度的晶體結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分分析

      (4)多功能、綜合性分析:形貌、成分和結(jié)構(gòu)分析

      五、應(yīng)用題(共10分)

      TiO2有金紅石和銳鈦礦兩種晶型,用溶膠-凝膠法制備TiO2納米晶,經(jīng)600℃煅燒后得到白色粉體。現(xiàn)要分析粉體的物相和粒度大小,請(qǐng)說明用什么分析方法?并簡要說明分析過程。

      答:物相分析:1.用X射線衍射進(jìn)行物相分析2.用電子衍射進(jìn)行物相分析

      粒度分析:1.電鏡(透射、掃描)2.謝樂公式計(jì)算

      第二篇:材料現(xiàn)代分析測(cè)試方法

      一、名詞解釋(共有20分,每小題2分。)

      1.輻射的發(fā)射:指物質(zhì)吸收能量后產(chǎn)生電磁輻射的現(xiàn)象。

      2.俄歇電子:X射線或電子束激發(fā)固體中原子內(nèi)層電子使原子電離,此時(shí)原子(實(shí)際是離子)處于激發(fā)

      態(tài),將發(fā)生較外層電子向空位躍遷以降低原子能量的過程,此過程發(fā)射的電子。

      3.背散射電子:入射電子與固體作用后又離開固體的電子。

      4.濺射:入射離子轟擊固體時(shí),當(dāng)表面原子獲得足夠的動(dòng)量和能量背離表面運(yùn)動(dòng)時(shí),就引起表面粒

      子(原子、離子、原子團(tuán)等)的發(fā)射,這種現(xiàn)象稱為濺射。

      5.物相鑒定:指確定材料(樣品)由哪些相組成。

      6.電子透鏡:能使電子束聚焦的裝置。

      7.質(zhì)厚襯度:樣品上的不同微區(qū)無論是質(zhì)量還是厚度的差別,均可引起相應(yīng)區(qū)域透射電子強(qiáng)度的改

      變,從而在圖像上形成亮暗不同的 區(qū)域,這一現(xiàn)象稱為質(zhì)厚襯度。

      最大)向短波方?8.藍(lán)移:當(dāng)有機(jī)化合物的結(jié)構(gòu)發(fā)生變化時(shí),其吸收帶的最大吸收峰波長或位置(向移動(dòng),這種現(xiàn)象稱為藍(lán)移(或紫移,或“向藍(lán)”)。

      9.伸縮振動(dòng):鍵長變化而鍵角不變的振動(dòng),可分為對(duì)稱伸縮振動(dòng)和反對(duì)稱伸縮振動(dòng)。

      10.差熱分析:指在程序控制溫度條件下,測(cè)量樣品與參比物的溫度差隨溫度或時(shí)間變化的函數(shù)關(guān)系的技術(shù)。

      二、填空題(共20分,每小題2分。)

      1.電磁波譜可分為三個(gè)部分,即長波部分、中間部分和短波部分,其中中間部分包括(紅外線)、(可見光)和(紫外線),統(tǒng)稱為光學(xué)光譜。

      2.光譜分析方法是基于電磁輻射與材料相互作用產(chǎn)生的特征光譜波長與強(qiáng)度進(jìn)行材料分析的方法。

      光譜按強(qiáng)度對(duì)波長的分布(曲線)特點(diǎn)(或按膠片記錄的光譜表觀形態(tài))可分為(連續(xù))光譜、(帶狀)光譜和(線狀)光譜3類。

      3.分子散射是入射線與線度即尺寸大小遠(yuǎn)小于其波長的分子或分子聚集體相互作用而產(chǎn)生的散射。

      分子散射包括(瑞利散射)與(拉曼散射)兩種。

      4.X射線照射固體物質(zhì)(樣品),可能發(fā)生的相互作用主要有二次電子、背散射電子、特征X射線、俄

      歇電子、吸收電子、透射電子

      5.多晶體(粉晶)X射線衍射分析的基本方法為(照相法)和(X射線衍射儀法)。

      6.依據(jù)入射電子的能量大小,電子衍射可分為(高能)電子衍射和(低能)電子衍射。依據(jù)

      電子束是否穿透樣品,電子衍射可分為(投射式)電子衍射與(反射式)電子衍射。

      2≠0)。?F?7.衍射產(chǎn)生的充分必要條件是((衍射矢量方程或其它等效形式)加

      8.透射電鏡的樣品可分為(直接)樣品和(間接)樣品。

      9.單晶電子衍射花樣標(biāo)定的主要方法有(嘗試核算法)和(標(biāo)準(zhǔn)花樣對(duì)照法)。

      10.掃描隧道顯微鏡、透射電鏡、X射線光電子能譜、差熱分析的英文字母縮寫分別是(stm)、(tem)、(xps)、(DTA)。

      11.X 射線衍射方法有、、和。

      12.掃描儀的工作方式有 和 兩種。

      13.在 X 射線衍射物相分析中,粉末衍射卡組是由 委員會(huì)編制,稱為 JCPDS 卡片,又稱為 PDF 卡片。

      14.電磁透鏡的像差有、、和。

      15.透射電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)分為。

      16.影響差熱曲線的因素有、、和。

      三、判斷題,表述對(duì)的在括號(hào)里打“√”,錯(cuò)的打“×”(共10分,每小題1分)

      1.干涉指數(shù)是對(duì)晶面空間方位與晶面間距的標(biāo)識(shí)。晶面間距為d110/2的晶面其干涉指數(shù)為(220)。

      (√)

      2.倒易矢量r*HKL的基本性質(zhì)為:r*HKL垂直于正點(diǎn)陣中相應(yīng)的(HKL)晶面,其長度r*HKL等于(HKL)之

      晶面間距dHKL的2倍。(×)倒數(shù)

      3.分子的轉(zhuǎn)動(dòng)光譜是帶狀光譜。(×)線狀光譜

      4.二次電子像的分辨率比背散射電子像的分辨率低。(×)高

      5.一束X射線照射一個(gè)原子列(一維晶體),只有鏡面反射方向上才有可能產(chǎn)生衍射。(×)

      6.俄歇電子能譜不能分析固體表面的H和He。(√)

      7.低能電子衍射(LEED)不適合分析絕緣固體樣品的表面結(jié)構(gòu)。(√)

      8.d-d躍遷受配位體場(chǎng)強(qiáng)度大小的影響很大,而f-f躍遷受配位體場(chǎng)強(qiáng)度大小的影響很小。(√)

      9.紅外輻射與物質(zhì)相互作用產(chǎn)生紅外吸收光譜必須有分子極化率的變化。(×)

      10.樣品粒度和氣氛對(duì)差熱曲線沒有影響。(×)

      四、單項(xiàng)選擇題(共10分,每小題1分。)

      1.原子吸收光譜是(A)。

      A、線狀光譜 B、帶狀光譜 C、連續(xù)光譜

      2.下列方法中,(A)可用于測(cè)定方解石的點(diǎn)陣常數(shù)。

      A、X射線衍射線分析 B、紅外光譜 C、原子吸收光譜 D 紫外光譜子能譜

      m)的物相鑒定,可以選擇(D)。?3.合金鋼薄膜中極小彌散顆粒(直徑遠(yuǎn)小于

      1A、X射線衍射線分析 B、紫外可見吸收光譜 C、差熱分析 D、多功能透射電鏡

      4.幾種高聚物組成之混合物的定性分析與定量分析,可以選擇(A)。

      A、紅外光譜 B、俄歇電子能譜 C、掃描電鏡 D、掃描隧道顯微鏡

      5.下列(B)晶面不屬于[100]晶帶。

      A、(001)B、(100)C、(010)D、(001)

