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      X射線衍射分析思考題

      時間:2019-05-14 05:03:40下載本文作者:會員上傳
      簡介:寫寫幫文庫小編為你整理了多篇相關(guān)的《X射線衍射分析思考題》,但愿對你工作學(xué)習(xí)有幫助,當(dāng)然你在寫寫幫文庫還可以找到更多《X射線衍射分析思考題》。

      第一篇:X射線衍射分析思考題

      X射線衍射分析思考題

      1.X射線學(xué)有幾個分支?每個分支的研究對象是什么? 2.什么叫“相干散射”、“非相干散射”? 3.產(chǎn)生X射線需要什么條件? 4.連續(xù)X射線譜是怎樣產(chǎn)生的?其短波限由什么決定? 5.特征X射線譜是怎樣產(chǎn)生的?為什么特征譜對應(yīng)的波長不變? 6.試推導(dǎo)布拉格方程

      7.什么是結(jié)構(gòu)因子(結(jié)構(gòu)振幅)? 結(jié)構(gòu)因子表征了什么? 8.寫出面心立方點(diǎn)陣中能產(chǎn)生衍射的前5個晶面(干涉面).9.物相定性分析的原理是什么? 10.若待測物質(zhì)中有兩種物相,定性分析時有哪些步驟? 透射電鏡與高分辨顯微方法思考題

      1.電子波長由什么決定?常用透射電鏡的電子波長在什么范圍內(nèi)? 2.透射電鏡主要由哪幾部分組成?各部分的主要功能? 3.比較光學(xué)顯微鏡和電子顯微鏡的異同點(diǎn)。4.影響透射電子顯微鏡分辨率的因素? 5.球差、像散和色差是怎樣造成的?如何減小這些像差?哪些是可消除的像差?

      6.有幾種主要的透射電鏡樣品制備方法?各自的應(yīng)用范圍?雙噴減薄和離子減薄各適用于制備什么樣品?

      7.發(fā)生電子衍射產(chǎn)生的充要條件是什么? 8.說明體心立方和面心立方晶體結(jié)構(gòu)的消光規(guī)律,分別寫出兩種結(jié)構(gòu)前10個衍射晶面。

      9.何為質(zhì)厚襯度?說明質(zhì)厚襯度的成像原理。10.試推導(dǎo)電子衍射的基本公式.11.如何利用已知參數(shù)的多晶樣品標(biāo)定透射電鏡有效相機(jī)常數(shù)?

      12.說明已知相機(jī)常數(shù)及晶體結(jié)構(gòu)時單晶衍射花樣標(biāo)定的基本步驟.13.何為明場像?何為暗場像?畫出明場成像和中心暗場成像光路圖。14.何為相位襯度?相位襯度條件下可獲得什么圖像?

      15.有幾種常見的高分辨電子顯微像?說明形成不同高分辨像所需的衍射條件

      1.電子束與固體樣品相互作用時能產(chǎn)生哪些信號?它們有什么特點(diǎn)?各自的產(chǎn)生機(jī)理是什么? 2.入射電子束強(qiáng)度與各激發(fā)信號強(qiáng)度之間有什么關(guān)系?為什么吸收電子像襯度與二次電子像和背散射電子像襯度相反? 3.掃描電鏡的分辨率與什么因素有關(guān)?為什么不同信號成像的分辨率不同? 4.與透射電鏡相比,掃描電鏡有什么特點(diǎn)?其主要用途是什么? 5.掃描電鏡的主要性能指標(biāo)有哪些?各代表什么含義? 6.說明掃描電鏡中二次電子像的形貌襯度是怎樣形成的?顆粒尺寸大小對襯度有何影響? 7.分別說明波譜儀和能譜儀的工作原理,它們各有什么優(yōu)缺點(diǎn)? 8.電子探針儀主要有幾種分析方法?各用于進(jìn)行什么檢測? 9.俄歇電子有什么特點(diǎn)?俄歇電子能譜儀的主要用途? 10.掃描隧道顯微鏡有幾種工作模式?請分別加以說明

      第二篇:X射線衍射部分思考題

      《X射線衍射》部分思考題

      1、證明(110)、(121)、(321)、(011)、(132)晶面屬于[111]晶帶。

      2、X射線衍射實驗有哪些實驗方法?簡述各自實驗條件。采用X射線衍射儀法進(jìn)行分析時,準(zhǔn)備試樣需要考慮哪些因素?

