第一篇：打磨拋光工藝書

打磨拋光工藝作業(yè)指導(dǎo)書

1.目的

為保證打磨拋光工序得到有效控制，制定本打磨工藝作業(yè)指導(dǎo)書。2.適用范圍

凡是上崗操作的所有打磨工上崗操作時都必須執(zhí)行本作業(yè)指導(dǎo)書。3.通用打磨拋光工具準(zhǔn)備

3.1 角磨機(jī)：在該工具上可以根據(jù)需要安裝千葉片或著不銹鋼碗刷；安裝千葉片可以進(jìn)行焊接飛濺的打磨、表面磕碰劃傷的打磨、焊縫余高的磨平及加工余高的打磨等工作；

安裝不銹鋼碗刷可以進(jìn)行長大焊縫的打磨，主要作用是去除焊接區(qū)域的氧化皮。打磨焊縫表面不得有裂紋、焊瘤、燒穿、弧坑沙眼等缺陷。拋光后焊縫不得有表面氣孔、夾渣、弧坑、裂紋、電弧擦傷、打火等缺陷。

3.2 直柄打磨機(jī)：在該工具上只可以安裝專用的不銹鋼碗刷；該工具只能進(jìn)行長大焊縫的焊前打磨工作，與角磨機(jī)的主要區(qū)別在于該打磨機(jī)可以得到與長大焊縫一致的紋理。

3.3直磨機(jī)：在該工具上可以根據(jù)需要安裝旋轉(zhuǎn)銼、砂布輪等；安裝錐頭旋轉(zhuǎn)銼可以進(jìn)行焊縫接頭的打磨、小空間內(nèi)缺陷的打磨、深度磕傷的過度打磨（1mm 以下深度）、狹窄空間的加工余高打磨、局部精細(xì)修磨等；安裝砂布輪可以進(jìn)行角磨機(jī)無法完成的小空間打磨拋光、圓角區(qū)域拋光到等。

3.4刮刀：該工具可以進(jìn)行棱角、毛刺的去除、使工件拐角區(qū)域圓滑過度。

3.5風(fēng)槍:該工具用于打磨后清理工件表面的鋁屑及灰塵；為了安全，禁止直接吹向人體。

3.6風(fēng)管：該工具用于風(fēng)源與風(fēng)動工具之間的連接；為了安全及節(jié)約能源，風(fēng)管有漏風(fēng)的情況應(yīng)及時關(guān)閉風(fēng)源，并請維修人員進(jìn)行維修。

3.7拋光機(jī)：用布輪把不銹鋼產(chǎn)品拋光成有光澤的表面或焊接部位打磨后拋光。拋光前需要把產(chǎn)品表面打砂處理，不能顯亞光感覺，拋光后焊接表面不得有氣孔、夾渣、弧坑、裂紋、電弧擦傷、打火等缺陷。

3.8拉絲機(jī)：用拉絲輪把不銹鋼產(chǎn)品表面或焊接部位以XXX 目拉絲處理，拉絲后 產(chǎn)品表面絲向方向一致，且粗細(xì)一致。不能存在明顯分層、發(fā)黑、發(fā)黃現(xiàn)象。4.操作規(guī)程

4.1 操作前準(zhǔn)備工作

4.1.1 將機(jī)臺及作業(yè)場所清理干凈。

4.1.2 依據(jù)《派工單》要求的生產(chǎn)數(shù)量，準(zhǔn)備好待打磨拋光加工工件，并放置于方便作業(yè)的位置，準(zhǔn)備好加工完成品放置備用的托架。

4.1.3 檢查是否有螺絲松動、漏電，安全裝置、關(guān)機(jī)按鈕、事故急停裝置是否正常工作。

4.1.4 檢查磨光待加工工件是否已經(jīng)過品檢員檢驗(yàn)并批準(zhǔn)放行的合格零部件。磨光前必須確保工件表面無其它雜物，發(fā)現(xiàn)板件有裂縫，缺陷等應(yīng)先重新補(bǔ)焊后方可磨光。

