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      2014材料現(xiàn)代分析方法復(fù)習(xí)題-- 學(xué)生 2014-12-18 - 部分答案

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      第一篇:2014材料現(xiàn)代分析方法復(fù)習(xí)題-- 學(xué)生 2014-12-18 - 部分答案

      材料現(xiàn)代分析復(fù)習(xí)題

      前八單元總結(jié)

      一、填空題

      1、影響透射電鏡分辨率的因素主要有:衍射效應(yīng)和電鏡的像差(球差、像散、色差)等。

      2、透射電子顯微鏡的照明系統(tǒng)由電子槍、聚光鏡和相應(yīng)的平移對(duì)中、傾斜調(diào)節(jié)裝置組成。它的作用是提供一束亮度高、照明孔經(jīng)角小、平行度好、束流穩(wěn)定的照明源。它應(yīng)滿足明場(chǎng)和暗場(chǎng)成像需求。

      3、透射電子顯微鏡的成像系統(tǒng)主要是由物鏡、中間鏡和投影鏡組成。

      4、當(dāng)X射線管電壓超過(guò)臨界電壓就可以產(chǎn)生

      特征譜 X射線和 連續(xù)譜X射線。

      5、X射線與物質(zhì)相互作用可以產(chǎn)生

      散射、入射、透射、吸收

      6、經(jīng)過(guò)厚度為 H的物質(zhì)后,X射線的強(qiáng)度為IH=I0exp(-μH)。

      7、X射線的本質(zhì)既有波動(dòng)性,也是粒子性,具有 波粒二象性。

      8、短波長(zhǎng)的X射線稱硬X射線,常用于

      衍射分析

      ;長(zhǎng)波長(zhǎng)的 X射線稱

      軟X射線,常用于 熒光分析。

      9、德拜相機(jī)有兩種,直徑分別是

      57.3mm、114.6mm。測(cè)量θ角時(shí),底片上每毫米對(duì)

      應(yīng) 2 o和

      1o。掃描電子顯微鏡常用的信號(hào)是 二次電子

      背散射電子。

      11、衍射儀的核心是測(cè)角儀圓,它由試樣臺(tái)、輻射源和探測(cè)器 共同組成。

      12、可以用作 X射線探測(cè)器的有氣體電離計(jì)數(shù)器、閃爍計(jì)數(shù)器、半導(dǎo)體計(jì)數(shù)器等

      13、影響衍射儀實(shí)驗(yàn)結(jié)果的參數(shù)有狹縫寬度、掃描速度和時(shí)間常數(shù)等。

      14、X 射線物相分析包括 定性分析 和 定量分析,而 定性分析

      更常用更廣泛。

      15、第一類應(yīng)力導(dǎo)致 X 射線衍射線 峰線偏移(衍射線條位移);第二類應(yīng)力導(dǎo)致衍射線 峰線寬化(線條變寬);第三類應(yīng)力導(dǎo)致衍射線衍射強(qiáng)度降低。

      16、倒易矢量的方向是對(duì)應(yīng)正空間晶面的 法線,倒易矢量的長(zhǎng)度等于對(duì)應(yīng)正空間 晶面間距的倒數(shù)。

      17、X 射線物相定量分析方法有

      外標(biāo)法(單線條法)、內(nèi)標(biāo)法、K值法、直接比較法

      等。

      18、TEM 中的透鏡有兩種,分別是

      磁透鏡

      電透鏡。

      19、TEM 中的三個(gè)可動(dòng)光欄分別是第二聚光鏡光欄位于第二聚光鏡焦點(diǎn)上,物鏡光欄位于 物鏡的背焦面上,20、物相分析需要確定材料的 物相組成和物相含量。

      21、透射電鏡主要由照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和觀察記錄系統(tǒng);輔助部分由真空系統(tǒng)、循環(huán)冷卻系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。

      22、影響X射線衍射強(qiáng)度的因素除了結(jié)構(gòu)因子外,還有角因子、吸收因子、多重性因子和

      溫度因子等。

      23、透射電鏡由照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、記錄系統(tǒng)和電器系統(tǒng)組成。

      24、TEM 成像系統(tǒng)由物鏡、中間鏡和投影鏡與樣品室構(gòu)成組成。

      25、TEM 的主要組成部分是照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和觀察記錄系統(tǒng);輔助部分由真空系統(tǒng)、循環(huán)冷卻系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。

      26、電磁透鏡的像差包括球差、像散、色差。

      27、電子衍射和 X 射線衍射的不同之處在于電子散射強(qiáng)度大導(dǎo)致攝譜時(shí)間短 不同、電子多次衍射導(dǎo)致電子束強(qiáng)度不能被測(cè)量

      不同,以及電子波長(zhǎng)短導(dǎo)致的布拉格角小

      不同。

      28、電子束與固體樣品相互作用可以產(chǎn)生背散射電子、二次電子、吸收電子、俄歇電子、特征X射線、透射電子、可見(jiàn)光

      等物理信號(hào)。

      29、掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)是顯示屏的掃描寬度與樣品上的掃描寬度的比值。在襯度像上顆粒、凸起的棱角是亮襯度,而裂紋、凹坑則是暗襯度。

      30、影響衍射強(qiáng)度的因素除結(jié)構(gòu)因素、晶體形狀外還有:角因素,多重性因素,溫度因素、試樣對(duì)X射線的吸收。

      31、X射線光電子能譜是以單色 X射線

      為光源、激發(fā)樣品中原子

      內(nèi)

      層電子,產(chǎn)生光電子發(fā)射的能譜。

      32、德拜照相法中的底片安裝方法有正裝法、倒(反)裝法

      和不對(duì)稱法(偏裝法)三種。

      二、選擇題

      1.用來(lái)進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)分析的 X 射線學(xué)分支是(B)

      A.X 射線透射學(xué);B.X 射線衍射學(xué);C.X射線光譜學(xué);D.其它

      2.M 層電子回遷到 K層后,多余的能量放出的特征 X射線稱(B)

      A.Kα;B.Kβ;C.Kγ;D.Lα。

      3.當(dāng) X射線發(fā)生裝置是 Cu 靶,濾波片應(yīng)選(C)

      A. Cu;B.Fe;C.Ni;D.Mo。

      8.有一倒易矢量為g??2a??2b??c?,與它對(duì)應(yīng)的正空間晶面是(C)A .(210)

      B.(220)

      C.(221)D.(110)

      4.當(dāng)電子把所有能量都轉(zhuǎn)換為 X射線時(shí),該 X射線波長(zhǎng)稱(A)

      A.短波限λ0;B.激發(fā)限λk;C.吸收限;D.特征X射線

      5.當(dāng) X射線將某物質(zhì)原子的 K層電子打出去后,L 層電子回遷 K層,多余能量將另一個(gè)L 層電子打出核外,這整個(gè)過(guò)程將產(chǎn)生(D)

      A.光電子;B.二次熒光;C.俄歇電子;D.(A+C)

      9.測(cè)定鋼中的奧氏體含量,若采用定量X射線物相分析,常用方法是(B)。

      A . 外標(biāo)法

      B.直接比較法

      C.內(nèi)標(biāo)法

      D. K值法。1.德拜法中有利于提高測(cè)量精度的底片安裝方法是(C)。A.正裝法 B.倒裝法 C.不對(duì)稱法

      D.A+B

      6.有一體心立方晶體的晶格常數(shù)是 0.286nm,用鐵靶 Kα(λKα=0.194nm)照射該晶體能 產(chǎn)生(B)衍射線。

      A.三條; B.四條; C.五條;D.六條。

      5.電子束與固體樣品相互作用產(chǎn)生的物理信號(hào)中可用于分析 1nm厚表層成分的信號(hào)是(B)A.背散射電子

      B.俄歇電子

      C.特征X射線

      D. 吸收電子 7.一束 X射線照射到晶體上能否產(chǎn)生衍射取決于(C)。

      A.是否滿足布拉格條件;B.是否衍射強(qiáng)度 I≠0;C.A+B;D.晶體形狀。

      8.電子束與固體樣品相互作用產(chǎn)生的物理信號(hào)中可用于分析 1nm厚表層成分的信號(hào)是(b)。

      a.背散射電子;b.俄歇電子 ;c.特征X射線。

      6.采用單色X射線照射到粉末的多晶試樣上,衍射花樣用照相底片來(lái)記錄的實(shí)驗(yàn)方法是(A)。A. 粉末照相法

      B.勞埃法 C.周轉(zhuǎn)晶體法

      D.衍射儀法

      9.中心暗場(chǎng)像的成像操作方法是(c)。

      a.以物鏡光欄套住透射斑;b.以物鏡光欄套住衍射斑; c.將衍射斑移至中心并以物。10.最常用的X射線衍射方法是(B)。

      A.勞厄法;B.粉末多晶法;C.周轉(zhuǎn)晶體法;D.德拜法。11.測(cè)角儀中,探測(cè)器的轉(zhuǎn)速與試樣的轉(zhuǎn)速關(guān)系是(B)。