      6.某半導(dǎo)體的表面能帶結(jié)構(gòu)測(cè)定,可以選擇(D)。

      A、紅外光譜 B、透射電鏡 C、X射線光電子能譜 D 紫外光電子能譜

      7.要分析鋼中碳化物成分和基體中碳含量,一般應(yīng)選用(A)電子探針儀,A、波譜儀型 B、能譜儀型

      8.要測(cè)定聚合物的熔點(diǎn),可以選擇(C)。

      A、紅外光譜 B、紫外可見光譜 C、差熱分析 D、X射線衍射

      9.下列分析方法中,(A)不能分析水泥原料的化學(xué)組成。

      A、紅外光譜 B、X射線熒光光譜 C、等離子體發(fā)射光譜 D、原子吸收光譜

      10.要分析陶瓷原料的礦物組成,優(yōu)先選擇(C)。

      A、原子吸收光譜 B、原子熒光光譜 C、X射線衍射 D、透射電鏡

      11.成分和價(jià)鍵分析手段包括【 b 】

      (a)WDS、能譜儀(EDS)和 XRD(b)WDS、EDS 和 XPS

      (c)TEM、WDS 和 XPS(d)XRD、FTIR 和 Raman

      12.分子結(jié)構(gòu)分析手段包括【 a 】

      (a)拉曼光譜(Raman)、核磁共振(NMR)和傅立葉變換紅外光譜(FTIR)(b)NMR、FTIR 和 WDS

      (c)SEM、TEM 和 STEM(掃描透射電鏡)(d)XRD、FTIR 和 Raman

      13.表面形貌分析的手段包括【 d 】

      (a)X 射線衍射(XRD)和掃描電鏡(SEM)(b)SEM 和透射電鏡(TEM)(c)波譜儀(WDS)和 X 射線光電子譜儀(XPS)(d)掃描隧道顯微鏡(STM)和

      SEM

      14.透射電鏡的兩種主要功能:【 b 】

      (a)表面形貌和晶體結(jié)構(gòu)(b)內(nèi)部組織和晶體結(jié)構(gòu)

      (c)表面形貌和成分價(jià)鍵(d)內(nèi)部組織和成分價(jià)鍵

      五、簡答題(共40分,每小題8分)

      答題要點(diǎn):

      1.簡述分子能級(jí)躍遷的類型,比較紫外可見光譜與紅外光譜的特點(diǎn)。

      答:分子能級(jí)躍遷的類型主要有分子電子能級(jí)的躍遷、振動(dòng)能級(jí)的躍遷和轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí)的躍遷。紫外可見光譜是基于分子外層電子能級(jí)的躍遷而產(chǎn)生的吸收光譜,由于電子能級(jí)間隔比較大,在產(chǎn)生電子能級(jí)躍遷的同時(shí),伴隨著振動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí)的躍遷,因此它是帶狀光譜,吸收譜帶(峰)寬緩。而紅外光譜是基于分子振動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí)躍遷產(chǎn)生的吸收光譜。一般的中紅外光譜是振-轉(zhuǎn)光譜,是帶狀光譜,而純的轉(zhuǎn)動(dòng)光譜處于遠(yuǎn)紅外區(qū),是線狀光譜。

      2.簡述布拉格方程及其意義。)的相互關(guān)系,是X射線衍射產(chǎn)生的必要條件,是晶體結(jié)構(gòu)分析的基本方程。?)和波長(?)與反射晶面面間距(d)及入射線方位(?。其意義在于布拉格方程表達(dá)了反射線空間方位(?=?為X射線的波長。干涉指數(shù)表示的布拉格方程為2dHKLsin?為掠射角或布拉格角,?,式中d為(hkl)晶面間距,n為任意整數(shù),稱反射級(jí)數(shù),?=n?答:晶面指數(shù)表示的布拉格方程為2dhklsin

      3.為什么說掃描電鏡的分辨率和信號(hào)的種類有關(guān)?試將各種信號(hào)的分辨率高低作一比較。

      二次電子像(幾nm,與掃描電子束斑直徑相當(dāng))?答:掃描電鏡的分辨率和信號(hào)的種類有關(guān),這是因?yàn)椴煌盘?hào)的性質(zhì)和來源不同,作用的深度和范圍不同。主要信號(hào)圖像分辨率的高低順為:掃描透射電子像(與掃描電子束斑直徑相當(dāng))>背散射電子像(50-200nm)> 特征X射圖像(100nm-1000nm)。?吸收電流像

      4.要在觀察斷口形貌的同時(shí),分析斷口上粒狀?yuàn)A雜物的化學(xué)成分,選擇什么儀器?簡述具體的分析方

      法。

      答:要在觀察斷口形貌的同時(shí),分析斷口上粒狀?yuàn)A雜物的化學(xué)成分,應(yīng)選用配置有波譜儀或能譜儀的掃描電鏡。具體的操作分析方法是:先掃描不同放大倍數(shù)的二次電子像,觀察斷口的微觀形貌特征,選擇并圈定斷口上的粒狀?yuàn)A雜物,然后用波譜儀或能譜儀定點(diǎn)分析其化學(xué)成分(確定元素的種類和含量)。

      5.簡述影響紅外吸收譜帶的主要因素。

      答:紅外吸收光譜峰位影響因素是多方面的。一個(gè)特定的基團(tuán)或化學(xué)鍵只有在和周圍環(huán)境完全沒有力學(xué)或電學(xué)偶合的情況下,它的鍵力常數(shù)k值才固定不變。一切能引起k值改變的因素都會(huì)影響峰位變化。歸納起來有:誘導(dǎo)效應(yīng)、共軛效應(yīng)、鍵應(yīng)力的影響、氫鍵的影響、偶合效應(yīng)、物態(tài)變化的影響等。

      6.透射電鏡主要由幾大系統(tǒng)構(gòu)成? 各系統(tǒng)之間關(guān)系如何?

      答:四大系統(tǒng):電子光學(xué)系統(tǒng),真空系統(tǒng),供電控制系統(tǒng),附加儀器系統(tǒng)。

      其中電子光學(xué)系統(tǒng)是其核心。其他系統(tǒng)為輔助系統(tǒng)。

      7.透射電鏡中有哪些主要光闌? 分別安裝在什么位置? 其作用如何?

      答:主要有三種光闌:

      ①聚光鏡光闌。在雙聚光鏡系統(tǒng)中,該光闌裝在第二聚光鏡下方。作用:限制照明孔徑角。

      ②物鏡光闌。安裝在物鏡后焦面。作用: 提高像襯度;減小孔徑角,從而減小像差;進(jìn)行暗場(chǎng)成像。

      ③選區(qū)光闌:放在物鏡的像平面位置。作用: 對(duì)樣品進(jìn)行微區(qū)衍射分析。

      8.什么是消光距離? 影響晶體消光距離的主要物性參數(shù)和外界條件是什么?

      答:消光距離:由于透射波和衍射波強(qiáng)烈的動(dòng)力學(xué)相互作用結(jié)果,使I0和Ig在晶體深度方向上發(fā)生周期性的振蕩,此振蕩的深度周期叫消光距離。

      影響因素:晶胞體積,結(jié)構(gòu)因子,Bragg角,電子波長。

      第三篇:2016《材料現(xiàn)代分析測(cè)試方法》復(fù)習(xí)題

      《近代材料測(cè)試方法》復(fù)習(xí)題

      1. 材料微觀結(jié)構(gòu)和成分分析可以分為哪幾個(gè)層次?分別可以用什么方法分析?