4.1.5 按照所要加工的零部件的具體要求，選擇合適的砂輪。4.1.6 戴好口罩及護(hù)目鏡，穿好工作服。4.1.7 安裝并緊固砂輪。

4.1.8 試機(jī)，并進(jìn)行調(diào)整。確保砂輪無抖動現(xiàn)象；

4.1.5 按照所要加工的零部件的具體要求，選擇合適的砂輪。4.1.6 戴好口罩及護(hù)目鏡，穿好工作服。4.1.7 安裝并緊固砂輪。

4.1.8 試機(jī)，并進(jìn)行調(diào)整。確保砂輪無抖動現(xiàn)象；

4.1.9 進(jìn)行首件磨光，檢查是否符合磨光要求，并經(jīng)質(zhì)檢或主管確認(rèn)無誤，方可開始批量磨光作業(yè)。4.2 操作規(guī)范

4.2.1 工作前，應(yīng)檢查砂輪有無損壞，防護(hù)裝置是否完好，通風(fēng)除塵裝置是否有效。4.2.2 安裝砂輪時，必須核對砂輪允許的最高轉(zhuǎn)速是否與主軸轉(zhuǎn)速相適應(yīng)。

4.2.3 需打磨的產(chǎn)品應(yīng)放置平穩(wěn)，小件需加以固定，以免在打磨過程中產(chǎn)品位移而導(dǎo)致加工缺陷。4.2.4 正確使用打磨工具，及時檢查和更換磨損嚴(yán)重的砂輪片或拋光片。

打磨時應(yīng)緊握打磨工具，砂輪片與工作面保持15-30°，循序漸進(jìn)（A→B），不得用力過猛而導(dǎo)致表面凹陷。4.2.6 門板表面拋光作業(yè)時應(yīng)利用打磨工具自身重量。拋光片與加工表面平穩(wěn)結(jié)合，采用平移或圓周運(yùn)動方式，不得中途加力和隨意變換角度。

4.2.7 在打磨過程中發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品表面有氣孔，夾渣，裂紋等現(xiàn)象時應(yīng)及時通知電焊工補(bǔ)焊。

4.2.8 打磨結(jié)束后需進(jìn)行自檢，打磨區(qū)域應(yīng)無明顯的磨紋和凹陷，周邊無焊接飛濺物。產(chǎn)品應(yīng)歸類存放，堆放整齊有序，并做好保護(hù)措施。

5.打磨拋光質(zhì)量

打磨后部件表面無凹凸不平現(xiàn)象，不允許出現(xiàn)毛刺或者凹孔、沙眼現(xiàn)象；打磨后整體表面需光滑，不銹鋼產(chǎn)品表面或焊接部位以XX 目拉絲處理，拉絲后產(chǎn)品表面絲向方向一致，且粗細(xì)一致。不能存在明顯分層、發(fā)黑、發(fā)黃現(xiàn)象。

6.打磨拋光后的質(zhì)量檢驗(yàn)

6.1 打磨拋光后整體尺寸是否符合產(chǎn)品尺寸要求。

6.2 打磨拋光后部件表面需光滑，無凹凸孔或者焊接不良處； 6.3 部件表面無明顯打磨拋光不均勻現(xiàn)象且整體表面一致； 7.安全技術(shù)

7.1 工作時必須戴好防護(hù)口罩（或防護(hù)面罩）及眼鏡。7.2 工作前，應(yīng)檢查砂輪有無損壞，安全防護(hù)裝置是否完好，通風(fēng)除塵裝置是否 時以不傷母材為標(biāo)準(zhǔn)，嚴(yán)禁用千葉片端部斜鏟被打磨面。

技術(shù)要求：被打磨表面要求平滑；不傷母材，以母材的被去除量不超過0.2mm 為標(biāo)準(zhǔn)；被打磨部分表 面紋路要求一致，沿焊縫方向，嚴(yán)禁無規(guī)律打磨。8.3去除表面劃傷

打磨范圍：取矩形框，覆蓋劃傷區(qū)域。

操作方法：使用打磨工具沿一定的方向打磨，不超過矩形框。

技術(shù)要求：被打磨表面要求平滑；不傷母材，以母材的被去除量不超過0.2mm 為標(biāo)準(zhǔn)；被打磨部分表 面紋路要求一致，大部件及烤爐本體橫向拉絲向、小件沿拉絲方向且保持一致；嚴(yán)禁無規(guī)律打磨。8.4加工余高的打磨