      A.保持同步1﹕1 ;B.2﹕1 ;C.1﹕2 ;D.1﹕0。

      12.衍射儀法中的試樣形狀是(B)。

      A.絲狀粉末多晶;B.塊狀粉末多晶;C.塊狀單晶;D.任意形狀。

      13.若H-800電鏡的最高分辨率是 0.5nm,那么這臺(tái)電鏡的有效放大倍數(shù)是(C)。A.10000;B.100000;C.400000;D.600000。14.菊池線可以幫助(D)。

      A.估計(jì)樣品的厚度

      B.確定180o不唯一性

      C.鑒別有序固溶體

      D.精確測(cè)定晶體取向。

      14.可以消除的像差是(B)。

      A.球差;B.像散;C.色差;D.A+B。

      15.可以提高TEM 的襯度的光欄是(B)。

      A.第二聚光鏡光欄;B.物鏡光欄;C.選區(qū)光欄;D.其它光欄。

      16.電子衍射成像時(shí)是將(A)。

      A.中間鏡的物平面與與物鏡的背焦面重合;B.中間鏡的物平面與與物鏡的像平面重合; C.關(guān)閉中間鏡;D.關(guān)閉物鏡。

      3.將某一衍射斑點(diǎn)移到熒光屏中心調(diào)整物鏡光欄使該衍射斑點(diǎn)成像,這是(B)。A.明場(chǎng)像 B.暗場(chǎng)像

      C.中心暗場(chǎng)像 D.弱束暗場(chǎng)像 17.選區(qū)光欄在 TEM 鏡筒中的位置是(A)。

      A.物鏡的物平面;B.物鏡的像平面 C.物鏡的背焦面;D.物鏡的前焦面。

      18.單晶體電子衍射花樣是(A)。

      A.規(guī)則的平行四邊形斑點(diǎn);B.同心圓環(huán);C.暈環(huán);D.不規(guī)則斑點(diǎn)。

      19.僅僅反映固體樣品表面形貌信息的物理信號(hào)是(B)。

      A.背散射電子;B.二次電子;C.吸收電子;D.透射電子。

      20.在掃描電子顯微鏡中,下列二次電子像襯度最亮的區(qū)域是(C)。

      A.和電子束垂直的表面;B.和電子束成 30o的表面;C.和電子束成 45o的表面;D.和 電子束成 60o的表面。

      21.電子衍射成像時(shí)是將(A)

      A.中間鏡的物平面與物鏡的背焦面重合 B.中間鏡的物平面與物鏡的像平面重合 C.關(guān)閉中間鏡

      D.關(guān)閉物鏡。

      22.掃描電子顯微鏡配備的成分分析附件中最常見(jiàn)的儀器是(B)。

      A.波譜儀;B.能譜儀;C.俄歇電子譜儀;D.特征電子能量損失譜。23.掃描電子顯微鏡配備的成分分析附件中最常見(jiàn)的儀器是(C)。

      A .波譜儀

      B.俄歇電子譜儀

      C .能譜儀

      D .特征電子能量損失譜。

      三、判斷題

      1、隨 X射線管的電壓升高,λ0 和λk 都隨之減小。(×)

      2、X射線衍射與光反射類似,遵從入射角等于反射角規(guī)律。(√)

      3、激發(fā)限與吸收限是一回事,只是從不同角度看問(wèn)題。(×)

      4、經(jīng)濾波后的 X射線是相對(duì)的單色光。(√)

      5、在X衍射的定量分析中,內(nèi)標(biāo)法既適用于粉末狀樣品,也適用于整體樣品。(×)

      6、產(chǎn)生特征X射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外,原子處于激發(fā)狀態(tài)。(√)

      7、選擇濾波片只要根據(jù)吸收曲線選擇材料,而不需要考慮厚度。(×)

      8、倒易矢量能唯一地代表對(duì)應(yīng)的正空間晶面。(√)

      9、X射線衍射與光的反射一樣,只要滿足入射角等于反射角就行。(×)

      10、選擇濾波片只要根據(jù)吸收曲線選擇材料,而不需要考慮厚度。(×)

      11、干涉晶面與實(shí)際晶面的區(qū)別在于:干涉晶面是虛擬的,指數(shù)間存在公約數(shù) n。(√)

      12、布拉格方程只涉及 X射線衍射方向,不能反映衍射強(qiáng)度。(√)

      13、衍射儀法和德拜法一樣,對(duì)試樣粉末的要求是粒度均勻、大小適中,沒(méi)有應(yīng)力。(×)

      14、X 射線衍射之所以可以進(jìn)行物相定性分析,是因?yàn)闆](méi)有兩種物相的衍射花樣是完全相

      同的。(√)

      15、背散射電子像分辨率比二次電子像的分辨率高,對(duì)樣品表面形貌的變化很靈敏。(×)

      16、理論上 X 射線物相定性分析可以告訴我們被測(cè)材料中有哪些物相,而定量分析可以告訴我們這些物相的含量有多少。(√)

      18、孔徑半角α是影響分辨率的重要因素,TEM 中的α角越小越好。(×)

      19、有效放大倍數(shù)與儀器可以達(dá)到的放大倍數(shù)不同,前者取決于儀器分辨率和人眼分辨率,后者僅僅是儀器的制造水平。(√)

      20、供透射電鏡分析的樣品必須對(duì)電子束是透明的,通常樣品觀察區(qū)域的厚度以100~200nm為宜。(√)

      21、TEM 中主要是電磁透鏡,由于電磁透鏡不存在凹透鏡,所以不能象光學(xué)顯微鏡那樣通過(guò)

      凹凸鏡的組合設(shè)計(jì)來(lái)減小或消除像差,故 TEM中的像差都是不可消除的。(√)

      22、TEM 的景深和焦長(zhǎng)隨分辨率Δr0 的數(shù)值減小而減?。浑S孔徑半角α的減小而增加;隨放大倍數(shù)的提高而減小。(×)

      23、掃描電子顯微鏡的襯度和透射電鏡一樣取決于質(zhì)厚襯度和衍射襯度。(×)

      24、明場(chǎng)像是質(zhì)厚襯度,暗場(chǎng)像是衍襯襯度。(×)

      25、掃描電子顯微鏡中的物鏡與透射電子顯微鏡的物鏡一樣。(×)

      26、掃描電子顯微鏡具有大的景深,所以它可以用來(lái)進(jìn)行斷口形貌的分析觀察。(√)

      27、襯度是指圖象上不同區(qū)域間明暗程度的差別。(√)

      28、衍射分析是依賴于電子束的粒子性建立的分析方法。(×)

      29、選區(qū)電子衍射是通過(guò)在物鏡像平面插入選區(qū)光欄實(shí)現(xiàn)的。(√)

      30、透射電子成像過(guò)程,選用直射電子形成的像為明場(chǎng)像,選用衍射電子形成的像為暗場(chǎng)像。(√)

      31、波譜儀是逐一接收元素的特征波長(zhǎng)進(jìn)行成分分析的。(√)

      四、名詞解釋

      1、景深與焦長(zhǎng):將由衍射和像差產(chǎn)生散焦斑的尺寸r0所允許的物平面軸向偏差定義為透鏡的景深Df,在一定分辨率下,具有透鏡景深范圍內(nèi)的試樣各部分的圖像都具有相同的清晰度。透鏡的焦深:將由衍射和像差產(chǎn)生散焦斑的尺寸r0所允許的像平面軸向偏差定義為透鏡的景深DL。

      2、選區(qū)衍射:

      3、Ariy 斑:當(dāng)從物點(diǎn)發(fā)出的光或電子通過(guò)玻璃透鏡或電磁透鏡成像時(shí),由于衍射效應(yīng),在像平面上不能形成一個(gè)理想的像點(diǎn),而是由具有一定直徑的中心亮斑和其周圍明暗相間的衍射環(huán)所組成的圓斑,稱為airy斑。它的強(qiáng)度主要集中在中心亮斑,周圍衍射環(huán)的強(qiáng)度很低。Airy斑的大小用第一暗環(huán)的直徑來(lái)衡量。

      4、俄歇電子:X射線或電子束激發(fā)固體中原子內(nèi)層電子使原子電離,此時(shí)原子(實(shí)際是離子)處于激發(fā)態(tài),將發(fā)生較外層電子向空位躍遷以降低原子能量的過(guò)程,此過(guò)程發(fā)射的電子。

      5、二次電子:

      6、有效放大倍數(shù):是把顯微鏡最大分辨率放大到人眼的分辨本領(lǐng)(0.2mm),讓人眼能分 辨的放大倍數(shù)。

      7、明場(chǎng)成像:

      只讓中心透射束穿過(guò)物鏡光欄形成的衍襯像稱為明場(chǎng)鏡。

      8、暗場(chǎng)成像:只讓某一衍射束通過(guò)物鏡光欄形成的衍襯像稱為暗場(chǎng)像。

      9、衍射襯度:由于樣品中的不同晶體或同一晶體中不同部位的位向差異導(dǎo)致產(chǎn)生衍射程度不同而在圖像上形成亮暗不同的區(qū)域差異,稱為衍射襯度。

      10、相位襯度:電子束在樣品中傳播,樣品中原子核和核外電子因庫(kù)倫場(chǎng)使電子波的相位發(fā)生改變,這種利用電子波位相的變化引起衍射強(qiáng)度不同而在圖像上形成亮暗不同的區(qū)域差異,稱為相位襯度。

      四、簡(jiǎn)答題

      1、X射線的本質(zhì)是什么?它產(chǎn)生的基本條件? 答: X射線的本質(zhì)是一種橫電磁波,具有波粒二象性。(1)產(chǎn)生自由電子的電子源;

      (2)設(shè)置自由電子撞擊陽(yáng)極靶;(3)高壓發(fā)生器;(4)高真空度。

      2、什么是二次電子,它有哪些主要特點(diǎn)?

      答:二次電子是指當(dāng)入射電子與原子核外電子相互作用時(shí),會(huì)使原子失去電子而變成離子,這種現(xiàn)象稱為電離,而這個(gè)脫離原子的電子稱為二次電子。

      主要特點(diǎn):對(duì)樣品表面敏感;空間分辨率高;信息收集效率高.3、實(shí)驗(yàn)中選擇X射線陽(yáng)極靶以及濾波片的原則是什么?

      答:選擇陽(yáng)極靶的原則:為避免樣品強(qiáng)烈吸收入射X射線產(chǎn)生熒光輻射,對(duì)分析結(jié)果產(chǎn)生干擾。必須根據(jù)所測(cè)樣品的化學(xué)成分選用不同靶材的X射線管,原則是:Z靶≤Z樣品+1,應(yīng)當(dāng)避免使用比樣品中的主元素的原子序數(shù)大2~6(尤其是2)的材料作靶材的X射線管。

      選擇濾波片的原則:濾波片的材料依靶的材料而定,常用靶材的濾波片選擇見(jiàn)表1-2,濾波片比靶材的原子序數(shù)小1~2,當(dāng) Z靶 ? 40 時(shí),Z濾 = Z靶-1

      當(dāng) Z靶 ? 40 時(shí),Z濾 = Z靶 – 2

      4、衍射線在空間的方位取決于什么?而衍射線的強(qiáng)度又取決于什么?

      答:衍射線在空間的方位主要取決于晶體的面間距,或者晶胞的大小。衍射線的強(qiáng)度主要取決于晶體中原子的種類和它們?cè)诰О械南鄬?duì)位置。

      5、試述獲取衍射花樣的三種基本方法及其用途。

      答:獲取衍射花樣的三種基本方法是勞埃法、旋轉(zhuǎn)晶體法和粉末法。

      勞埃法主要用于分析晶體的對(duì)稱性和進(jìn)行晶體定向;

      旋轉(zhuǎn)晶體法主要用于研究晶體結(jié)構(gòu);

      粉末法主要用于物相分析。

      6、簡(jiǎn)述布拉格公式2dHKLsinθ=λ中各參數(shù)的含義,以及該公式有哪些應(yīng)用?

      答: dHKL表示HKL晶面間距,θ角表示掠過(guò)角或布拉格角,即入射X射線或衍射線與面網(wǎng)間的夾角,λ表示入射X射線的波長(zhǎng)。該公式有二個(gè)方面用途:

      (1)已知晶體的d值。通過(guò)測(cè)量θ,求特征X射線的λ,并通過(guò)λ判斷產(chǎn)生特征X射線的元素。(2)已知入射X射線的波長(zhǎng),通過(guò)測(cè)量θ,求晶面間距。并通過(guò)晶面間距,測(cè)定晶體結(jié)構(gòu)或進(jìn)行物相分析。

      7、什么是俄歇電子,它在材料分析中有何作用?

      答:如果原子內(nèi)層電子能級(jí)躍遷過(guò)程中釋放出來(lái)的能量將核外另一電子打出,脫離原子變?yōu)槎坞娮?,這種二次電子叫做俄歇電子。

      俄歇電子是由試樣表面極有限的幾個(gè)原子層中發(fā)出的,這說(shuō)明俄歇電子信號(hào)適用于表層化學(xué)成分分析。

      8、波譜儀和能譜儀各有什么缺點(diǎn)?

      答:波譜儀的缺點(diǎn):波譜儀探測(cè)X射線的效率低,則其靈敏度低;波譜儀只能逐個(gè)測(cè)量每種元素的特征波長(zhǎng),所耗時(shí)間長(zhǎng);波譜儀的結(jié)構(gòu)復(fù)雜,含機(jī)械傳動(dòng)部分,導(dǎo)致穩(wěn)定性和重復(fù)性差;由于波譜儀需對(duì)X射線聚焦,則對(duì)試樣表面要求高,平滑光整;元素分析范圍有限制,Z=4~92。能譜儀的缺點(diǎn):分辨率低于波譜儀;只能分析Z>11的元素,限制了超輕元素X射線的測(cè)量;

      Si(Li)探頭必須在液氮冷卻低溫狀態(tài)下使用;定量分析誤差較大。

      9、物相定性分析的原理是什么?

      答: X射線在某種晶體上的衍射必然反映出帶有晶體特征的特定的衍射花樣(衍射位置θ、衍射強(qiáng)度I),而沒(méi)有兩種結(jié)晶物質(zhì)會(huì)給出完全相同的衍射花樣,所以我們才能根據(jù)衍射花樣與晶體結(jié)構(gòu)一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系,來(lái)確定某一物相。

      10、簡(jiǎn)述透射電鏡中照明系統(tǒng)的主要組成及其作用。

      答: 主要組成:電子槍、聚光鏡和相應(yīng)的平移對(duì)中及傾斜調(diào)節(jié)裝置組成。

      作用:提供一束亮度高、照明孔徑角小、平行度高、束斑小、束流穩(wěn)定的照明源。為滿足明場(chǎng)和暗場(chǎng)成像需要,照明束可在 2 °-3 °范圍內(nèi)傾斜。

      11、透射電鏡主要由幾大系統(tǒng)構(gòu)成? 各系統(tǒng)之間關(guān)系如何?

      答:四大系統(tǒng):電子光學(xué)系統(tǒng),真空系統(tǒng),供電控制系統(tǒng),附加儀器系統(tǒng)。其中電子光學(xué)系統(tǒng)是其核心。其他系統(tǒng)為輔助系統(tǒng)。

      12、透射電鏡中有哪些主要光闌? 分別安裝在什么位置? 其作用如何? 答:主要有三種光闌:

      ①聚光鏡光闌:在雙聚光鏡系統(tǒng)中,該光闌裝在第二聚光鏡下方。作用:限制

      照明孔徑角。

      ②物鏡光闌:安裝在物鏡后焦面。作用: 提高像襯度;減小孔徑角,從而減小

      像差;進(jìn)行暗場(chǎng)成像。

      ③選區(qū)光闌:放在物鏡的像平面位置。作用: 對(duì)樣品進(jìn)行微區(qū)衍射分析。

      13、掃描電鏡的分辨率受哪些因素影響? 用不同的信號(hào)成像時(shí),其分辨率有何不同? 所謂掃描電鏡的分辨率是指用何種信號(hào)成像時(shí)的分辨率?

      答:影響因素:電子束束斑大小,檢測(cè)信號(hào)類型,檢測(cè)部位原子序數(shù).SE和HE信號(hào)的分辨率最高,BE其次,X射線的最低.掃描電鏡的分辨率是指用SE和HE信號(hào)成像時(shí)的分辨率.14、什么是光電效應(yīng)?光電效應(yīng)在材料分析中有哪些用途?

      答:光電效應(yīng)是指:當(dāng)用 X射線轟擊物質(zhì)時(shí),若 X射線的能量大于物質(zhì)原子對(duì)其內(nèi)層電子的束縛力時(shí),入射X射線光子的能量就會(huì)被吸收,從而導(dǎo)致其內(nèi)層電子被激發(fā),產(chǎn)生光電子。材料分析中應(yīng)用光電效應(yīng)原理研制了光電子能譜儀和熒光光譜儀,對(duì)材料物質(zhì)的元素組成等進(jìn)行分析。

      15、掃面電鏡的像襯度原理是什么?像襯度的主要類型?