      答:化學(xué)成分分析、晶體結(jié)構(gòu)分析和顯微結(jié)構(gòu)分析

      化學(xué)成分分析——常規(guī)方法(平均成分):濕化學(xué)法、光譜分析法

      ——先進(jìn)方法(種類、濃度、價(jià)態(tài)、分布):X射線熒光光譜、電子探針、光電子能譜、俄歇電子能譜 晶體結(jié)構(gòu)分析:X射線衍射、電子衍射

      顯微結(jié)構(gòu)分析:光學(xué)顯微鏡、透射電子顯微鏡、掃面電子顯微鏡、掃面隧道顯微鏡、原

      子力顯微鏡、場(chǎng)離子顯微鏡

      2. X射線與物質(zhì)相互作用有哪些現(xiàn)象和規(guī)律?利用這些現(xiàn)象和規(guī)律可以進(jìn)行哪些科學(xué)研究工作,有哪些實(shí)際應(yīng)用?

      答: 除貫穿部分的光束外,射線能量損失在與物質(zhì)作用過程之中,基本上可以歸為兩大類:一部分可能變成次級(jí)或更高次的X射線,即所謂熒光X射線,同時(shí),激發(fā)出光電子或俄歇電子。另一部分消耗在X射線的散射之中,包括相干散射和非相干散射。此外,它還能變成熱量逸出。

      (1)現(xiàn)象/現(xiàn)象:散射X射線(想干、非相干)、熒光X射線、透射X射線、俄歇效

      應(yīng)、光電子、熱能

      (2)①光電效應(yīng):當(dāng)入射X射線光子能量等于某一閾值,可擊出原子內(nèi)層電子,產(chǎn) 生光電效應(yīng)。

      應(yīng)用:光電效應(yīng)產(chǎn)生光電子,是X射線光電子能譜分析的技術(shù)基礎(chǔ)。光電效應(yīng)

      使原子產(chǎn)生空位后的退激發(fā)過程產(chǎn)生俄歇電子或X射線熒光輻射是 X射線激發(fā)俄歇能譜分析和X射線熒光分析方法的技術(shù)基礎(chǔ)。

      ②二次特征輻射(X射線熒光輻射):當(dāng)高能X射線光子擊出被照射物質(zhì)原子的 內(nèi)層電子后,較外層電子填其空位而產(chǎn)生了次生特征X射線(稱二次特征輻射)。

      應(yīng)用:X射線被物質(zhì)散射時(shí),產(chǎn)生兩種現(xiàn)象:相干散射和非相干散射。相干散射

      是X射線衍射分析方法的基礎(chǔ)。

      3. 電子與物質(zhì)相互作用有哪些現(xiàn)象和規(guī)律?利用這些現(xiàn)象和規(guī)律可以進(jìn)行哪些科學(xué)研究工作,有哪些實(shí)際應(yīng)用?

      答:當(dāng)電子束入射到固體樣品時(shí),入射電子和樣品物質(zhì)將發(fā)生強(qiáng)烈的相互作用,發(fā)生彈性散射和非彈性散射。伴隨著散射過程,相互作用的區(qū)域中將產(chǎn)生多種與樣品性質(zhì)有關(guān)的物理信息。

      (1)現(xiàn)象/規(guī)律:二次電子、背散射電子、吸收電子、透射電子、俄歇電子、特征X射

      (2)獲得不同的顯微圖像或有關(guān)試樣化學(xué)成分和電子結(jié)構(gòu)的譜學(xué)信息 4. 光電效應(yīng)、熒光輻射、特征輻射、俄歇效應(yīng),熒光產(chǎn)率與俄歇電子產(chǎn)率。特征X射線產(chǎn)生機(jī)理。

      光電效應(yīng):當(dāng)入射X射線光子能量等于某一閾值,可擊出原子內(nèi)層電子,產(chǎn)生光電效應(yīng)。熒光輻射:被打掉了內(nèi)層電子的受激原子,將發(fā)生外層電子向內(nèi)層躍遷的過程,同時(shí)輻射出

      波長嚴(yán)格一定的特征X射線。這種利用X射線激發(fā)而產(chǎn)生的特征輻射為二次特

      征輻射,也稱為熒光輻射。特征輻射:

      俄歇效應(yīng):原子K層電子被擊出,L層電子向K層躍遷,其能量差被鄰近電子或較外層電

      子所吸收,使之受激發(fā)而成為自由電子。這種過程就是俄歇效應(yīng),這個(gè)自由電子

      就稱為俄歇電子。

      熒光產(chǎn)率:激發(fā)態(tài)分子中通過發(fā)射熒光而回到基態(tài)的分子占全部激發(fā)態(tài)分子的分?jǐn)?shù)。

      俄歇電子產(chǎn)率:

      5. 拉曼光譜分析的基本原理及應(yīng)用。什么斯托克斯線和反斯托克斯線?什么是拉曼位移?(振動(dòng)能級(jí))

      原理:光照射到物質(zhì)上發(fā)生彈性散射和非彈性散射.彈性散射的散射光是與激發(fā)光波長相同的成分,非彈性散射的散射光有比激發(fā)光波長長的和短的成分, 統(tǒng)稱為拉曼效應(yīng)。

      應(yīng)用:拉曼光譜對(duì)研究物質(zhì)的骨架特征特別有效。紅外和拉曼分析法結(jié)合,可更完整地研究分子的振動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí),從而更可靠地鑒定分子結(jié)構(gòu)??梢赃M(jìn)行半導(dǎo)體、陶瓷等無機(jī)材料的分析。是合成高分子、生物大分子分析的重要手段。在燃燒物和大氣污染物分析等方面有重要應(yīng)用。有兩種情況:

      (1)分子處于基態(tài)振動(dòng)能級(jí),與光子碰撞后,從光子中獲取能量達(dá)到較高的能級(jí)。若與此相應(yīng)的躍遷能級(jí)有關(guān)的頻率是ν1,那么分子從低能級(jí)躍到高能級(jí)從入射光中得到的能量為hν1,而散射光子的能量要降低到hν0-hν1,頻率降低為ν0-ν1。

      (2)分子處于振動(dòng)的激發(fā)態(tài)上,并且在與光子相碰時(shí)可以把hν1的能量傳給光子,形成一條能量為hν0+hν1和頻率為ν0+ν1的譜線。

      通常把低于入射光頻的散射線ν0-ν1稱為斯托克斯線。高于入射光頻的散射線ν0+ν1稱為反斯托克斯線。

      6. X射線熒光光譜定性、定量分析的基本原理及應(yīng)用(適用),什么是基本體吸收效應(yīng)?如何消除? 定性分析: 在譜儀上配上計(jì)算機(jī),可以直接給出試樣內(nèi)所有元素的名稱。

      1、確定某元素的存在,除要找到易識(shí)別的某一強(qiáng)線外,最好找出另一條強(qiáng)度高的線條,以免誤認(rèn)。

      2、區(qū)分哪些射線是從試樣內(nèi)激發(fā)的,那哪射線是靶給出的,靶還可能有雜質(zhì),也會(huì)發(fā)出X射線。

      3、當(dāng)X射線照射到輕元素上時(shí),由于康普頓效應(yīng),還會(huì)出現(xiàn)非相干散射??赏ㄟ^相應(yīng)的實(shí)驗(yàn)將它們識(shí)別。

      定量分析:如果沒有影響射線強(qiáng)度的因素,試樣內(nèi)元素發(fā)出的熒光射線的強(qiáng)度與該元素在試樣內(nèi)的原子分?jǐn)?shù)成正比。但是實(shí)際上存在影響熒光X射線強(qiáng)度的因素,這些因素叫做基體吸收效應(yīng)和增強(qiáng)效應(yīng)。

      元素A的熒光X射線強(qiáng)度不但與元素A的含量有關(guān),還與試樣內(nèi)其他元素的種類和含量有關(guān)。當(dāng)A元素的特征x射線能量高于B元素的吸收限(或相反)時(shí),則A元素的特征X射線也可以激發(fā)B元素,于是產(chǎn)生兩種影響,其中A元素的特征x熒光照射量率削弱的為吸收效應(yīng)。吸收包括兩部分:一次X射線進(jìn)入試樣時(shí)所受的吸收和熒光X射線從試樣射出時(shí)所受的吸收。

      實(shí)驗(yàn)校正法:外標(biāo)法、內(nèi)標(biāo)法、散射線標(biāo)準(zhǔn)法,增量法 數(shù)學(xué)校正法:經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法、基本參數(shù)法

      7. 波譜儀與能譜儀的展譜原理及特點(diǎn)。(特征X射線檢測(cè))

      波譜儀:利用X射線的波長不同來展譜。1)能量分辨率高——突出的優(yōu)點(diǎn),分辨率為5eV 2)峰背比高:這使WDS所能檢測(cè)的元素的最低濃度是EDS的1/10,大約可檢測(cè)100 ppm。3)采集效率低,分析速度慢。