打磨范圍：加工余高兩側(cè)各40-50mm。

操作方法：沿被加工的立筋方向進(jìn)行打磨，角磨機(jī)能夠使用的空間內(nèi)用角磨機(jī)進(jìn)行打磨；角磨機(jī)無法使用的空間使用直磨機(jī)進(jìn)行打磨；方法與焊縫余高的打磨相同。

技術(shù)要求：被打磨表面要求平滑；不傷母材，以母材的被去除量不超過0.2mm 為標(biāo)準(zhǔn)；被打磨部分表面紋路要求一致。

8.5使用砂布輪進(jìn)行拋光

打磨范圍：對過線孔等小空間的棱角進(jìn)行拋光或部分零件有拋光要求的進(jìn)行拋光處理。操作方法：使用安裝了砂布輪的直磨機(jī)對棱角進(jìn)行打磨拋光。技術(shù)要求：被打磨表面要求平滑,以目測符合圖紙標(biāo)注要求，觸摸感覺沒有尖銳的棱角為標(biāo)準(zhǔn)；不傷母材，以母材的被去除量不超過0.2mm 為標(biāo)準(zhǔn)。

8.6使用拉絲機(jī)進(jìn)行拉絲處理

拉絲范圍：對零件在焊接加工后打磨表面或刮花面進(jìn)行拉絲處理。

操作方法：使用拉絲機(jī)對打磨表面或刮花表面進(jìn)行拉絲處理使工件表面絲向一致 且光澤紋路一致。

技術(shù)要求：拉絲表面要求平滑并光澤紋路一致,以目測符合圖紙標(biāo)注要求，觸摸感覺粗糙刮手為標(biāo)準(zhǔn)； 不傷母材，整體紋路、絲紋方向、色澤均勻、粗細(xì)一致為標(biāo)準(zhǔn)。8.7焊縫接頭的打磨

打磨范圍：對焊縫接頭及段焊起弧點(diǎn)收狐點(diǎn)使用直磨機(jī)進(jìn)行打磨。

操作方法：使用安裝了旋轉(zhuǎn)銼的直磨機(jī)對焊縫接頭及段焊起弧點(diǎn)收狐點(diǎn)進(jìn)行打磨。技術(shù)要求：焊縫接頭的打磨要求外形與焊縫余高一致；段狐起弧點(diǎn)收狐點(diǎn)的打磨要求在去除焊接缺陷的情況下表面沒有尖銳的棱角；不傷母材，以母材的被去除量不超過0.2mm 為標(biāo)準(zhǔn)。

第二篇：大理石拋光工藝分析[范文模版]

大理石拋光工藝分析

大理石國際統(tǒng)稱云石，以其自然古樸的紋理，色澤鮮艷亮麗，被廣泛用于建筑內(nèi)飾墻面，由于大理石材質(zhì)比較疏松，質(zhì)地較軟吸水率相對比較高。節(jié)理線比較多，故在加工，運(yùn)輸安裝和使用過程中容易出現(xiàn)各種污染和翹曲變形，易失光等現(xiàn)象的發(fā)生，影響了裝飾效果，所以對大理石的護(hù)理也是護(hù)理行業(yè)的必修課。要對大理石飾面的狀況進(jìn)行對比分析，護(hù)理的方法可分為：

1：翻新研磨處理。2：局部落差處理。3：清洗防護(hù)處理。4：結(jié)晶拋光處理。5：無縫填補(bǔ)處理等。下面我們先談?wù)劮卵心ヌ幚怼⒔Y(jié)晶拋光處理的施工工藝：

首先在翻新打磨前先做防水，目的是使到石材盡可能少吸水，從而達(dá)到降低石材吸水律，300#后再做防水，那時候因?yàn)橄髂斐煞浪男Ч档突蛳?，條件允許的情況下最好800#后再做一次防水。遇到比較疏松的石材，例如白沙米黃、沙巖、熱帶雨林、木紋石等要先用高含量密封固化劑（如超硬無機(jī)涂料、含量40%以上有機(jī)硅樹脂密封劑）作前處理，使到石材在填補(bǔ)疏松的同時也硬化了材質(zhì)。

1、粗磨：使用50#、150#、300#、500#金鋼石樹脂硬磨塊（粗磨不要使用軟水磨片進(jìn)行研磨，容易出現(xiàn)波浪，影響平整度）粗磨給水量稍大點(diǎn)但記住不能太多，每道磨片磨完要徹底吸水，檢查剪口磨料留下的深劃道是否用50#磨片磨掉，以此類推，機(jī)器走井字研磨，粗磨占整體研磨45％時間，是確保工程竣工質(zhì)量驗(yàn)收的關(guān)健環(huán)節(jié)。