      3、實驗中選擇X射線管以及濾波片的原則是什么?已知一個以Fe為主要成分的樣品,試選擇合適的X射線管和合適的濾波片。

      4、布拉格方程式有何用途?

      5、試比較衍射儀法與德拜法的優(yōu)缺點(diǎn)?

      6、多重性因子的物理意義是什么?某立方晶系晶體,其{100}的多重性因子是多少?如該晶體轉(zhuǎn)變?yōu)樗姆骄担@個晶面族的多重性因子會發(fā)生什么變化?

      7、物相定性分析的原理是什么?對食鹽進(jìn)行化學(xué)分析與物相定性分析,所得信息有何不同?請說明多相混合物物相定性分析的原理與方法?

      8、原子散射因數(shù)的物理意義是什么?某元素的原子散射因數(shù)與其原子序數(shù)有何關(guān)系?

      9、對于晶粒直徑分別為100,75,50,25nm的粉末衍射圖形,請計算由于晶粒細(xì)化引起的衍射線條寬化幅度B(設(shè)θ=450,λ=0.15nm)。對于晶粒直徑為25nm的粉末,試計算θ=100、450、800時的B值。

      10、羅倫茲因數(shù)是表示什么對衍射強(qiáng)度的影響?其表達(dá)式是綜合了哪幾方面考慮而得出的?

      11、CuKα射線(λkα=0.154nm)照射Cu樣品,已知Cu的點(diǎn)陣常數(shù)為0.361nm,試用布拉格方程求其(200)反射的θ角。

      12、有一四方晶系晶體,其每個單位晶胞中含有位于:[0 1/2 1/4]、[1/2 0 1/4]、[1/2 0 3/4]、[0 1/2 3/4]上的四個同類原子,試導(dǎo)出其F2的簡化表達(dá)式;該晶體屬哪種布拉維點(diǎn)陣? 計算出(100)、(002)、(111)、(001)反射的F2值。

      13、某陶瓷坯料經(jīng)衍射定性分析為高嶺石、石英和長石原料組成,稱?。?588g樣品做衍射實驗,其中它們的最強(qiáng)線各為1864、923、620(CPS),已知參比強(qiáng)度各為3.4、2.7、4.2,定量各原料的含量。

      14、為使CuK?線的強(qiáng)度衰減0.5,需要用多厚的Ni濾波片? CuK?1和CuK?2的強(qiáng)度比在入射時為2:1,仍采用上述厚度的Ni濾波片之后,其比值有什么變化?(Ni的密度為8.96g/cm3,質(zhì)量吸收系數(shù)為52.7cm2?g-1,Cu-?K?=0.15418nm,Cu-?k?1=0.154050nm,Cu-?K?2=0.154434nm)

      15、CuK?X射線得到W(體心立方結(jié)構(gòu))的Debye-Scherrer圖形,最初的4根線條的位置如表格所示,請標(biāo)出各衍射線的衍射指數(shù),然后計算各衍射線的積分

      2009-2010第一學(xué)期材料研究方法課程教學(xué)參考 ?????

      強(qiáng)度之比,其中第1條衍射線作為10。(不考慮溫度因子和吸收因子,衍射線 1 2 3 4

      ? 20.30 29.20 36.70 43.60

      I相對?pF2??1?cos?22???A???e?2M??sin?cos??)

      216、在衍射儀上用鐵的K?輻射掃測鎢的衍射花樣,如忽略溫度因數(shù),試求

      nm,?W?0.3165nm,鎢為bcc結(jié)構(gòu)。I110:I200。已知:?K??Fe?0.198717、X射線衍射儀法中對粉末多晶樣品的要求是什么?