      答:(1)原理:主要是利用樣品表面微區(qū)特征(如形貌、原子序數(shù)或化學(xué)成分、晶體結(jié)構(gòu)或位向等)的差異,在電子束作用下產(chǎn)生不同強(qiáng)度的物理信號(hào),導(dǎo)致陰極射線管熒光屏上不同的區(qū)域不同的亮度差異,從而獲得具有一定襯度的圖像。

      (2)像襯度的主要類型:表面形貌襯度和原子序數(shù)襯度。

      16、簡(jiǎn)述透射電鏡直接樣品的制備過(guò)程。

      答:(1)初減薄,制備厚度約為100-200μm的薄片

      ;

      (2)從薄片上切取直徑為3mm的圓片;

      (3)預(yù)減薄,從圓片的一側(cè)或者兩側(cè)將圓片中心區(qū)域減薄至數(shù)μm ;(3)終減薄,主要有電解拋光和離子轟擊兩種方法。

      17、萃取復(fù)型可用來(lái)分析哪些組織結(jié)構(gòu)?得到什么信息?

      答:萃取復(fù)型可用來(lái)分析第二相粒子形狀、大小和分布以及第二相粒子物相和晶體結(jié)構(gòu)。在萃取復(fù)型的樣品上可以在觀察樣品基體組織形態(tài)的同時(shí),觀察第二相顆粒的大小、形狀及分布,對(duì)第二相粒子進(jìn)行電子衍射分析,還可以直接測(cè)定第二相的晶體結(jié)構(gòu)。

      18、X 射線學(xué)有幾個(gè)分支?每個(gè)分支的研究對(duì)象是什么?

      答:X 射線學(xué)分為三大分支:X 射線透射學(xué)、X 射線衍射學(xué)、X 射線光譜學(xué)。X 射線透射學(xué)的研究對(duì)象有人體,工件等,用它的強(qiáng)透射性為人體診斷傷病、用于探測(cè)工件內(nèi)部的缺陷等。X 射線衍射學(xué)是根據(jù)衍射花樣,在波長(zhǎng)已知的情況下測(cè)定晶體結(jié)構(gòu),研究與結(jié)構(gòu)和結(jié)構(gòu)變化的相關(guān)的各種問(wèn)題。X 射線光譜學(xué)是根據(jù)衍射花樣,在分光晶體結(jié)構(gòu)已知的情況下,測(cè)定各種物質(zhì)發(fā)出的X 射線的波長(zhǎng)和強(qiáng)度,從而研究物質(zhì)的原子結(jié)構(gòu)和成分。

      五、計(jì)算題

      1、.X 射線實(shí)驗(yàn)室用防護(hù)鉛屏厚度通常至少為lmm,試計(jì)算這種鉛屏對(duì)CuKα、MoKα輻射的透射系數(shù)各為多少?本題ρPb=11.34g cm-3, 對(duì)Cr Kα,查表得μm=585cm2g-1,對(duì)Mo Kα,查表得μm=141cm2g-1,解:穿透系數(shù) IH/IO=e-μmρH,其中μm:質(zhì)量吸收系數(shù)/cm2g-1,ρ:密度/g cm-3 H:厚度/cm,其穿透系數(shù) IH/IO=e-μmρH=e-585×11.34×0.1=7.82×e-289=1.13×10?7

      其穿透系數(shù) IH/IO=e-μmρH

      =e-141×11.34×0.1=3.62×e-70=1.352 ×10?12

      第九章到第十三章總結(jié)

      一、填空題

      1、熱重法是在程序控制下,測(cè)量物質(zhì)的質(zhì)量(或重量)與溫度關(guān)系的熱分析方法,主要使用的儀器是

      熱天平。

      2、現(xiàn)代熱分析儀大致由五個(gè)部分組成:程序控溫系統(tǒng)、測(cè)量系統(tǒng)、顯示系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)、操作和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)。程序控溫系統(tǒng)由爐子和控溫兩部分組成。其中測(cè)量系統(tǒng)是熱分析的核心部分。

      3、影響DTA曲線的因素包括三個(gè)方面: 操作方面的因素,樣品方面的因素,儀器方面的因素。

      4、材料結(jié)構(gòu)與性能的表征包括材料 成分、結(jié)構(gòu)、形貌 與 缺陷 等現(xiàn)代分析、測(cè)試技術(shù)以及有關(guān)理論的科學(xué)。

      5、材料成分和微觀結(jié)構(gòu)分析可以分為三個(gè)層次:化學(xué)成分分析、晶體結(jié)構(gòu)分析 和 顯微結(jié)構(gòu)分析

      6、差式掃描量熱法是在程序控制溫度下,測(cè)量輸入給樣品與參比物的 功率差

      與溫度之間的關(guān)系,目前常用的方法有

      功率補(bǔ)償式

      和 熱流式

      兩種。

      7、DSC圖譜的橫坐標(biāo)是 溫度或時(shí)間,縱坐標(biāo)是 熱量 ;而DTA圖譜的橫坐標(biāo)是 溫度或時(shí)間,縱坐標(biāo)是 溫差。

      8、差熱分析是在程序控制溫度下,測(cè)量樣品與 參比的基準(zhǔn)物質(zhì)(參比物)之間的 溫度差 與環(huán)境溫度關(guān)系的一種熱分析方法。

      二、判斷題

      1、核磁共振譜是檢測(cè)和記錄磁性核在外加磁場(chǎng)中能級(jí)之間轉(zhuǎn)變的技術(shù)。(√)

      2、在DTA的定量分析中,樣品量和升溫速率是影響差熱分析曲線測(cè)定主要的影響因素。(√)

      三、名詞解釋

      1、TA:熱分析的簡(jiǎn)稱,是指在程序控制溫度條件下,測(cè)量物質(zhì)物理性質(zhì)隨溫度變化的函數(shù)關(guān)系的技術(shù)。其基礎(chǔ)是物質(zhì)在加熱或冷卻過(guò)程中,隨著物質(zhì)物理狀態(tài)或化學(xué)狀態(tài)的變化,通

      常伴隨有相應(yīng)熱力學(xué)性質(zhì)或其他性質(zhì)的變化,通過(guò)對(duì)某些性質(zhì)(或參數(shù))的測(cè)定可以可以分析研究物質(zhì)的物理變化或化學(xué)變化過(guò)程。

      2、DTA:差熱分析的簡(jiǎn)稱,是指在程序控制溫度條件下,測(cè)量樣品與參比物的溫度差隨溫度或時(shí)間變化的函數(shù)關(guān)系的技術(shù)。

      3、DSC:差示掃描量熱法的簡(jiǎn)稱,指在程序控制溫度條件下,測(cè)量物質(zhì)(樣品)與參比物之間的功率差隨溫度或時(shí)間變化的函數(shù)關(guān)系的技術(shù)。

      4、TG:熱重分析的簡(jiǎn)稱,是指在程序控制溫度條件下,測(cè)量物質(zhì)的質(zhì)量與溫度關(guān)系的熱分析方法。

      第二篇:2016《材料現(xiàn)代分析測(cè)試方法》復(fù)習(xí)題

      《近代材料測(cè)試方法》復(fù)習(xí)題

      1. 材料微觀結(jié)構(gòu)和成分分析可以分為哪幾個(gè)層次?分別可以用什么方法分析?

      答:化學(xué)成分分析、晶體結(jié)構(gòu)分析和顯微結(jié)構(gòu)分析

      化學(xué)成分分析——常規(guī)方法(平均成分):濕化學(xué)法、光譜分析法

      ——先進(jìn)方法(種類、濃度、價(jià)態(tài)、分布):X射線熒光光譜、電子探針、光電子能譜、俄歇電子能譜 晶體結(jié)構(gòu)分析:X射線衍射、電子衍射

      顯微結(jié)構(gòu)分析:光學(xué)顯微鏡、透射電子顯微鏡、掃面電子顯微鏡、掃面隧道顯微鏡、原

      子力顯微鏡、場(chǎng)離子顯微鏡

      2. X射線與物質(zhì)相互作用有哪些現(xiàn)象和規(guī)律?利用這些現(xiàn)象和規(guī)律可以進(jìn)行哪些科學(xué)研究工作,有哪些實(shí)際應(yīng)用?

      答: 除貫穿部分的光束外,射線能量損失在與物質(zhì)作用過(guò)程之中,基本上可以歸為兩大類:一部分可能變成次級(jí)或更高次的X射線,即所謂熒光X射線,同時(shí),激發(fā)出光電子或俄歇電子。另一部分消耗在X射線的散射之中,包括相干散射和非相干散射。此外,它還能變成熱量逸出。