      4)由于經(jīng)晶體衍射后,X射線強(qiáng)度損失很大,其檢測(cè)效率低。

      5)波譜儀難以在低束流和低激發(fā)強(qiáng)度下使用,因此其空間分辨率低且難與高分辨率的電鏡(冷場(chǎng)場(chǎng)發(fā)射電鏡等)配合使用。能譜儀:利用X射線的能量不同來展譜。優(yōu)點(diǎn):

      1)分析速度快:同時(shí)接收和檢測(cè)所有信號(hào),在幾分鐘內(nèi)分析所有元素。

      2)靈敏度高:收集立體角大,不用聚焦,探頭可靠近試樣,不經(jīng)衍射,強(qiáng)度沒有損失??稍诘褪鳎?0-11 A)條件下工作,有利于提高空間分辨率。

      3)譜線重復(fù)性好:沒有運(yùn)動(dòng)部件,穩(wěn)定性好,沒有聚焦要求,所以譜線峰值位置的重復(fù)性好且不存在失焦問題,適合于比較粗糙表面的分析。缺點(diǎn):

      1)能量分辨率低:在130 eV左右,比WDS的5eV低得多,譜線的重疊現(xiàn)象嚴(yán)重。2)峰背比低:探頭直接對(duì)著樣品,在強(qiáng)度提高的同時(shí),背底也相應(yīng)提高。EDS所能檢測(cè)的元素的最低濃度是WDS的十倍,最低大約是1000 ppm。

      3)工作條件要求嚴(yán)格:探頭必須保持在液氦冷卻的低溫狀態(tài),即使是在不工作時(shí)也不能中斷,否則導(dǎo)致探頭功能下降甚至失效。

      8. XPS的分析原理是什么?(什么效應(yīng))

      光電效應(yīng):在外界光的作用下,物體(主要指固體)中的原子吸收光子的能量,使其某一層的電子擺脫其所受的束縛,在物體中運(yùn)動(dòng),直到這些電子到達(dá)表面。如果能量足夠、方向合適,便可離開物體的表面而逸出,成為光電子。光電子動(dòng)能為:Ec =hv-EB-(-w)

      9. XPS的應(yīng)用及特點(diǎn),XPS中的化學(xué)位移有什么用?

      分析表面化學(xué)元素的組成、化學(xué)態(tài)及其分布,特別是原子的價(jià)態(tài)、表面原子的電子密度、能級(jí)結(jié)構(gòu)。

      最大特點(diǎn)是可以獲得豐富的化學(xué)信息,它對(duì)樣品的損傷是最輕微的,定量也是最好的。它的缺點(diǎn)是由于X射線不易聚焦,因而照射面積大,不適于微區(qū)分析。

      (1)可以分析除H和He以外的所有元素,可以直接得到電子能級(jí)結(jié)構(gòu)的信息。(2)它提供有關(guān)化學(xué)鍵方面的信息,即直接測(cè)量價(jià)層電子及內(nèi)層電子軌道能級(jí),而相鄰元素的同種能級(jí)的譜線相隔較遠(yuǎn),互相干擾少,元素定性的標(biāo)志性強(qiáng)。

      (3)是一種無損分析。

      (4)是一種高靈敏超微量表面分析技術(shù)。分析所需試樣約10-8g即可,絕對(duì)靈敏度高達(dá)10-18g,樣品分析深度約2 nm。

      由于原子處于不同的化學(xué)環(huán)境里而引起的結(jié)合能位移稱為化學(xué)位移?;瘜W(xué)位移的量值與價(jià)電子所處氧化態(tài)的程度和數(shù)目有關(guān)。氧化態(tài)愈高,則化學(xué)位移愈大。

      10. 紫外光電子能譜原理及應(yīng)用。(激發(fā)什么電子?)

      紫外光電子能譜儀與X射線光電子能譜儀非常相似,只需把激發(fā)源變換一下即可。真空紫外光源只能激發(fā)樣品中原子、分子的外層價(jià)電子或固體的價(jià)帶電子。測(cè)量固體表面價(jià)電子和價(jià)帶分布、氣體分子與固體表面的吸附、以及化合物的化學(xué)鍵、研究振動(dòng)結(jié)構(gòu)。

      11. 俄歇電子能譜分析的原理、應(yīng)用及特點(diǎn)。(俄歇電子與什么有關(guān)?)

      原理:俄歇效應(yīng)。俄歇電子的能量與參與俄歇過程的三個(gè)能級(jí)能量有關(guān)。能量是特定的,與入射X射線波長無關(guān),僅與產(chǎn)生俄歇效應(yīng)的物質(zhì)的元素種類有關(guān)。應(yīng)用:可以做物體表面的化學(xué)分析、表面吸附分析、斷面的成分分析。1)材料表面偏析、表面雜質(zhì)分布、晶界元素分析; 2)金屬、半導(dǎo)體、復(fù)合材料等界面研究; 3)薄膜、多層膜生長機(jī)理的研究;

      4)表面化學(xué)過程(如腐蝕、鈍化、催化、晶間腐蝕、氫脆、氧化等)研究; 5)集成電路摻雜的三維微區(qū)分析; 6)固體表面吸附、清潔度、沾染物鑒定等。特點(diǎn):

      1)作為固體表面分析法,其信息深度取決于俄歇電子逸出深度(電子平均自由程)。對(duì)于能量為50eV-2keV范圍內(nèi)的俄歇電子,逸出深度為0.4-2nm,深度分辨率約為l nm,,橫向分辨率取決于入射束斑大小。

      2)可分析除H、He以外的各種元素。

      3)對(duì)于輕元素C、O、N、S、P等有較高的分析靈敏度。4)可進(jìn)行成分的深度剖析或薄膜及界面分析。

      12. 掃描隧道顯微鏡基本原理及特點(diǎn)、工作模式。(量子隧道效應(yīng),如何掃描?恒高、恒電流工作模式,隧道譜應(yīng)用)

      基本原理:尖銳金屬探針在樣品表面掃描,利用針尖-樣品間納米間隙的量子隧道效應(yīng)引起隧道電流與間隙大小呈指數(shù)關(guān)系,獲得原子級(jí)樣品表面形貌特征圖象。

      量子隧道效應(yīng):當(dāng)微觀粒子的總能量小于勢(shì)壘高度時(shí),該粒子仍能穿越這一勢(shì)壘。金屬探針安置在三個(gè)相互垂直的壓電陶瓷(Px、Py、Pz)架上,當(dāng)在壓電陶瓷器件上施加一定電壓時(shí),由于壓電陶瓷器件產(chǎn)生變形,便可驅(qū)動(dòng)針尖在樣品表面實(shí)現(xiàn)三維掃描;

      隧道譜應(yīng)用:可對(duì)樣品表面顯微圖像作逐點(diǎn)分析,以獲得表面原子的電子結(jié)構(gòu)(電子態(tài))等信息。在樣品表面選一定點(diǎn),并固定針尖與樣品間的距離,連續(xù)改變偏壓值從負(fù)幾V~正幾V,同時(shí)測(cè)量隧道電流,便可獲得隧道電流隨偏壓的變化曲線,即掃描隧道譜。特點(diǎn):

      1)STM結(jié)構(gòu)簡單。

      2)其實(shí)驗(yàn)可在多種環(huán)境中進(jìn)行:如大氣、超高真空或液體(包括在絕緣液體和電解液中)。3)工作溫度范圍較寬,可在mK到1100K范圍內(nèi)變化。這是目前任何一種顯微技術(shù)都不能同時(shí)做到的。

      4)分辨率高,掃描隧道顯微鏡在水平和垂直分辨率可以分別達(dá)到0.1nm和0.01nm。因此可直接觀察到材料表面的單個(gè)原子和原子在材料表面上的三維結(jié)構(gòu)圖像。

      5)在觀測(cè)材料表面結(jié)構(gòu)的同時(shí),可得到材料表面的掃描隧道譜(STS),從而可以研究材料表面化學(xué)結(jié)構(gòu)和電子狀態(tài)。