2、細(xì)磨：使用800#、1000#、2000#金鋼石樹脂軟水磨片，細(xì)磨占整體研35％時間，細(xì)磨到800#后有初光出現(xiàn)、細(xì)磨到2000#后光澤度可達(dá)50度。

3、精磨：使用3000#金鋼石樹脂軟水磨片噴灑A2研磨、進(jìn)行離子交換、精磨占整體研磨20％時間，精磨后光澤度提升很高，大理石石的表面密度提高了，為拋光劑（NO2+Q5鏡面修復(fù)劑）打下堅實(shí)的基礎(chǔ)，增強(qiáng)了拋光材料的附著力。

4、拋光：使用功率2HP以上，轉(zhuǎn)速175---210轉(zhuǎn)/分鐘，重量45-70公斤晶面機(jī)、獸毛含量70％的獸毛墊、3M墊、納米墊、配合大理石鏡面復(fù)顏霜NO2、2X鏡面鎖亮刀入乳Q5進(jìn)行拋光研磨，拋光后大理石表面光澤度可達(dá)最少能在90—100度以上。

5、遇到比較難以做透亮的石材，如爵士白、樹脂類的人造石，假如在做完上述方法仍然不夠水亮，那么就再噴灑一次A2用3000#磨至干，然后重復(fù)用納米墊、配合大理石鏡面復(fù)顏霜NO2、2X鏡面鎖亮刀入乳Q5進(jìn)行拋光研磨，納米無機(jī)高分子共聚物形成結(jié)晶層、呈玻璃質(zhì)狀、水亮的效果就一定能出來了。具有較高的硬度、耐磨度、透明度，抗水、抗污、防滑等作用。

第三篇：鏡面鋁板型材電解拋光工藝與生產(chǎn)實(shí)踐

鏡面鋁板型材電解拋光工藝與生產(chǎn)實(shí)踐

新聞來源：佛山市泰鋁鋁業(yè)有限公司 發(fā)布日期：2013-8-

1電解拋光能夠賦予型材表面高光亮度的效果，并呈現(xiàn)出高鏡面反射性能，它適用于室內(nèi)裝飾、工業(yè)及科技領(lǐng)域有特殊光亮表面的鋁材。

生產(chǎn)鏡面鋁板型材，鋁加工企業(yè)一般采用鋁型材先經(jīng)過機(jī)械拋光，然后采用三酸化學(xué)拋光、電化學(xué)拋光二種方法。傳統(tǒng)的三酸化學(xué)拋光，由于含有硝酸，生產(chǎn)時會產(chǎn)生大量的黃色NO2氣體，毒性大，嚴(yán)重污染環(huán)境；改進(jìn)型三酸化學(xué)拋光，也會產(chǎn)生大量的白色煙霧，對環(huán)境污染也十分大。近年推出的二酸化學(xué)拋光，由于不加硝酸不會產(chǎn)生有毒氣體，但拋光后的鋁型材表面光亮度稍差，不如三酸拋光或電化學(xué)拋光。傳統(tǒng)的電化學(xué)拋光要加入鉻離子，嚴(yán)重污染環(huán)境，所采用的拋光工藝，電流密度要達(dá)到20～30A/dm2，浪費(fèi)能源?，F(xiàn)在，我司使用以磷酸為主、并加入拋光劑的電化學(xué)拋光工藝，無煙霧，無毒性，節(jié)約能源，電流密度低，無排放，槽液能長期使用。

1.電解拋光工藝原理

1.1工藝原理

電解拋光是利用電化學(xué)陽極溶解原理對金屬表面進(jìn)行光整加工的一種工藝方法。將與直流電源正極相連的鋁型材作為陽極置于拋光液中，與直流電負(fù)極相連的不銹鋼為陰極，形成一電場，其反應(yīng)過程如下：