      (1)現(xiàn)象/現(xiàn)象:散射X射線(想干、非相干)、熒光X射線、透射X射線、俄歇效

      應(yīng)、光電子、熱能

      (2)①光電效應(yīng):當(dāng)入射X射線光子能量等于某一閾值,可擊出原子內(nèi)層電子,產(chǎn) 生光電效應(yīng)。

      應(yīng)用:光電效應(yīng)產(chǎn)生光電子,是X射線光電子能譜分析的技術(shù)基礎(chǔ)。光電效應(yīng)

      使原子產(chǎn)生空位后的退激發(fā)過(guò)程產(chǎn)生俄歇電子或X射線熒光輻射是 X射線激發(fā)俄歇能譜分析和X射線熒光分析方法的技術(shù)基礎(chǔ)。

      ②二次特征輻射(X射線熒光輻射):當(dāng)高能X射線光子擊出被照射物質(zhì)原子的 內(nèi)層電子后,較外層電子填其空位而產(chǎn)生了次生特征X射線(稱二次特征輻射)。

      應(yīng)用:X射線被物質(zhì)散射時(shí),產(chǎn)生兩種現(xiàn)象:相干散射和非相干散射。相干散射

      是X射線衍射分析方法的基礎(chǔ)。

      3. 電子與物質(zhì)相互作用有哪些現(xiàn)象和規(guī)律?利用這些現(xiàn)象和規(guī)律可以進(jìn)行哪些科學(xué)研究工作,有哪些實(shí)際應(yīng)用?

      答:當(dāng)電子束入射到固體樣品時(shí),入射電子和樣品物質(zhì)將發(fā)生強(qiáng)烈的相互作用,發(fā)生彈性散射和非彈性散射。伴隨著散射過(guò)程,相互作用的區(qū)域中將產(chǎn)生多種與樣品性質(zhì)有關(guān)的物理信息。

      (1)現(xiàn)象/規(guī)律:二次電子、背散射電子、吸收電子、透射電子、俄歇電子、特征X射

      (2)獲得不同的顯微圖像或有關(guān)試樣化學(xué)成分和電子結(jié)構(gòu)的譜學(xué)信息 4. 光電效應(yīng)、熒光輻射、特征輻射、俄歇效應(yīng),熒光產(chǎn)率與俄歇電子產(chǎn)率。特征X射線產(chǎn)生機(jī)理。

      光電效應(yīng):當(dāng)入射X射線光子能量等于某一閾值,可擊出原子內(nèi)層電子,產(chǎn)生光電效應(yīng)。熒光輻射:被打掉了內(nèi)層電子的受激原子,將發(fā)生外層電子向內(nèi)層躍遷的過(guò)程,同時(shí)輻射出

      波長(zhǎng)嚴(yán)格一定的特征X射線。這種利用X射線激發(fā)而產(chǎn)生的特征輻射為二次特

      征輻射,也稱為熒光輻射。特征輻射:

      俄歇效應(yīng):原子K層電子被擊出,L層電子向K層躍遷,其能量差被鄰近電子或較外層電

      子所吸收,使之受激發(fā)而成為自由電子。這種過(guò)程就是俄歇效應(yīng),這個(gè)自由電子

      就稱為俄歇電子。

      熒光產(chǎn)率:激發(fā)態(tài)分子中通過(guò)發(fā)射熒光而回到基態(tài)的分子占全部激發(fā)態(tài)分子的分?jǐn)?shù)。

      俄歇電子產(chǎn)率:

      5. 拉曼光譜分析的基本原理及應(yīng)用。什么斯托克斯線和反斯托克斯線?什么是拉曼位移?(振動(dòng)能級(jí))

      原理:光照射到物質(zhì)上發(fā)生彈性散射和非彈性散射.彈性散射的散射光是與激發(fā)光波長(zhǎng)相同的成分,非彈性散射的散射光有比激發(fā)光波長(zhǎng)長(zhǎng)的和短的成分, 統(tǒng)稱為拉曼效應(yīng)。

      應(yīng)用:拉曼光譜對(duì)研究物質(zhì)的骨架特征特別有效。紅外和拉曼分析法結(jié)合,可更完整地研究分子的振動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí),從而更可靠地鑒定分子結(jié)構(gòu)。可以進(jìn)行半導(dǎo)體、陶瓷等無(wú)機(jī)材料的分析。是合成高分子、生物大分子分析的重要手段。在燃燒物和大氣污染物分析等方面有重要應(yīng)用。有兩種情況:

      (1)分子處于基態(tài)振動(dòng)能級(jí),與光子碰撞后,從光子中獲取能量達(dá)到較高的能級(jí)。若與此相應(yīng)的躍遷能級(jí)有關(guān)的頻率是ν1,那么分子從低能級(jí)躍到高能級(jí)從入射光中得到的能量為hν1,而散射光子的能量要降低到hν0-hν1,頻率降低為ν0-ν1。

      (2)分子處于振動(dòng)的激發(fā)態(tài)上,并且在與光子相碰時(shí)可以把hν1的能量傳給光子,形成一條能量為hν0+hν1和頻率為ν0+ν1的譜線。

      通常把低于入射光頻的散射線ν0-ν1稱為斯托克斯線。高于入射光頻的散射線ν0+ν1稱為反斯托克斯線。

      6. X射線熒光光譜定性、定量分析的基本原理及應(yīng)用(適用),什么是基本體吸收效應(yīng)?如何消除? 定性分析: 在譜儀上配上計(jì)算機(jī),可以直接給出試樣內(nèi)所有元素的名稱。

      1、確定某元素的存在,除要找到易識(shí)別的某一強(qiáng)線外,最好找出另一條強(qiáng)度高的線條,以免誤認(rèn)。

      2、區(qū)分哪些射線是從試樣內(nèi)激發(fā)的,那哪射線是靶給出的,靶還可能有雜質(zhì),也會(huì)發(fā)出X射線。

      3、當(dāng)X射線照射到輕元素上時(shí),由于康普頓效應(yīng),還會(huì)出現(xiàn)非相干散射。可通過(guò)相應(yīng)的實(shí)驗(yàn)將它們識(shí)別。

      定量分析:如果沒(méi)有影響射線強(qiáng)度的因素,試樣內(nèi)元素發(fā)出的熒光射線的強(qiáng)度與該元素在試樣內(nèi)的原子分?jǐn)?shù)成正比。但是實(shí)際上存在影響熒光X射線強(qiáng)度的因素,這些因素叫做基體吸收效應(yīng)和增強(qiáng)效應(yīng)。

      元素A的熒光X射線強(qiáng)度不但與元素A的含量有關(guān),還與試樣內(nèi)其他元素的種類和含量有關(guān)。當(dāng)A元素的特征x射線能量高于B元素的吸收限(或相反)時(shí),則A元素的特征X射線也可以激發(fā)B元素,于是產(chǎn)生兩種影響,其中A元素的特征x熒光照射量率削弱的為吸收效應(yīng)。吸收包括兩部分:一次X射線進(jìn)入試樣時(shí)所受的吸收和熒光X射線從試樣射出時(shí)所受的吸收。

      實(shí)驗(yàn)校正法:外標(biāo)法、內(nèi)標(biāo)法、散射線標(biāo)準(zhǔn)法,增量法 數(shù)學(xué)校正法:經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法、基本參數(shù)法

      7. 波譜儀與能譜儀的展譜原理及特點(diǎn)。(特征X射線檢測(cè))

      波譜儀:利用X射線的波長(zhǎng)不同來(lái)展譜。1)能量分辨率高——突出的優(yōu)點(diǎn),分辨率為5eV 2)峰背比高:這使WDS所能檢測(cè)的元素的最低濃度是EDS的1/10,大約可檢測(cè)100 ppm。3)采集效率低,分析速度慢。

      4)由于經(jīng)晶體衍射后,X射線強(qiáng)度損失很大,其檢測(cè)效率低。

      5)波譜儀難以在低束流和低激發(fā)強(qiáng)度下使用,因此其空間分辨率低且難與高分辨率的電鏡(冷場(chǎng)場(chǎng)發(fā)射電鏡等)配合使用。能譜儀:利用X射線的能量不同來(lái)展譜。優(yōu)點(diǎn):

      1)分析速度快:同時(shí)接收和檢測(cè)所有信號(hào),在幾分鐘內(nèi)分析所有元素。

      2)靈敏度高:收集立體角大,不用聚焦,探頭可靠近試樣,不經(jīng)衍射,強(qiáng)度沒(méi)有損失??稍诘褪鳎?0-11 A)條件下工作,有利于提高空間分辨率。

      3)譜線重復(fù)性好:沒(méi)有運(yùn)動(dòng)部件,穩(wěn)定性好,沒(méi)有聚焦要求,所以譜線峰值位置的重復(fù)性好且不存在失焦問(wèn)題,適合于比較粗糙表面的分析。缺點(diǎn):