      6)不能探測(cè)深層信息,無法直接觀察絕緣體。工作模式:

      恒電流模式:掃描時(shí),在偏壓不變的情況下,始終保持隧道電流恒定。適于觀察表面起伏較大的樣品。

      恒高模式:始終控制針尖在樣品表面某一水平高度上掃描,隨樣品表面高低起伏,隧道電流不斷變化。適于觀察表面起伏不大的樣品。

      13. 原子力顯微鏡工作原理、成像模式及應(yīng)用。(微小力測(cè)量如何實(shí)現(xiàn)?納米量級(jí)力學(xué)性能測(cè)量)

      原理:利用微小探針與待測(cè)物之間交互作用力,來呈現(xiàn)待測(cè)物表面的物理特性。成像模式:

      應(yīng)用:已成為表面科學(xué)研究的重要手段。(1)幾十到幾百納米尺度的結(jié)構(gòu)特征研究(2)原子分辨率下的結(jié)構(gòu)特征研究(3)在液體環(huán)境下成像對(duì)材料進(jìn)行研究

      (4)測(cè)量、分析表面納米級(jí)力學(xué)性能(吸附力、彈性、塑性、硬度、粘著力、摩擦力等):通過測(cè)量微懸臂自由端在針尖接近和離開樣品過程中的變形(偏轉(zhuǎn)),對(duì)應(yīng)一系列針尖不同位置和微懸臂形變量作圖而得到力曲線。當(dāng)針尖被壓入表面時(shí),那點(diǎn)曲線斜率可以決定材料的彈性模量,從力曲線上也能很好的反映出所測(cè)樣品的彈性、塑性等性質(zhì)。(5)實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品表面納米加工與改性

      14. 什么是離子探針?離子探針的特點(diǎn)及應(yīng)用。

      離子探針微區(qū)分析儀,簡稱離子探針。

      離子探針的原理是利用細(xì)小的高能(能量為1~20keV)離子束照射在樣品表面,激發(fā)出正、負(fù)離子(二次離子);利用質(zhì)譜儀對(duì)這些離子進(jìn)行分析,測(cè)量離子的質(zhì)荷比(m/e)和強(qiáng)度,確定固體表面所含元素的種類及其含量。特點(diǎn):

      1)可作同位素分析。

      2)可對(duì)幾個(gè)原子層深度的極薄表層進(jìn)行成分分析。利用離子束濺射逐層剝離,得到三維的成分信息。

      3)一次離子束斑直徑縮小至微米量級(jí)時(shí),可拍攝特定二次離子的掃描圖像。并可探測(cè)極微量元素(50ppm)。

      4)可高靈敏度地分析包括氫、鋰在內(nèi)的輕元素,特別是可分析氫。

      15. 場(chǎng)離子顯微鏡的成像原理(臺(tái)階邊緣的原子)。

      1)隧道效應(yīng):若氣體原子的外層電子能態(tài)符合樣品中原子的空能級(jí)能態(tài),該電子將有較高的幾率通過“隧道效應(yīng)”而穿過表面位壘進(jìn)入樣品,從而使成像氣體原子變?yōu)檎x子——場(chǎng)致電離。

      2)導(dǎo)體表面電場(chǎng)與其曲率成正比:E≈U/5r,相同的電壓加上相同的導(dǎo)體,曲率越大,也就是越尖,導(dǎo)體上的電荷越密集,產(chǎn)生的電場(chǎng)越強(qiáng)。

      3)場(chǎng)離化原理:當(dāng)成像氣體進(jìn)入容器后,受到自身動(dòng)能的驅(qū)使會(huì)有一部分達(dá)到陽極附近,在極高的電位梯度作用下氣體原子發(fā)生極化,使中性原子的正、負(fù)電荷中心分離而成為一個(gè)電偶極子。

      16. DTA的基本原理,DTA在材料研究中有什么用處?(定量?比熱?)

      基本原理:當(dāng)試樣發(fā)生任何物理或化學(xué)變化時(shí),所釋放或吸收的熱量使樣品溫度高于或低于參比物的溫度,從而相應(yīng)地在差熱曲線上得到放熱或吸熱峰; 應(yīng)用:

      1)如果試樣在升溫過程中熱容有變化,則基線ΔTa就要移動(dòng),因此從DTA曲線便可知比熱發(fā)生急劇變化的溫度,這個(gè)方法被用于測(cè)定玻璃化轉(zhuǎn)變溫度; 2)合金狀態(tài)變化的臨界點(diǎn)及固態(tài)相變點(diǎn)都可用差熱分析法測(cè)定; 3)可以定量分析玻璃和陶瓷相態(tài)結(jié)構(gòu)的變化; 4)被廣泛地用于包括非晶在內(nèi)的固體相變動(dòng)力學(xué)研究; 5)可以用于研究凝膠材料燒結(jié)進(jìn)程;

      17. DSC的基本原理及應(yīng)用。(縱坐標(biāo)是什么?)

      差示掃描量熱法(DSC)基本原理:根據(jù)測(cè)量方法的不同,有兩種DSC法,即功率補(bǔ)償式差示量熱法和熱流式差示量熱法。功率補(bǔ)償式差示量熱法:

      1)試樣和參比物具有獨(dú)立的加熱器和傳感器,儀器由兩條控制電路進(jìn)行監(jiān)控,一條控制溫度,使樣品和參比物在預(yù)定的速率下升溫或降溫;另一條用于補(bǔ)償樣品和參比物之間所產(chǎn)生的溫差,通過功率補(bǔ)償電路使樣品與參比物的溫度保持相同;

      2)功率補(bǔ)償放大器自動(dòng)調(diào)節(jié)補(bǔ)償加熱絲的電流,使試樣與參比物的溫度始終維持相同; 3)只要記錄試樣放熱速度隨T(或t)的變化,就可獲得DSC曲線??v坐標(biāo)代表試樣放熱或吸熱的速度,橫坐標(biāo)是溫度T(或時(shí)間t)。

      應(yīng)用:1)樣品焓變的測(cè)定;2)樣品比熱的測(cè)定;3)研究合金的有序-無序轉(zhuǎn)變

      18. 影響DTA和DSC曲線形態(tài)的因素主要有哪些?(加熱速度,樣品比熱,氣氛)

      影響DTA(差熱分析)曲線形態(tài)的因素:實(shí)驗(yàn)條件、儀器因素、試樣因素等; 實(shí)驗(yàn)條件:

      ① 升溫速率:程序升溫速率主要影響DTA曲線的峰位和峰形,升溫速率越大,峰位越向高溫方向遷移以及峰形越陡;

      ②不同性質(zhì)的氣氛如氧化性、還原性和惰性氣氛對(duì)DTA曲線的影響很大,有些場(chǎng)合可能會(huì)得到截然不同的結(jié)果;

      ③ 參比物:參比物與樣品在用量、裝填、密度、粒度、比熱及熱傳導(dǎo)等方面應(yīng)盡可能相近,否則可能出現(xiàn)基線偏移、彎曲,甚至造成緩慢變化的假峰。

      影響DSC(量熱分析)曲線形態(tài)的因素:實(shí)驗(yàn)條件、儀器因素、試樣因素等; 實(shí)驗(yàn)條件:

      ① 升溫速率:一般升溫速率越大,峰溫越高、峰形越大和越尖銳,而基線漂移大,因而一般采用10℃/min;

      ② 氣氛對(duì)DSC定量分析中峰溫和熱焓值的影響是很大的。

      ③ 參比物:參比物的影響與DTA相同。

      19. 熱重分析應(yīng)用?

      1)主要研究在空氣中或惰性氣體中材料的熱穩(wěn)定性、熱分解作用和氧化降解等化學(xué)變化; 2)還廣泛用于研究涉及質(zhì)量變化的所有物理過程,如測(cè)定水分、揮發(fā)物和殘?jiān)?,吸附、吸收和解吸,氣化速度和氣化熱,升華速度和升華熱;

      3)可以研究固相反應(yīng),縮聚聚合物的固化程度,有填料的聚合物或共混物的組成; 4)以及利用特征熱譜圖作鑒定等。

      20. 什么是穆斯堡爾效應(yīng)?穆斯堡爾譜的應(yīng)用。(橫坐標(biāo)?低溫?)