      18、已知氯化鈉的點(diǎn)陣常數(shù)為0.564nm,今用CuKα輻射在衍射儀上掃描測試其粉末樣品,其最低角的三條衍射線由哪三個晶面反射的?求出相應(yīng)的衍射角。

      19、已知某樣品中由α(體心立方)、β(面心立方)兩相組成,如今在衍射儀上用CoKα對此樣品自40°到120°的范圍內(nèi)進(jìn)行掃描,所得衍射圖上有幾條衍射峰?標(biāo)注相應(yīng)的反射晶面。(α相點(diǎn)陣常數(shù)為0.286nm,β相點(diǎn)陣常數(shù)為0.3 60nm)20、某立方晶體的衍射圖中,從低角到高角有8個衍射峰,衍射角依次等于,36.58°、55.71°、69.82°、82.73°、95.26°、107.94°、121.90°、138.31°,判斷該樣品為何種點(diǎn)陣類型?確定對應(yīng)的衍射指數(shù)。

      21、物相分析的一般步驟及定性鑒定中應(yīng)注意的問題是什么?

      22、晶胞參數(shù)的精確測定及具體方法有哪些?

      23、用鈀靶的特征X射線(波長0.581?)輻射NaCl晶體的(200)面,在2?=11.8°處出現(xiàn)一級衍射。求(200)面間距?NaCl晶胞的邊長?若已知NaCl的密度為2.163g.cm-3,摩爾質(zhì)量為58.443 g.mol-1面,求NaCl晶胞分子數(shù)?晶胞中Na+和Cl-數(shù)?

      24、如何從衍射峰的形狀分析樣品的結(jié)晶程度?

      25、金屬鋁屬于立方晶系,用CuKα1射線獲得333衍射,?=81°17′,求其晶胞參數(shù)。

      26、CsCl晶體屬于立方晶系,晶胞參數(shù)為0.411nm,晶體密度為3.97g.cm-3。其衍射線強(qiáng)度在(h+k+l)為偶數(shù)時都很大,為奇數(shù)時都很弱,為什么?

      27、一元素的特征射線能否激發(fā)出同元素同系的熒光輻射,例如能否用CuKα激發(fā)出CuKα熒光輻射,或能否用CuKβ激發(fā)出CuKα熒光輻射?為什么?

      28、為什么X射線管的窗口要用Be做,而防護(hù)X光時要用Pb板?

      2009-2010第一學(xué)期材料研究方法課程教學(xué)參考

      第三篇:X射線衍射分析

      X射線衍射分析 實驗?zāi)康?/p>

      1、了解X衍射的基本原理以及粉末X衍射測試的基本目的;

      2、掌握晶體和非晶體、單晶和多晶的區(qū)別;

      3、了解使用相關(guān)軟件處理XRD測試結(jié)果的基本方法。實驗原理

      1、晶體化學(xué)基本概念

      晶體的基本特點(diǎn)與概念:①質(zhì)點(diǎn)(結(jié)構(gòu)單元)沿三維空間周期性排列(晶體定義),并有對稱性。②空間點(diǎn)陣:實際晶體中的幾何點(diǎn),其所處幾何環(huán)境和物質(zhì)環(huán)境均同,這些“點(diǎn)集”稱空間點(diǎn)陣。③晶體結(jié)構(gòu)=空間點(diǎn)陣+結(jié)構(gòu)單元。非晶部分主要為無定形態(tài)區(qū)域,其內(nèi)部原子不形成排列整齊有規(guī)律的晶格。

      對于大多數(shù)晶體化合物來說,其晶體在冷卻結(jié)晶過程中受環(huán)境應(yīng)力或晶核數(shù)目、成核方式等條件的影響,晶格易發(fā)生畸變。分子鏈段的排列與纏繞受結(jié)晶條件的影響易發(fā)生改變。晶體的形成過程可分為以下幾步:初級成核、分子鏈段的 圖1 14種Bravais點(diǎn)陣