      1)能量分辨率低:在130 eV左右,比WDS的5eV低得多,譜線的重疊現(xiàn)象嚴(yán)重。2)峰背比低:探頭直接對(duì)著樣品,在強(qiáng)度提高的同時(shí),背底也相應(yīng)提高。EDS所能檢測(cè)的元素的最低濃度是WDS的十倍,最低大約是1000 ppm。

      3)工作條件要求嚴(yán)格:探頭必須保持在液氦冷卻的低溫狀態(tài),即使是在不工作時(shí)也不能中斷,否則導(dǎo)致探頭功能下降甚至失效。

      8. XPS的分析原理是什么?(什么效應(yīng))

      光電效應(yīng):在外界光的作用下,物體(主要指固體)中的原子吸收光子的能量,使其某一層的電子擺脫其所受的束縛,在物體中運(yùn)動(dòng),直到這些電子到達(dá)表面。如果能量足夠、方向合適,便可離開(kāi)物體的表面而逸出,成為光電子。光電子動(dòng)能為:Ec =hv-EB-(-w)

      9. XPS的應(yīng)用及特點(diǎn),XPS中的化學(xué)位移有什么用?

      分析表面化學(xué)元素的組成、化學(xué)態(tài)及其分布,特別是原子的價(jià)態(tài)、表面原子的電子密度、能級(jí)結(jié)構(gòu)。

      最大特點(diǎn)是可以獲得豐富的化學(xué)信息,它對(duì)樣品的損傷是最輕微的,定量也是最好的。它的缺點(diǎn)是由于X射線不易聚焦,因而照射面積大,不適于微區(qū)分析。

      (1)可以分析除H和He以外的所有元素,可以直接得到電子能級(jí)結(jié)構(gòu)的信息。(2)它提供有關(guān)化學(xué)鍵方面的信息,即直接測(cè)量?jī)r(jià)層電子及內(nèi)層電子軌道能級(jí),而相鄰元素的同種能級(jí)的譜線相隔較遠(yuǎn),互相干擾少,元素定性的標(biāo)志性強(qiáng)。

      (3)是一種無(wú)損分析。

      (4)是一種高靈敏超微量表面分析技術(shù)。分析所需試樣約10-8g即可,絕對(duì)靈敏度高達(dá)10-18g,樣品分析深度約2 nm。

      由于原子處于不同的化學(xué)環(huán)境里而引起的結(jié)合能位移稱為化學(xué)位移?;瘜W(xué)位移的量值與價(jià)電子所處氧化態(tài)的程度和數(shù)目有關(guān)。氧化態(tài)愈高,則化學(xué)位移愈大。

      10. 紫外光電子能譜原理及應(yīng)用。(激發(fā)什么電子?)

      紫外光電子能譜儀與X射線光電子能譜儀非常相似,只需把激發(fā)源變換一下即可。真空紫外光源只能激發(fā)樣品中原子、分子的外層價(jià)電子或固體的價(jià)帶電子。測(cè)量固體表面價(jià)電子和價(jià)帶分布、氣體分子與固體表面的吸附、以及化合物的化學(xué)鍵、研究振動(dòng)結(jié)構(gòu)。

      11. 俄歇電子能譜分析的原理、應(yīng)用及特點(diǎn)。(俄歇電子與什么有關(guān)?)

      原理:俄歇效應(yīng)。俄歇電子的能量與參與俄歇過(guò)程的三個(gè)能級(jí)能量有關(guān)。能量是特定的,與入射X射線波長(zhǎng)無(wú)關(guān),僅與產(chǎn)生俄歇效應(yīng)的物質(zhì)的元素種類有關(guān)。應(yīng)用:可以做物體表面的化學(xué)分析、表面吸附分析、斷面的成分分析。1)材料表面偏析、表面雜質(zhì)分布、晶界元素分析; 2)金屬、半導(dǎo)體、復(fù)合材料等界面研究; 3)薄膜、多層膜生長(zhǎng)機(jī)理的研究;

      4)表面化學(xué)過(guò)程(如腐蝕、鈍化、催化、晶間腐蝕、氫脆、氧化等)研究; 5)集成電路摻雜的三維微區(qū)分析; 6)固體表面吸附、清潔度、沾染物鑒定等。特點(diǎn):

      1)作為固體表面分析法,其信息深度取決于俄歇電子逸出深度(電子平均自由程)。對(duì)于能量為50eV-2keV范圍內(nèi)的俄歇電子,逸出深度為0.4-2nm,深度分辨率約為l nm,,橫向分辨率取決于入射束斑大小。

      2)可分析除H、He以外的各種元素。

      3)對(duì)于輕元素C、O、N、S、P等有較高的分析靈敏度。4)可進(jìn)行成分的深度剖析或薄膜及界面分析。

      12. 掃描隧道顯微鏡基本原理及特點(diǎn)、工作模式。(量子隧道效應(yīng),如何掃描?恒高、恒電流工作模式,隧道譜應(yīng)用)

      基本原理:尖銳金屬探針在樣品表面掃描,利用針尖-樣品間納米間隙的量子隧道效應(yīng)引起隧道電流與間隙大小呈指數(shù)關(guān)系,獲得原子級(jí)樣品表面形貌特征圖象。

      量子隧道效應(yīng):當(dāng)微觀粒子的總能量小于勢(shì)壘高度時(shí),該粒子仍能穿越這一勢(shì)壘。金屬探針安置在三個(gè)相互垂直的壓電陶瓷(Px、Py、Pz)架上,當(dāng)在壓電陶瓷器件上施加一定電壓時(shí),由于壓電陶瓷器件產(chǎn)生變形,便可驅(qū)動(dòng)針尖在樣品表面實(shí)現(xiàn)三維掃描;

      隧道譜應(yīng)用:可對(duì)樣品表面顯微圖像作逐點(diǎn)分析,以獲得表面原子的電子結(jié)構(gòu)(電子態(tài))等信息。在樣品表面選一定點(diǎn),并固定針尖與樣品間的距離,連續(xù)改變偏壓值從負(fù)幾V~正幾V,同時(shí)測(cè)量隧道電流,便可獲得隧道電流隨偏壓的變化曲線,即掃描隧道譜。特點(diǎn):

      1)STM結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單。

      2)其實(shí)驗(yàn)可在多種環(huán)境中進(jìn)行:如大氣、超高真空或液體(包括在絕緣液體和電解液中)。3)工作溫度范圍較寬,可在mK到1100K范圍內(nèi)變化。這是目前任何一種顯微技術(shù)都不能同時(shí)做到的。

      4)分辨率高,掃描隧道顯微鏡在水平和垂直分辨率可以分別達(dá)到0.1nm和0.01nm。因此可直接觀察到材料表面的單個(gè)原子和原子在材料表面上的三維結(jié)構(gòu)圖像。

      5)在觀測(cè)材料表面結(jié)構(gòu)的同時(shí),可得到材料表面的掃描隧道譜(STS),從而可以研究材料表面化學(xué)結(jié)構(gòu)和電子狀態(tài)。

      6)不能探測(cè)深層信息,無(wú)法直接觀察絕緣體。工作模式:

      恒電流模式:掃描時(shí),在偏壓不變的情況下,始終保持隧道電流恒定。適于觀察表面起伏較大的樣品。

      恒高模式:始終控制針尖在樣品表面某一水平高度上掃描,隨樣品表面高低起伏,隧道電流不斷變化。適于觀察表面起伏不大的樣品。

      13. 原子力顯微鏡工作原理、成像模式及應(yīng)用。(微小力測(cè)量如何實(shí)現(xiàn)?納米量級(jí)力學(xué)性能測(cè)量)

      原理:利用微小探針與待測(cè)物之間交互作用力,來(lái)呈現(xiàn)待測(cè)物表面的物理特性。成像模式:

      應(yīng)用:已成為表面科學(xué)研究的重要手段。(1)幾十到幾百納米尺度的結(jié)構(gòu)特征研究(2)原子分辨率下的結(jié)構(gòu)特征研究(3)在液體環(huán)境下成像對(duì)材料進(jìn)行研究

      (4)測(cè)量、分析表面納米級(jí)力學(xué)性能(吸附力、彈性、塑性、硬度、粘著力、摩擦力等):通過(guò)測(cè)量微懸臂自由端在針尖接近和離開(kāi)樣品過(guò)程中的變形(偏轉(zhuǎn)),對(duì)應(yīng)一系列針尖不同位置和微懸臂形變量作圖而得到力曲線。當(dāng)針尖被壓入表面時(shí),那點(diǎn)曲線斜率可以決定材料的彈性模量,從力曲線上也能很好的反映出所測(cè)樣品的彈性、塑性等性質(zhì)。(5)實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品表面納米加工與改性