Al→Al3+ + 3e4OHˉ-4 e→ 2H2 O + O2 ↑2 H+ + 2e→ H2 ↑

型材表面上留有擠壓造成的尖峰狀凸起和凹谷，使微觀電場分布呈現(xiàn)非均勻性，尖峰處電力線集中而形成較大電流密度，電化學(xué)反應(yīng)速度較快，金屬溶解速度也較快，在凹谷處，電化學(xué)反應(yīng)速度則相對較慢，另外在電化學(xué)反應(yīng)中，陽極表面現(xiàn)象還會形成一層由溶解了的陽極金屬和電解液組成的粘膜，其導(dǎo)電率較低，粘膜容易聚集在凹谷處，阻礙了凹谷處陽極溶解的進(jìn)行，使陽極表面幾何高點(diǎn)處金屬迅速溶解，幾何低點(diǎn)處的金屬溶解緩慢，鋁合金型材表面凸凹部分發(fā)生不同程度的溶解，最終使鋁型材表面變的光滑又有光澤。

2.電解拋光生產(chǎn)工藝

2.1 電解拋光工藝

為獲得良好的拋光效果，電流密度和電壓是緊密相關(guān)的，通常，電壓升高，電流密度隨之增大，但這一現(xiàn)象只會繼續(xù)到一個臨界點(diǎn)，一旦達(dá)到這一點(diǎn)，電流密度將急速下降，電壓仍相應(yīng)升高，超過這一點(diǎn)，電壓和電流密度又穩(wěn)步升高。電拋光只有在電流密度比臨界點(diǎn)高時才會發(fā)生，低于這一點(diǎn)則會產(chǎn)生化學(xué)浸蝕，出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕，拋光不亮。電拋光對型材表面溶解極少，一般在2.5～6.5μm之間，型材表面深劃痕，沖壓記號，及非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深，電拋光獲得的表面亮度不同機(jī)械拋光獲得的亮度，它無刻痕，不變形，無方向性且顯露出鋁金屬的本色。

2.2 工藝流程如下：

除蠟→水洗→水洗→電解拋光→熱水洗→水洗→中和→水洗→水洗→陽極氧化……

2.3電解拋光槽液的控制

2.3.1 磷酸濃度的控制

濃度控制在65～75%之間，低于65%，光亮度差，拋光時間長，高于75%，槽液黏度高，帶出量大，造成浪費(fèi)。

2.3.2 拋光劑濃度的控制：

濃度控制在6～13%之間，低于6%，光亮度差，拋光時間長。

2.3.3 硫酸濃度的控制

新配槽液，由于槽液無鋁離子，槽液導(dǎo)電能力強(qiáng)，暫可不加入硫酸，隨著鋁離子濃度的升高，再適當(dāng)加入硫酸，其濃度控 制在2～4%之間，加入數(shù)量要少量多次，逐步提高到工藝范圍內(nèi)。硫酸濃度偏高，型材拋光時易起砂。硫酸濃度適當(dāng)，可增加型材表面拋光的清晰度，增加光亮。

2.43.4 槽液比重的控制一般控制在1.64～1.68之間最佳，比重高、黏度大，氣泡很難從型材表面逸出，容易產(chǎn)生氣體條紋或點(diǎn)狀腐蝕。電解拋光時，型材表面產(chǎn)生的熱量不易擴(kuò)散到槽液中去，使型材表面局部溫度太高，易使型材表面形成“熱蝕”，即型材表面出現(xiàn)電灼傷，呈現(xiàn)出“霧狀”，光澤被“霧狀”物覆蓋，表面光亮度差。

第四篇：鋁合金鏡面拋光工藝【大解析】

鋁合金鏡面拋光工藝

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2、鈍化是使金屬表面轉(zhuǎn)化為不易被氧化的狀態(tài)，而延緩金屬的腐蝕速度的方法。

3、著色：對鋁進(jìn)行上色主要有兩種工藝：一種是鋁氧化上色工藝，另外一種是鋁電泳上色工藝。在氧化膜上形成各種顏色,以滿足一定使用要求,如光學(xué)儀器零件常用著黑色,紀(jì)念章著上金黃色等。

導(dǎo)電氧化(鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜)——用于既要防護(hù)又要導(dǎo)電的場合。

4、化學(xué)拋光化學(xué)拋光是利用鋁和鋁合金制作在酸性或堿性電解質(zhì)溶液中的選擇性自溶解作用，來整平拋光制年表面，以降低其表面粗糙度、PH的化學(xué)加工方法。