      表面延伸、鏈松弛、鏈的重吸收結(jié)晶、表面成核、分子間成核、晶體生長、晶體生長完善。Bravais提出了點(diǎn)陣空間這一概念,將其解釋為點(diǎn)陣中選取能反映空間點(diǎn)陣周期性與對稱性的單胞,并要求單胞相等棱與角數(shù)最多。滿足上述條件棱間直角最多,同時體積最小。1848年Bravais證明只有14種點(diǎn)陣。晶體內(nèi)分子的排列方式使晶體具有不同的晶型。通常在結(jié)晶完成后的晶體中,不止含有一種晶型的晶體,因此為多晶化合物。反之,若嚴(yán)格控制結(jié)晶條件可得單一晶型的晶體,則為單晶。

      2、X衍射的測試基本目的與原理

      X射線是電磁波,入射晶體時基于晶體結(jié)構(gòu)的周期性,晶體中各個電子的散射波可相互干涉。散射波周相一致相互加強(qiáng)的方向稱衍射方向。衍射方向取決于晶體的周期或晶胞的大小,衍射強(qiáng)度是由晶胞中各個原子及其位置決定的。由倒易點(diǎn)陣概念導(dǎo)入X射線衍射理論, 倒易點(diǎn)落在Ewald 球上是產(chǎn)生衍射必要條件。1912年勞埃等人根據(jù)理論預(yù)見,并用實驗證實了X射線與晶體相遇時能發(fā)生衍射現(xiàn)象,證明了X射線具有電磁波的性質(zhì),成為X射線衍射學(xué)的第一個里程碑。當(dāng)一束單色X射線入射到晶體時,由于晶體是由原子規(guī)則排列成的晶胞組成,這些規(guī)則排列的原子間距離與入射X射線波長有相同數(shù)量級,故由不同原子散射的X射線相互干涉,在某些特殊方向上產(chǎn)生強(qiáng)X射線衍射,衍射線在空間分布的方位和強(qiáng)度,與晶體結(jié)構(gòu)密切相關(guān)。這就是X射線衍射的基本原理。衍射線空間方位與晶體結(jié)構(gòu)的關(guān)系可用布拉格方程表示:

      2dsin??n? 式中d為晶面間距;n為反射級數(shù);θ為掠射角;λ為X射線的波長。布拉格方程是X射線衍射分析的根本依據(jù)。

      X 射線衍射(XRD)是所有物質(zhì),包括從流體、粉末到完整晶體,重要的無損分析工具。對材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、地質(zhì)、環(huán)境、納米材料、生物等領(lǐng)域來說,X射線衍射儀都是物質(zhì)結(jié)構(gòu)表征,以性能為導(dǎo)向研制與開發(fā)新材料,宏觀表象轉(zhuǎn)移至微觀認(rèn)識,建立新理論和質(zhì)量控制不可缺少的方法。其主要分析對象包括:物相分析(物相鑒定與定量相分析)。晶體學(xué)(晶粒大小、指標(biāo)化、點(diǎn)參測定、解結(jié)構(gòu)等)。薄膜分析(薄膜的厚度、密度、表面與界面粗糙度與層序分析,高分辨衍射測定單晶外延膜結(jié)構(gòu)特征)??棙?gòu)分析、殘余應(yīng)力分析。不同溫度與氣氛條件與壓力下的結(jié)構(gòu)變化的原位動態(tài)分析研究。微量樣品和微區(qū)試樣分析。實驗室及過程自動化、組合化學(xué)。納米材料等領(lǐng)域。儀器與試劑

      儀器型號及生產(chǎn)廠家:丹東浩元儀器有限公司DX-2700型衍射儀。測試條件:管電壓40KV;管電流40mA;X光管為銅靶,波長1.5417?;步長0.05°,掃描速度0.4s;掃描范圍為20°~80°。試劑:未知樣品A。4 實驗步驟