      14. 什么是離子探針?離子探針的特點(diǎn)及應(yīng)用。

      離子探針微區(qū)分析儀,簡(jiǎn)稱離子探針。

      離子探針的原理是利用細(xì)小的高能(能量為1~20keV)離子束照射在樣品表面,激發(fā)出正、負(fù)離子(二次離子);利用質(zhì)譜儀對(duì)這些離子進(jìn)行分析,測(cè)量離子的質(zhì)荷比(m/e)和強(qiáng)度,確定固體表面所含元素的種類及其含量。特點(diǎn):

      1)可作同位素分析。

      2)可對(duì)幾個(gè)原子層深度的極薄表層進(jìn)行成分分析。利用離子束濺射逐層剝離,得到三維的成分信息。

      3)一次離子束斑直徑縮小至微米量級(jí)時(shí),可拍攝特定二次離子的掃描圖像。并可探測(cè)極微量元素(50ppm)。

      4)可高靈敏度地分析包括氫、鋰在內(nèi)的輕元素,特別是可分析氫。

      15. 場(chǎng)離子顯微鏡的成像原理(臺(tái)階邊緣的原子)。

      1)隧道效應(yīng):若氣體原子的外層電子能態(tài)符合樣品中原子的空能級(jí)能態(tài),該電子將有較高的幾率通過(guò)“隧道效應(yīng)”而穿過(guò)表面位壘進(jìn)入樣品,從而使成像氣體原子變?yōu)檎x子——場(chǎng)致電離。

      2)導(dǎo)體表面電場(chǎng)與其曲率成正比:E≈U/5r,相同的電壓加上相同的導(dǎo)體,曲率越大,也就是越尖,導(dǎo)體上的電荷越密集,產(chǎn)生的電場(chǎng)越強(qiáng)。

      3)場(chǎng)離化原理:當(dāng)成像氣體進(jìn)入容器后,受到自身動(dòng)能的驅(qū)使會(huì)有一部分達(dá)到陽(yáng)極附近,在極高的電位梯度作用下氣體原子發(fā)生極化,使中性原子的正、負(fù)電荷中心分離而成為一個(gè)電偶極子。

      16. DTA的基本原理,DTA在材料研究中有什么用處?(定量?比熱?)

      基本原理:當(dāng)試樣發(fā)生任何物理或化學(xué)變化時(shí),所釋放或吸收的熱量使樣品溫度高于或低于參比物的溫度,從而相應(yīng)地在差熱曲線上得到放熱或吸熱峰; 應(yīng)用:

      1)如果試樣在升溫過(guò)程中熱容有變化,則基線ΔTa就要移動(dòng),因此從DTA曲線便可知比熱發(fā)生急劇變化的溫度,這個(gè)方法被用于測(cè)定玻璃化轉(zhuǎn)變溫度; 2)合金狀態(tài)變化的臨界點(diǎn)及固態(tài)相變點(diǎn)都可用差熱分析法測(cè)定; 3)可以定量分析玻璃和陶瓷相態(tài)結(jié)構(gòu)的變化; 4)被廣泛地用于包括非晶在內(nèi)的固體相變動(dòng)力學(xué)研究; 5)可以用于研究凝膠材料燒結(jié)進(jìn)程;

      17. DSC的基本原理及應(yīng)用。(縱坐標(biāo)是什么?)

      差示掃描量熱法(DSC)基本原理:根據(jù)測(cè)量方法的不同,有兩種DSC法,即功率補(bǔ)償式差示量熱法和熱流式差示量熱法。功率補(bǔ)償式差示量熱法:

      1)試樣和參比物具有獨(dú)立的加熱器和傳感器,儀器由兩條控制電路進(jìn)行監(jiān)控,一條控制溫度,使樣品和參比物在預(yù)定的速率下升溫或降溫;另一條用于補(bǔ)償樣品和參比物之間所產(chǎn)生的溫差,通過(guò)功率補(bǔ)償電路使樣品與參比物的溫度保持相同;

      2)功率補(bǔ)償放大器自動(dòng)調(diào)節(jié)補(bǔ)償加熱絲的電流,使試樣與參比物的溫度始終維持相同; 3)只要記錄試樣放熱速度隨T(或t)的變化,就可獲得DSC曲線??v坐標(biāo)代表試樣放熱或吸熱的速度,橫坐標(biāo)是溫度T(或時(shí)間t)。

      應(yīng)用:1)樣品焓變的測(cè)定;2)樣品比熱的測(cè)定;3)研究合金的有序-無(wú)序轉(zhuǎn)變

      18. 影響DTA和DSC曲線形態(tài)的因素主要有哪些?(加熱速度,樣品比熱,氣氛)

      影響DTA(差熱分析)曲線形態(tài)的因素:實(shí)驗(yàn)條件、儀器因素、試樣因素等; 實(shí)驗(yàn)條件:

      ① 升溫速率:程序升溫速率主要影響DTA曲線的峰位和峰形,升溫速率越大,峰位越向高溫方向遷移以及峰形越陡;

      ②不同性質(zhì)的氣氛如氧化性、還原性和惰性氣氛對(duì)DTA曲線的影響很大,有些場(chǎng)合可能會(huì)得到截然不同的結(jié)果;

      ③ 參比物:參比物與樣品在用量、裝填、密度、粒度、比熱及熱傳導(dǎo)等方面應(yīng)盡可能相近,否則可能出現(xiàn)基線偏移、彎曲,甚至造成緩慢變化的假峰。

      影響DSC(量熱分析)曲線形態(tài)的因素:實(shí)驗(yàn)條件、儀器因素、試樣因素等; 實(shí)驗(yàn)條件:

      ① 升溫速率:一般升溫速率越大,峰溫越高、峰形越大和越尖銳,而基線漂移大,因而一般采用10℃/min;

      ② 氣氛對(duì)DSC定量分析中峰溫和熱焓值的影響是很大的。

      ③ 參比物:參比物的影響與DTA相同。

      19. 熱重分析應(yīng)用?

      1)主要研究在空氣中或惰性氣體中材料的熱穩(wěn)定性、熱分解作用和氧化降解等化學(xué)變化; 2)還廣泛用于研究涉及質(zhì)量變化的所有物理過(guò)程,如測(cè)定水分、揮發(fā)物和殘?jiān)?,吸附、吸收和解吸,氣化速度和氣化熱,升華速度和升華熱;

      3)可以研究固相反應(yīng),縮聚聚合物的固化程度,有填料的聚合物或共混物的組成; 4)以及利用特征熱譜圖作鑒定等。

      20. 什么是穆斯堡爾效應(yīng)?穆斯堡爾譜的應(yīng)用。(橫坐標(biāo)?低溫?)

      無(wú)反沖核γ射線發(fā)射和共振吸收現(xiàn)象稱為穆斯堡爾效應(yīng):若要產(chǎn)生穆斯堡爾效應(yīng),反沖能量ER最好趨向于零;大多數(shù)核只有在低溫下才能有明顯的穆斯堡爾效應(yīng); 應(yīng)用:

      1)可用于測(cè)定礦石、合金和廢物中的總含鐵量和總含錫量; 2)可用于研究碳鋼淬火組織、淬火鋼的回火、固溶體分解;

      3)可以用于判斷各種磁性化合物結(jié)構(gòu)的有效手段(可用于測(cè)定反鐵磁性的奈爾點(diǎn)、居里點(diǎn)和其它各種類型的磁轉(zhuǎn)變臨界點(diǎn);也可用于測(cè)定易磁化軸,研究磁性材料中的非磁性相);4)可用于研究包括紅血蛋白、肌紅蛋白、氧化酶、過(guò)氧化酶、鐵氧還原蛋白和細(xì)胞色素等范圍極廣的含鐵蛋白質(zhì)的結(jié)構(gòu)和反應(yīng)機(jī)理研究。

      21. 產(chǎn)生衍射的必要條件(布拉格方程)及充分條件。(衍射角由什么決定?幾何關(guān)系)

      必要條件: 1)滿足布拉格方程 2dsi?n?n?

      2)能夠被晶體衍射的X射線的波長(zhǎng)必須小于或等于參加反射的衍射面中最大面間距的二倍;

      ??2d

      充分條件:

      1)衍射角:由晶胞形狀和大小確定

      22. 影響衍射強(qiáng)度的因素。

      1)晶胞中原子的種類、數(shù)量和位置; 2)晶體結(jié)構(gòu)、晶粒大小、晶粒數(shù)目; 3)試樣對(duì)X射線的吸收; 4)衍射晶面的數(shù)目; 5)衍射線的位置; 6)溫度因子;

      23. 物相定性分析、定量分析的原理。(強(qiáng)度與什么有關(guān)?正比含量嗎?如何校正基體吸收系數(shù)變化對(duì)強(qiáng)度的影響?)