      無反沖核γ射線發(fā)射和共振吸收現(xiàn)象稱為穆斯堡爾效應(yīng):若要產(chǎn)生穆斯堡爾效應(yīng),反沖能量ER最好趨向于零;大多數(shù)核只有在低溫下才能有明顯的穆斯堡爾效應(yīng); 應(yīng)用:

      1)可用于測(cè)定礦石、合金和廢物中的總含鐵量和總含錫量; 2)可用于研究碳鋼淬火組織、淬火鋼的回火、固溶體分解;

      3)可以用于判斷各種磁性化合物結(jié)構(gòu)的有效手段(可用于測(cè)定反鐵磁性的奈爾點(diǎn)、居里點(diǎn)和其它各種類型的磁轉(zhuǎn)變臨界點(diǎn);也可用于測(cè)定易磁化軸,研究磁性材料中的非磁性相);4)可用于研究包括紅血蛋白、肌紅蛋白、氧化酶、過氧化酶、鐵氧還原蛋白和細(xì)胞色素等范圍極廣的含鐵蛋白質(zhì)的結(jié)構(gòu)和反應(yīng)機(jī)理研究。

      21. 產(chǎn)生衍射的必要條件(布拉格方程)及充分條件。(衍射角由什么決定?幾何關(guān)系)

      必要條件: 1)滿足布拉格方程 2dsi?n?n?

      2)能夠被晶體衍射的X射線的波長必須小于或等于參加反射的衍射面中最大面間距的二倍;

      ??2d

      充分條件:

      1)衍射角:由晶胞形狀和大小確定

      22. 影響衍射強(qiáng)度的因素。

      1)晶胞中原子的種類、數(shù)量和位置; 2)晶體結(jié)構(gòu)、晶粒大小、晶粒數(shù)目; 3)試樣對(duì)X射線的吸收; 4)衍射晶面的數(shù)目; 5)衍射線的位置; 6)溫度因子;

      23. 物相定性分析、定量分析的原理。(強(qiáng)度與什么有關(guān)?正比含量嗎?如何校正基體吸收系數(shù)變化對(duì)強(qiáng)度的影響?)

      物相定性分析:每種結(jié)晶物質(zhì)都有其特定的結(jié)構(gòu)參數(shù),包括點(diǎn)陣類型、單胞大小、單胞中原子(離子或分子)的數(shù)目及其位置等等,而這些參數(shù)在X射線衍射花樣中均有所反映;某種物質(zhì)的多晶體衍射線條的數(shù)目、位置以及強(qiáng)度,是該種物質(zhì)的特征,因而可以成為鑒別物相的標(biāo)志。

      物相定量分析原理:各相衍射線的強(qiáng)度,隨該相含量的增加而提高;由于試樣對(duì)X射線的吸收,使得“強(qiáng)度”并不正比于“含量”,而須加以修正。

      1)采用單線條法(外標(biāo)法):混合樣中j相某線與純j相同一根線強(qiáng)度之比,等于j相的重量百分?jǐn)?shù);

      2)采用內(nèi)標(biāo)法:將一種標(biāo)準(zhǔn)物摻入待測(cè)樣中作為內(nèi)標(biāo),并事先繪制定標(biāo)曲線。3)采用K值法及參比強(qiáng)度法:它與傳統(tǒng)的內(nèi)標(biāo)法相比,不用繪制定標(biāo)曲線;

      4)采用直接對(duì)比法:不向樣品中加入任何物質(zhì)而直接利用樣品中各相的強(qiáng)度比值實(shí)現(xiàn)物相定量的方法。

      24. 晶粒大小與X射線衍射線條寬度的關(guān)系。

      K?

      Bcos?德拜-謝樂公式: D?D為晶粒垂直于晶面方向的平均厚度、B為實(shí)測(cè)樣品衍射峰半高寬度、θ為衍射角、γ為X射線波長

      晶粒的細(xì)化能夠引起X射線衍射線條的寬化; 25. 內(nèi)應(yīng)力的分類及在衍射圖譜上的反映。

      第一類:在物體較大范圍(宏觀體積)內(nèi)存在并平衡的內(nèi)應(yīng)力,此類應(yīng)力的釋放,會(huì)使物體的宏觀體積或形狀發(fā)生變化。第一類內(nèi)應(yīng)力又稱“宏觀應(yīng)力”或“殘余應(yīng)力”。宏觀應(yīng)力使衍射線條位移。

      第二類:在數(shù)個(gè)晶粒范圍內(nèi)存在并平衡的內(nèi)應(yīng)力,一般能使衍射線條變寬,但有時(shí)亦會(huì)引起線條位移。

      第三類:在若干個(gè)原子范圍內(nèi)存在并平衡的內(nèi)應(yīng)力,如各種晶體缺陷(空位、間隙原子、位錯(cuò)等)周圍的應(yīng)力場(chǎng)、點(diǎn)陣畸變等,此類應(yīng)力的存在使衍射強(qiáng)度降低。

      26. 掃描電鏡二次電子像與背散射電子像。(應(yīng)用及特點(diǎn))

      1.二次電子像(SEI):

      1)特點(diǎn):圖像分辨率比較高;二次電子信號(hào)強(qiáng)度與原子序數(shù)沒有明確的關(guān)系,僅對(duì)微區(qū)刻面相對(duì)于入射電子束的角度十分敏感;二次電子能量較低,其運(yùn)動(dòng)軌跡極易受電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用從而發(fā)生改變,不易形成陰影;二次電子信號(hào)特別適用于顯示形貌襯度,用于斷口檢測(cè)和各種材料表面形貌特征觀察;SE本身對(duì)原子序數(shù)不敏感,但其產(chǎn)額隨(BSE產(chǎn)額)增大而略有上升;SE能反映出表面薄層中的成分變化;通常的SE像就是形貌襯度像

      應(yīng)用:SE研究樣品表面形貌最有用的工具;SE也可以對(duì)磁性材料和半導(dǎo)體材料進(jìn)行相關(guān)的研究

      2.背散射電子像(BSEI):

      1)特點(diǎn):樣品表面平均原子序數(shù)大的微區(qū),背散射電子強(qiáng)度較高,而吸收電子強(qiáng)度較低,形成成分襯度;樣品表面不同的傾斜角會(huì)引起B(yǎng)SE數(shù)量的不同,樣品表面的形貌對(duì)其也有一定的影響;傾角一定,高度突變,背散射電子發(fā)射的數(shù)量也會(huì)改變;背散射電子能量高,離開樣品后沿直線軌跡運(yùn)動(dòng);樣品表面各個(gè)微區(qū)相對(duì)于探測(cè)器的方位不同,使收集到的背散射電子數(shù)目不同;檢測(cè)到的信號(hào)強(qiáng)度遠(yuǎn)低于二次電子,粗糙表面的原子序數(shù)襯度往往被形貌襯度所掩蓋。

      應(yīng)用:背散射電子像襯度應(yīng)用最廣泛的是成分襯度像,與SE形貌像(或BSE形貌相)相配合,可以方便地獲得元素和成分不同的組成相分布狀態(tài)。

      27. 掃描電鏡圖像襯度(形貌襯度、原子序數(shù)襯度)。(產(chǎn)額)

      1)表面形貌襯度;電子束在試樣上掃描時(shí)任何兩點(diǎn)的形貌差別表現(xiàn)為信號(hào)強(qiáng)度的差別,從而在圖像中顯示形貌襯度。SE形貌襯度像的一大特點(diǎn)是極富立體感。原理:利用對(duì)試樣表面形貌變化敏感的物理信號(hào)作為顯像管的調(diào)制信號(hào),可以得到形貌襯度圖像。