      1、打開電腦主機(jī)電源。

      2、開外圍電源:先上撥墻上的兩個開關(guān),再開穩(wěn)壓電源(上撥右邊的開關(guān),標(biāo)有穩(wěn)壓)。

      3、打開XRD衍射儀電源開關(guān)(按下綠色按鈕)。

      4、開冷卻水:先上撥左邊電源開關(guān),再按下RUN按鈕,確認(rèn)流量在20左右方可。

      5、開高壓(順時針旋轉(zhuǎn)45°,停留5s,高壓燈亮)。

      6、打開XRD控制軟件XRD Commander。

      7、防光管老化操作:按照20KV、5mA;25KV、5mA;30KV、5mA;35KV、5mA;40KV、5mA;40KV、40mA程式分次設(shè)置電壓、電流,每次間隔3分鐘。設(shè)置方法:電壓、電流跳到所需值后點(diǎn)set。

      8、設(shè)置測試條件:設(shè)置掃描角度為3°~80°,步長0.05°,掃描速度0.4s。

      9、點(diǎn)擊Start開始測試。

      10、降高壓:將電壓、電流分別降至20KV,5mA后,點(diǎn)擊Set確認(rèn)。

      11、關(guān)高壓:逆時針旋轉(zhuǎn)45°,高壓燈滅。

      12、等待5min,再關(guān)閉冷卻水,先關(guān)RUN,再關(guān)左邊電源。

      13、關(guān)閉控制軟件(XRD Commander)。

      14、關(guān)XRD衍射儀電源開關(guān)(按下紅色按鈕)。

      15、關(guān)電腦。

      16、關(guān)外圍電源。實驗數(shù)據(jù)及結(jié)果

      本實驗測定了一種粉末樣品的XRD圖譜并對測定結(jié)果進(jìn)行物相檢索,判斷待測樣品主要成分、晶型及晶胞參數(shù)。粉末樣品的XRD圖譜:

      圖2 未編號粉末樣品X-Ray衍射圖譜 實驗結(jié)果分析與討論

      數(shù)據(jù)處理:對圖譜進(jìn)行物相檢索

      結(jié)論:經(jīng)過對樣品譜圖進(jìn)行物相檢索,發(fā)現(xiàn)該粉末樣品中含有兩種晶相,主相為Sr2CaMoO6,另外一種雜相為SrMoO4.7 思考題

      1、簡述X射線衍射分析的特點(diǎn)和應(yīng)用。

      答:X射線衍射儀具有易升級,操作簡便和高度智能化的特點(diǎn),靈活地適應(yīng)地礦、生化、理化等多方面、各行業(yè)的測試分析與研究任務(wù)。X 射線衍射(XRD)是所有物質(zhì),包括從流體、粉末到完整晶體,重要的無損分析工具。對材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、地質(zhì)、環(huán)境、納米材料、生物等領(lǐng)域來說,X射線衍射儀都是物質(zhì)結(jié)構(gòu)表征,以性能為導(dǎo)向研制與開發(fā)新材料,宏觀表象轉(zhuǎn)移至微觀認(rèn)識,建立新理論和質(zhì)量控制不可缺少的方法。其主要分析對象包括:物相分析(物相鑒定與定量相分析)。晶體學(xué)(晶粒大小、指標(biāo)化、點(diǎn)參測定、解結(jié)構(gòu)等)。薄膜分析(薄膜的厚度、密度、表面與界面粗糙度與層序分析,高分辨衍射測定單晶外延膜結(jié)構(gòu)特征)??棙?gòu)分析、殘余應(yīng)力分析。不同溫度與氣氛條件與壓力下的結(jié)構(gòu)變化的原位動態(tài)分析研究。微量樣品和微區(qū)試樣分析。實驗室及過程自動化、組合化學(xué)。納米材料等領(lǐng)域。