這種拋光方法具有設(shè)備簡單、不用電源，不受制件外型尺寸限制，拋興速度高和加工成本低等優(yōu)點(diǎn)。鋁及鋁合金的純度對化學(xué)拋光的質(zhì)量具有很大的影響，它的純度愈高，拋光質(zhì)量愈好，反之就愈差。

5、化學(xué)氧化：氧化膜較薄，厚度約為0.5～4微米,且多孔，質(zhì)軟，具有良好的吸附性，可作為有機(jī)涂層的底層，但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜；

鋁及鋁合金化學(xué)氧化的工藝按其溶液性質(zhì)可分為堿性氧化法和酸性氧化法兩大類。

按膜層性質(zhì)可分為:氧化物膜、磷酸鹽膜、鉻酸鹽膜、鉻酸－磷酸鹽膜。

6、噴涂：用于設(shè)備的外部防護(hù)、裝飾,通常都在氧化的基礎(chǔ)上進(jìn)行。鋁件在涂裝前應(yīng)進(jìn)行前處理才能使涂層和工件結(jié)合牢固，一般的有三種方法：磷化（磷酸鹽法）、鉻化（無鉻鉻化）、化學(xué)氧化。

7、電化學(xué)氧化，鋁及鋁合金的化學(xué)氧化處理設(shè)備簡單，操作方便，生產(chǎn)效率高，不消耗電能，適用范圍廣，不受零件大小和形狀的限制。氧化膜厚度約為5～20微米（硬質(zhì)陽極氧化膜厚度可達(dá)60～200微米），有較高硬度，良好的耐熱和絕緣性，抗蝕能力高于化學(xué)氧化膜，多孔，有很好的吸附能力。

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第五篇：系統(tǒng)地分析了藍(lán)寶石拋光工藝過程的性能參數(shù)

地分析了工藝的性能,通過大量實(shí)驗(yàn)總結(jié)出了其影響并提出了優(yōu)化方案。結(jié)果表明,采用粒徑為40nm、低分散度的SiO2溶膠磨料并配合以適當(dāng)參數(shù)進(jìn)行拋光,可以獲得良好的表面狀態(tài)和較高的去除速率,能夠有效提高藍(lán)寶石表面的性能及加工效率。

藍(lán)寶石是世界五大名貴寶石之一,優(yōu)質(zhì)藍(lán)寶石較為稀少,因此市場上藍(lán)寶石的仿制品也很多。本文通過對藍(lán)寶石、堇青石、藍(lán)色托帕石、海藍(lán)寶石和藍(lán)晶石的拉曼光譜進(jìn)行測試與研究,得到藍(lán)寶石具有由Al-O振動引起的特征拉曼位移413cm-1,640cm-1和668cm-1;堇青石具有由Si-O振動引起的特征拉曼位移550cm-1,662cm-1,964cm-1和1176cm-1;海藍(lán)寶石具有由Si-O振動引起的特征拉曼位移678cm-1,1064cm-1,1232cm-1;藍(lán)色托帕石具有由Si-O振動引起的特征拉曼位移844cm-1和924cm-1;藍(lán)晶石具有由Si-O引起的特征拉曼位移933cm-1和1133cm-1。根據(jù)拉曼位移的位置和,可無損、快速、有效地區(qū)分藍(lán)寶石、堇青石、海藍(lán)寶石、藍(lán)色托帕石和藍(lán)晶石。

從效應(yīng)發(fā)現(xiàn)以來,大量的理論和實(shí)驗(yàn)研究建立了各種,基于的原因,可能來自于作用在分子上的局域電場的增強(qiáng)或者分子極化率的改變,其理論機(jī)制模型中主要分為兩大類:物理模型(電磁增強(qiáng))和化學(xué)模型(非電磁增強(qiáng))。物理模型將SERS的產(chǎn)生歸因于局域電場的增強(qiáng),主要反映了金屬材料本身的光學(xué)性質(zhì)和金屬表面的納米結(jié)構(gòu)性質(zhì);而化學(xué)模型側(cè)重于分子極化率的改變,認(rèn)為由分子的基態(tài)到金屬費(fèi)米能級附近的空電子態(tài)可以發(fā)生共振躍遷,從而改變分子的極化率,產(chǎn)生SERS效應(yīng)。化學(xué)模型主要與分子幾何形狀、電子結(jié)構(gòu)、分子與基底的成鍵作用和表面環(huán)境密切相關(guān)。