      應(yīng)用:二次電子和背散射電子信號(hào)強(qiáng)度是試樣表面傾角的函數(shù),均可用形成樣品表面形貌襯度。

      SE的產(chǎn)額隨樣品各部位傾斜角θ(電子束入射角)的不同而變化

      2)原子序數(shù)襯度:原子序數(shù)襯度是試樣表面物質(zhì)原子序數(shù)(化學(xué)成分)差別而形成的襯度。原理:利用對(duì)試樣表面原子序數(shù)(或化學(xué)成分)變化敏感的物理信號(hào)作為顯像管的調(diào)制信號(hào),可以得到原子序數(shù)襯度圖像。

      應(yīng)用:背散射電子像、吸收電子像的襯度都含有原子序數(shù)襯度,而特征X射線像的襯度就是原子序數(shù)襯度。

      28. 什么是電子探針?電子探針的原理、特點(diǎn)及工作方式。(檢測(cè)的信號(hào))

      電子探針X射線顯微分析儀是一種微區(qū)成分分析的儀器。檢測(cè)的信號(hào)是特征X射線。利用電子束照射在樣品表面,激發(fā)出正、負(fù)離子(二次離子),用X射線分析器進(jìn)行分析。特征X射線的波長(能量)——確定待測(cè)元素;特征X射線強(qiáng)度——確定元素的含量。

      第四篇:材料現(xiàn)代分析測(cè)試方法總結(jié)-遼寧科技大學(xué)金材10-1

      ⑴相干散射:

      當(dāng)χ射線通過物質(zhì)時(shí),物質(zhì)原子的電子在電磁場(chǎng)的作用下將產(chǎn)生受迫振動(dòng),受迫振動(dòng)產(chǎn)生交變電磁場(chǎng),其頻率與入射線的頻率相同,這種由于散射線與入射線的波長和頻率一致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干條件,故稱為相干散射。⑵非相干散射:

      當(dāng)χ射線經(jīng)束縛力不大的電子或自由電子散射后,可以得到波長比入射χ射線長的χ射線,且波長隨散射方向不同而改變,這種散射現(xiàn)象稱為非相干散射。⑶熒光輻射

      一個(gè)具有足夠能量的χ射線光子從原子內(nèi)部打出一個(gè)K電子,當(dāng)外層電子來填充K空位時(shí),將向外輻射K系χ射線,這種由χ射線光子激發(fā)原子所發(fā)生的輻射過程,稱熒光輻射?;蚨螣晒狻"任障蓿?/p>

      指χ射線通過物質(zhì)時(shí)光子的能量大于或等于使物質(zhì)原子激發(fā)的能量,如入射光子的能量必須等于或大于將K電子從無窮遠(yuǎn)移至K層時(shí)所作的功W,稱此時(shí)的光子波長λ稱為K系的吸收限。

      ⑸俄歇效應(yīng):

      當(dāng)原子中K層的一個(gè)電子被打出后,它就處于K激發(fā)狀態(tài),其能量為Ek。如果一個(gè)L層電子來填充這個(gè)空位,K電離就變成了L電離,其能由Ek變成El,此時(shí)將釋Ek-El的能量,可能產(chǎn)生熒光χ射線,也可能給予L層的電子,使其脫離原子產(chǎn)生二次電離。即K層的一個(gè)空位被L層的兩個(gè)空位所替代,這種現(xiàn)象稱俄歇效應(yīng)。

      5.特征X射線與熒光X射線的產(chǎn)生機(jī)理有何異同?某物質(zhì)的K系熒光X射線波長是否等于它的K系特征X射線波長? 答:特征X射線與熒光X射線都是由激發(fā)態(tài)原子中的高能級(jí)電子向低能級(jí)躍遷時(shí),多余能量以X射線的形式放出而形成的。不同的是:高能電子轟擊使原子處于激發(fā)態(tài),高能級(jí)電子回遷釋放的是特征X射線;以 X射線轟擊,使原子處于激發(fā)態(tài),高能級(jí)電子回遷釋放的是熒光X射線。某物質(zhì)的K系特征X射線與其K系熒光X射線具有相同波長。6.Ⅹ射線具有波粒二象性,其微粒性和波動(dòng)性分別表現(xiàn)在哪些現(xiàn)象中?

      答:波動(dòng)性主要表現(xiàn)為以一定的頻率和波長在空間傳播,反映了物質(zhì)運(yùn)動(dòng)的連續(xù)性;微粒性主要表現(xiàn)為以光子形式輻射和吸收時(shí)具有一定的質(zhì)量,能量和動(dòng)量,反映了物質(zhì)運(yùn)動(dòng)的分立性。

      第五篇:劉云飛談方法——搭配使用不同資料才能達(dá)到最佳效果(司法考試 學(xué)習(xí)方法)

      劉云飛論方法——搭配使用不同資料才能達(dá)到最佳效果

      在昨天的YY語音里面,很多學(xué)生提問,不知道看什么書,怎么看書,之前的帖子帖子我只介紹了各種教材的優(yōu)劣,似乎知道這些不足以應(yīng)付備考,從考試的角度來說,搭配使用教材是最科學(xué)明智的。

      第一、從一個(gè)初學(xué)者的角度,你要知道買哪些書,有三類教材是必須買的,教材、真題、法條,我看過很多備考經(jīng)驗(yàn),非常具有誤導(dǎo)性,比如有的基礎(chǔ)很好的考生聲稱“只做兩遍真題就過了”動(dòng)輒還考400分,這種經(jīng)驗(yàn)就是一貼毒藥,你要是相信了肯定就是無可救藥了,對(duì)于如何甄別過關(guān)經(jīng)驗(yàn),我有一篇帖子《如何選擇最合適自己的學(xué)習(xí)經(jīng)驗(yàn)》已經(jīng)講述的非常全面。所以首先你要相信我,不要隨便就相信某些人的過關(guān)經(jīng)驗(yàn),既然你是基礎(chǔ)薄弱的考生,三類資料就必須同時(shí)具備。

      第二、有的考生說,“三大本太貴了,我就用2011年(或者2009年)的行不行呀?”,肯定不行,為什么不行呢?因?yàn)?012年的三大本相對(duì)于2010年的有新增的內(nèi)容,而且這種新增內(nèi)容是致命的,什么意思,新增必考呀,這些必考的考點(diǎn)你沒看到,你說你比別人少了多少分,你憑什么說是“必考”呢?你想想,司法部每年出一個(gè)大綱,每年大綱里面有新增的、修改的、刪除的,他為什么要新增呢,是為了出題的需要,為什么要修改呢?也是為了出題的需要,為什么刪除呢?是它覺得出題沒有意義了,于是刪掉。所以你在選擇教材的時(shí)候千萬別吝惜這一點(diǎn)錢,否則很有可能會(huì)浪費(fèi)一年時(shí)光,2012年的教材應(yīng)該在4、5月才出,前面這段時(shí)間不能不看書,這段時(shí)間就看2010年的教材,變了沒關(guān)系,變了你再對(duì)比著看。

      第三、教材應(yīng)該怎么搭配,教材可以搭配三大本和專題講座,這兩套書各有千秋,三大本全面但是重點(diǎn)不突出,專題講座重點(diǎn)突出但是不全面,但是這個(gè)不意味著你要兩本書都全面的掌握,不是的,要注意看書的主次,在不同階段,不同學(xué)科主次不同,刑法和第一卷內(nèi)容以三大本為主,專題講座補(bǔ)充,民法、行政法以專題講座為主,三大本補(bǔ)充,同時(shí)注意,訴訟法也是以三大本為主,但是以法條為補(bǔ)充,這是考察形式?jīng)Q定的,一般來說培訓(xùn)機(jī)構(gòu)是不會(huì)推薦考生看三大本,這是基于商業(yè)需要,你們都去研究三大本了,就沒人買我的書了,所以考生心里要像明鏡似的。