      2、簡述X射線衍射儀的工作原理。

      答:用高能電子束轟擊金屬“靶”材產(chǎn)生X射線,X射線的波長和晶體內(nèi)部原子面間的距離相近,當(dāng)一束 X射線通過晶體時將發(fā)生衍射,衍射波疊加的結(jié)果使射線的強(qiáng)度在某些方向上加強(qiáng),在其他方向上減弱。當(dāng)X射線以掠角θ(入射角的余角)入射到某一點(diǎn)陣晶格間距為d的晶面上時,在符合布拉格方程的條件下,將在反射方向上得到因疊加而加強(qiáng)的衍射線。當(dāng) X射線波長λ已知時(選用固定波長的特征X射線),采用細(xì)粉末或細(xì)粒多晶體的線狀樣品,可從一堆任意取向的晶體中,從每一θ角符合布拉格方程條件的反射面得到反射,測出θ后,利用布拉格方程即可確定點(diǎn)陣晶面間距、晶胞大小和類型。

      第四篇:實驗 : X射線衍射分析

      X射線衍射分析

      一:實驗?zāi)康?/p>

      (1)概括了解X射線衍射儀的結(jié)構(gòu)及使用。

      (2)練習(xí)用PDF(ASTN)卡片以及索引,對多相物質(zhì)進(jìn)行相分析。二:X射線衍射儀簡介

      近年來,自動化衍射儀的使用已日趨普遍。傳統(tǒng)的衍射儀由X射線發(fā)生器、測角儀、記錄儀等幾部分組成。自動化衍射儀是近年才面世的新產(chǎn)品,它采用微計算機(jī)進(jìn)行程序的自動控制。入射x射線經(jīng)狹縫照射到多晶試樣上,衍射線的單色化可借助于濾波片或單色器。如圖1所示,D/max—rc所附帶的石墨彎晶單色器的反射效率在28.5%以上。衍射線被探測器(目前使用正比計數(shù)器)所接受,電脈沖經(jīng)放大后進(jìn)入脈沖高度分析器。操作者在必要時可利用該設(shè)備自動畫出脈沖高度分布曲線,以便正確選擇基線電壓與上限電壓。信號脈沖可送至數(shù)率儀,并在記錄儀上畫出衍射圖。脈沖亦可送人計數(shù)器(以往稱為定標(biāo)器),經(jīng)微處理機(jī)進(jìn)行尋峰、計算峰積分強(qiáng)度或?qū)挾?、扣除背底等處理,并在屏幕上顯示或通過打印機(jī)將所需的圖形或數(shù)字輸出。D/max—rc衍射儀目前已具有采集衍射資料、處理圖形數(shù)據(jù)、查找管理文件以及自動進(jìn)行物相定性分析等功能。

      圖1 D/max—rc工作原理方框圖

      物相定性分析是X射線衍射分析中最常用的一項測試。D/max—rc衍射儀可自動完成這一過程。首先,儀器按所給定的條件進(jìn)行衍射數(shù)據(jù)的自動采集,接著進(jìn)行尋峰處理并自動啟動檢索程序。此后系統(tǒng)將進(jìn)行自動檢索匹配,并將檢索結(jié)果打印輸出。

      衍射儀法的優(yōu)點(diǎn)較多:如速度快、強(qiáng)度相對精確、信息量大、精度高、分析簡便、試樣制備簡便等。衍射儀對衍射線強(qiáng)度的測量是利用電子計數(shù)管(electronic counter)直接測定的。

      這里關(guān)鍵要解決的技術(shù)問題是:1.X射線接收裝置--計數(shù)管;2.衍射強(qiáng)度必須適當(dāng)加大,為此可以使用板狀試樣;3.相同的(hkl)鏡面也是全方向散射的,所以要聚焦;4.計數(shù)管的移動要滿足布拉格條件。這些問題的解決關(guān)鍵是由幾個機(jī)構(gòu)來實現(xiàn)的:1.X射線測角儀——解決聚焦和測量角度的問題;2.輻射探測儀——解決記錄和分析衍射線能量問題。

      X射線衍射儀的光學(xué)原理圖如下:

      測角儀是衍射儀的核心部件。(1)樣品臺S:位于測角儀中心,可以繞O軸旋轉(zhuǎn),O軸與臺面垂直,平板狀試樣C放置于樣品臺上,要與O軸重合,誤差小于0.1mm;(2)X射線源:X射線源是由X射線管的靶上的線狀焦點(diǎn)F發(fā)出的,F(xiàn)也垂直于紙面,位于以O(shè)為中心的圓周上,與O軸平行;(3)光路布置:發(fā)散的X射線由F發(fā)出,投射到試樣上,衍射線中可以收斂的部分在光闌處形成焦點(diǎn),然后進(jìn)入技術(shù)管。(4)測角儀臺面:狹縫、光闌和計數(shù)管固定在測角儀臺面上,臺面可以繞O軸轉(zhuǎn)動,角位置可以從刻度盤上讀出。(5)測量動作:樣品臺和測角儀臺可以分別繞O軸轉(zhuǎn)動,也可以機(jī)械連動,機(jī)械連動時樣品臺轉(zhuǎn)過θ角時計數(shù)管轉(zhuǎn)動2θ角,這樣設(shè)計的目的是使X射線在板狀試樣表面的入射角經(jīng)常等于反射角,常稱這一動作為θ-2θ連動。

      X光管產(chǎn)生的特征X射線經(jīng)準(zhǔn)直狹縫以θ角入射到樣品表面,其衍射光線由放在與入射x射線成2θ角的探測器測量(強(qiáng)度I)。θ-2θ角可由測角儀連續(xù)改變(掃描),測出相應(yīng)I-θ曲線,從而獲得物質(zhì)結(jié)構(gòu)信息。三:操作規(guī)程

      由指導(dǎo)老師講解

      四:實驗結(jié)果

      五:實驗內(nèi)容及報告要求

      (1)由指導(dǎo)教師在現(xiàn)場介紹X射線衍射儀的構(gòu)造,進(jìn)行操作表演,并描畫一兩個衍射峰。

      (2)以2~3人為一組,按事先描繪好的多相物質(zhì)的衍射圖進(jìn)行物相定性分析。(3)記錄所分析的衍射圖的測試條件,將實驗數(shù)據(jù)及結(jié)果以表格形式列出。

      六:思考題

      (1)利用X射線進(jìn)行物相分析是,對試樣有什么要求?(2)簡要說明X射線衍射一的主要功能。

      第五篇:第一章X射線衍射分析

      第一章

      1.討論同一物質(zhì)的吸收譜和發(fā)射譜概念中二者之間的關(guān)系:

      2.名詞解釋:相干散射、不相干散射、熒光輻射、吸收限、俄歇效應(yīng)。3.X射線的本質(zhì)是什么? 4.連續(xù)X射線的特點(diǎn)?

      5.相干散射和非相干散射的特點(diǎn)?

      6.特征X射線譜與連續(xù)譜的發(fā)射機(jī)制之主要區(qū)別何在?

      7.試述由布拉格方程與反射定律導(dǎo)出衍射矢量方程的思路。

      8.當(dāng)波長為λ的X射線照射到晶體并出現(xiàn)衍射線時,相鄰兩個(hkl)反射線的波程差是多少?相鄰兩個(HKL)反射線的波程差又上多少? 9,判別下列哪些晶面屬于[111]晶帶:(110),(231),(231),(211),(101),(133),(112),(132),(011),(212)

      10.概念:晶面指數(shù)與晶向指數(shù)、晶帶、干涉面、X射線散射、衍射與反射。11.試述布拉格公式2dHKLsinθ=λ中各參數(shù)的含義,以及該公式有哪些應(yīng)用?

      12.當(dāng)X射線在原子上發(fā)射時,相鄰原子散射線在某個方向上的波程差若不為波長的整數(shù)倍,則此方向上必然不存在反射,為什么?

      13.當(dāng)波長為λ的X射線在晶體上發(fā)生衍射時,相鄰兩個(hkl)晶面衍射線的波程差是多少?相鄰兩個HKL干涉面的波程差又是多少?

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