      第四、法條怎么選擇,法條選擇重點(diǎn)法條,不要選擇不分重點(diǎn)的法條匯編,這是因?yàn)橹攸c(diǎn)法條的效率更高,司法考試涵蓋的法條范圍是15000條,但是其中??贾挥?000多個(gè),你時(shí)間那么緊張,哪里有時(shí)間拿來浪費(fèi)呢,一定要把好鋼用在刀刃上。法條有很多種,指南針的法條條例較為清楚,但是筆者并不是指南針的托,所以還請(qǐng)考生多看幾家再下決定。

      第五、真題看什么,其實(shí)市場(chǎng)上的真題都是大同小異的,真題能有什么區(qū)別呢,每年就那一套,答案也是一樣的,主要是真題解析,真題解析司法部每年出一本,一般在當(dāng)年司法考試成績公布后出來,司法部只出當(dāng)年真題解析,比如2010年12月出版的真題解析只有2010年真題,為什么不對(duì)歷年的真題進(jìn)行解析呢?因?yàn)榉l在不斷更新,解析歷年真題就是用去年的內(nèi)存條跑今年的新游戲,容易產(chǎn)生爭(zhēng)議,所以司法部的真題解析是每年一本,其他版本的真題解析都是編寫人自己編寫的,不能代表司法部的觀點(diǎn),很容易產(chǎn)生問題,目前張能寶的真題解析是名氣最大的,可以選擇,但是僅僅看這個(gè)還不夠,建議把歷年真題全

      部下載,然后再三大本上一一找出答案,歷年真題有多少呢?2002-2011年有11套真題(08年有兩套),3000多道真題,每天你做100題,要做1個(gè)月才能做完,而且真題做一遍不夠,至少要做2遍,這樣豈不是要2個(gè)月,不是的,因?yàn)槟阍谧稣骖}的時(shí)候,是突飛猛進(jìn)的學(xué)習(xí)知識(shí),第二遍肯定不用1個(gè)月,頂多10天就能完成,這樣意味著,你在7月中旬的時(shí)候,無論學(xué)到什么程度都要立即開始做真題了,有的考生到了7月20號(hào)說:“我三國法還沒看完,我要看完之后再開始做真題”,你要是有這種想法就錯(cuò)誤了,在7、8月,真題遠(yuǎn)比看書重要,這個(gè)時(shí)候無論是學(xué)到什么程度了,都應(yīng)該停下來做真題了,不能再拖延了。

      有了這幾類教材是不是一定能夠通過呢?還不一定,有了書不代表這些知識(shí)都被你掌握了,你也不是孫悟空,把書吃進(jìn)肚子里就什么都知道了,所以在復(fù)習(xí)的時(shí)候必須把教材吃透,當(dāng)然這是個(gè)很抽象的概念,什么叫吃透呢?我有個(gè)學(xué)員,叫海燕,大三的學(xué)生,5月買了一套嶄新的三大本,9月參加司法考試的時(shí)候,三大本已經(jīng)翻得稀爛,就好像從垃圾堆撿回來的破書一樣,這就是吃透了,要知道她只看了3個(gè)月哦,不是看了3年,3個(gè)月能夠把厚厚的三大本翻爛,說明她看書的功底,最后考了多少分呢?405分。當(dāng)然每個(gè)人的經(jīng)驗(yàn)不一樣,你可以不借鑒,但是掌握書本里的知識(shí)對(duì)于司法考試肯定是至關(guān)重要的。

      再從看書的順序來說,首先看什么,然后看什么,3、4月是打基礎(chǔ)的階段,這個(gè)時(shí)候不適合做題,只能看書,看什么內(nèi)容呢,看刑法和民法,如果你選定看民法,就看專題講座,有同學(xué)看到專題講座就頭疼,這么厚一本書,我看到何年能看完,注意進(jìn)度,每小時(shí)看10頁,一天看5個(gè)小時(shí)就能看50頁,專題講座一共500頁,10天可以看完,如果看刑法就看三大本吧,三大本里面對(duì)總則的講解非常的全面,但是分則沒有具體闡述罪名之間的區(qū)別和聯(lián)系,這一點(diǎn)可以利用專題講座補(bǔ)足,所以學(xué)習(xí)刑法的時(shí)間略長一些,估計(jì)12天左右能夠看完第一輪,也就是說你復(fù)習(xí)民法和刑法最低得要22天,那么意味著你從今天(2月10日)開始看書,3月2日之前要完成民法和刑法的學(xué)習(xí),有的人說,我每天晚上8點(diǎn)才回家,哪來的5個(gè)小時(shí)看書呀,注意我沒有包括周末的時(shí)間哦,只要你周末不加班你周末兩天就必須堅(jiān)持每天看8個(gè)小時(shí)以上,還有考生說:“我周末也要加班呀,怎么辦呢”,沒辦法了,涼拌,很抱歉的告訴你,你屬于最終不過的三種人之一,在職沒時(shí)間備考的不過,荒廢7、8月的不過,心理壓力太大的不過,你都沒時(shí)間看書還想過司考,那司法考試還有含金量么。

      談到這里,順便說說時(shí)間的問題,知道自己看什么書,要花多長時(shí)間呢?最保險(xiǎn)的角度來說,至少3月中旬以前要看完民法和刑法,看完之后干什么呢?當(dāng)然是行政法和訴訟法,用一個(gè)月時(shí)間看完,這時(shí)候大綱出來了,新教材也會(huì)在一個(gè)星期內(nèi)發(fā)售,買一套吧,看一遍新教材,注意,這個(gè)時(shí)候是對(duì)比著看,效率要高很多,不可能再花一個(gè)月看完了,2天看完民法、2天看完刑法,因?yàn)槟阒豢葱略龊托薷牡膬?nèi)容嘛,不知道怎么辦?沒事,到時(shí)候我會(huì)總結(jié)一套新增考點(diǎn)匯編的,不多,一個(gè)小冊(cè)子,但是和泄題沒什么區(qū)別,哈哈,然后開始復(fù)習(xí)其他十個(gè)實(shí)體法,包括三國法呀,商經(jīng)法呀,這些法律沒有理解的難度,看書要注意速度,有學(xué)員說:“不怕你笑話,我看了就忘,記不住怎么辦”,這不是笑話,你要能記住那才成笑話了,因?yàn)槟氵@個(gè)時(shí)候只看書不做題就不可能有深入的記憶效果,真正要記住要等到7、8兩個(gè)月真題訓(xùn)練的時(shí)候再開始,做兩輪真題就記住了,我這幾句話你現(xiàn)在看了將來復(fù)習(xí)的時(shí)候還要看看,為什么?因?yàn)?、6兩個(gè)月是心理壓力形成的階段,如果你覺得壓力過大,看一下我的帖子,壓力驟降,就輕松多了。

      基本的教材和復(fù)習(xí)順序就是這樣,其實(shí)我從來就認(rèn)為,學(xué)習(xí)沒有太多的秘訣,只要是有含金量的考試,哪個(gè)不是要你作出犧牲,有考生說:“我參加培訓(xùn)班只想聽聽課就能過”,這種想法說明你對(duì)司法考試幾乎是一無所知,也有考生說:“我現(xiàn)在不想準(zhǔn)備,過年玩的太累了,要休息”,等你休息好了,估計(jì)司法考試也不用準(zhǔn)備了,我見過一個(gè)考生,40多歲了,專門把工作辭了,他還有一個(gè)4歲的孩子,幾乎就是老婆養(yǎng)家,這么大的壓力是為什么,就是為了一次通過司考,迫于這種壓力,從1月起,他每天早上7點(diǎn)就出門,去中山大學(xué)圖書館看書,看到晚上10點(diǎn),一有時(shí)間就來請(qǐng)教我行政法的問題,我?guī)缀跏遣粎捚錈?,但是我想?dāng)尊重他,當(dāng)你沒有過司考的時(shí)候,你想想你有沒有付出這么多努力,你有沒有這么大的壓力,胡攀老師說過,司考無非就是兩種人,為了生存,為了尊嚴(yán),每個(gè)人都是這樣,不管你拿1000還是1W,只要你要考司考,都是必須付出努力的,這需要抉擇。

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