      物相定性分析:每種結(jié)晶物質(zhì)都有其特定的結(jié)構(gòu)參數(shù),包括點(diǎn)陣類型、單胞大小、單胞中原子(離子或分子)的數(shù)目及其位置等等,而這些參數(shù)在X射線衍射花樣中均有所反映;某種物質(zhì)的多晶體衍射線條的數(shù)目、位置以及強(qiáng)度,是該種物質(zhì)的特征,因而可以成為鑒別物相的標(biāo)志。

      物相定量分析原理:各相衍射線的強(qiáng)度,隨該相含量的增加而提高;由于試樣對(duì)X射線的吸收,使得“強(qiáng)度”并不正比于“含量”,而須加以修正。

      1)采用單線條法(外標(biāo)法):混合樣中j相某線與純j相同一根線強(qiáng)度之比,等于j相的重量百分?jǐn)?shù);

      2)采用內(nèi)標(biāo)法:將一種標(biāo)準(zhǔn)物摻入待測(cè)樣中作為內(nèi)標(biāo),并事先繪制定標(biāo)曲線。3)采用K值法及參比強(qiáng)度法:它與傳統(tǒng)的內(nèi)標(biāo)法相比,不用繪制定標(biāo)曲線;

      4)采用直接對(duì)比法:不向樣品中加入任何物質(zhì)而直接利用樣品中各相的強(qiáng)度比值實(shí)現(xiàn)物相定量的方法。

      24. 晶粒大小與X射線衍射線條寬度的關(guān)系。

      K?

      Bcos?德拜-謝樂(lè)公式: D?D為晶粒垂直于晶面方向的平均厚度、B為實(shí)測(cè)樣品衍射峰半高寬度、θ為衍射角、γ為X射線波長(zhǎng)

      晶粒的細(xì)化能夠引起X射線衍射線條的寬化; 25. 內(nèi)應(yīng)力的分類及在衍射圖譜上的反映。

      第一類:在物體較大范圍(宏觀體積)內(nèi)存在并平衡的內(nèi)應(yīng)力,此類應(yīng)力的釋放,會(huì)使物體的宏觀體積或形狀發(fā)生變化。第一類內(nèi)應(yīng)力又稱“宏觀應(yīng)力”或“殘余應(yīng)力”。宏觀應(yīng)力使衍射線條位移。

      第二類:在數(shù)個(gè)晶粒范圍內(nèi)存在并平衡的內(nèi)應(yīng)力,一般能使衍射線條變寬,但有時(shí)亦會(huì)引起線條位移。

      第三類:在若干個(gè)原子范圍內(nèi)存在并平衡的內(nèi)應(yīng)力,如各種晶體缺陷(空位、間隙原子、位錯(cuò)等)周圍的應(yīng)力場(chǎng)、點(diǎn)陣畸變等,此類應(yīng)力的存在使衍射強(qiáng)度降低。

      26. 掃描電鏡二次電子像與背散射電子像。(應(yīng)用及特點(diǎn))

      1.二次電子像(SEI):

      1)特點(diǎn):圖像分辨率比較高;二次電子信號(hào)強(qiáng)度與原子序數(shù)沒(méi)有明確的關(guān)系,僅對(duì)微區(qū)刻面相對(duì)于入射電子束的角度十分敏感;二次電子能量較低,其運(yùn)動(dòng)軌跡極易受電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用從而發(fā)生改變,不易形成陰影;二次電子信號(hào)特別適用于顯示形貌襯度,用于斷口檢測(cè)和各種材料表面形貌特征觀察;SE本身對(duì)原子序數(shù)不敏感,但其產(chǎn)額隨(BSE產(chǎn)額)增大而略有上升;SE能反映出表面薄層中的成分變化;通常的SE像就是形貌襯度像

      應(yīng)用:SE研究樣品表面形貌最有用的工具;SE也可以對(duì)磁性材料和半導(dǎo)體材料進(jìn)行相關(guān)的研究

      2.背散射電子像(BSEI):

      1)特點(diǎn):樣品表面平均原子序數(shù)大的微區(qū),背散射電子強(qiáng)度較高,而吸收電子強(qiáng)度較低,形成成分襯度;樣品表面不同的傾斜角會(huì)引起B(yǎng)SE數(shù)量的不同,樣品表面的形貌對(duì)其也有一定的影響;傾角一定,高度突變,背散射電子發(fā)射的數(shù)量也會(huì)改變;背散射電子能量高,離開(kāi)樣品后沿直線軌跡運(yùn)動(dòng);樣品表面各個(gè)微區(qū)相對(duì)于探測(cè)器的方位不同,使收集到的背散射電子數(shù)目不同;檢測(cè)到的信號(hào)強(qiáng)度遠(yuǎn)低于二次電子,粗糙表面的原子序數(shù)襯度往往被形貌襯度所掩蓋。

      應(yīng)用:背散射電子像襯度應(yīng)用最廣泛的是成分襯度像,與SE形貌像(或BSE形貌相)相配合,可以方便地獲得元素和成分不同的組成相分布狀態(tài)。

      27. 掃描電鏡圖像襯度(形貌襯度、原子序數(shù)襯度)。(產(chǎn)額)

      1)表面形貌襯度;電子束在試樣上掃描時(shí)任何兩點(diǎn)的形貌差別表現(xiàn)為信號(hào)強(qiáng)度的差別,從而在圖像中顯示形貌襯度。SE形貌襯度像的一大特點(diǎn)是極富立體感。原理:利用對(duì)試樣表面形貌變化敏感的物理信號(hào)作為顯像管的調(diào)制信號(hào),可以得到形貌襯度圖像。

      應(yīng)用:二次電子和背散射電子信號(hào)強(qiáng)度是試樣表面傾角的函數(shù),均可用形成樣品表面形貌襯度。

      SE的產(chǎn)額隨樣品各部位傾斜角θ(電子束入射角)的不同而變化

      2)原子序數(shù)襯度:原子序數(shù)襯度是試樣表面物質(zhì)原子序數(shù)(化學(xué)成分)差別而形成的襯度。原理:利用對(duì)試樣表面原子序數(shù)(或化學(xué)成分)變化敏感的物理信號(hào)作為顯像管的調(diào)制信號(hào),可以得到原子序數(shù)襯度圖像。

      應(yīng)用:背散射電子像、吸收電子像的襯度都含有原子序數(shù)襯度,而特征X射線像的襯度就是原子序數(shù)襯度。

      28. 什么是電子探針?電子探針的原理、特點(diǎn)及工作方式。(檢測(cè)的信號(hào))

      電子探針X射線顯微分析儀是一種微區(qū)成分分析的儀器。檢測(cè)的信號(hào)是特征X射線。利用電子束照射在樣品表面,激發(fā)出正、負(fù)離子(二次離子),用X射線分析器進(jìn)行分析。特征X射線的波長(zhǎng)(能量)——確定待測(cè)元素;特征X射線強(qiáng)度——確定元素的含量。

      第三篇:管理學(xué)復(fù)習(xí)題部分答案

      四、簡(jiǎn)答

      1、為什么說(shuō)“管理既是一門科學(xué),又是一門藝術(shù)”?

      管理是一門科學(xué)是指經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期的發(fā)展過(guò)程,管理知識(shí)逐漸系統(tǒng)化,并且形成了一套行之有效的管理方法。實(shí)踐證明這些理論和方法可以指導(dǎo)實(shí)踐。管理是一門藝術(shù)是指管理人員在管理實(shí)踐中,既要運(yùn)用管理知識(shí),又要發(fā)揮創(chuàng)造性。正確認(rèn)識(shí)管理既是一門科學(xué)又是一門藝術(shù),有助于有效地開(kāi)展管理活動(dòng)。

      4、為什么選擇活動(dòng)方案的原則是滿意原則而非最優(yōu)原則?

      答:最優(yōu)決策要求:決策者了解與組織活動(dòng)有關(guān)的全部信息。決策者能正確辨識(shí)全部信息的價(jià)值并能據(jù)此制定出沒(méi)有疏漏的行動(dòng)方案。決策者能夠準(zhǔn)確計(jì)算出每個(gè)方案在未來(lái)的執(zhí)行結(jié)果。顯然,這些條件難以具備。因此,在決策活動(dòng)中,在方案數(shù)量有限、執(zhí)行結(jié)果不確定的條件下,人們難以做出最優(yōu)選擇,只能根據(jù)已知的全部條件,加上人們的主觀判斷,做出相對(duì)滿意的選擇。

      5、事業(yè)部制組織的優(yōu)缺點(diǎn)有哪些?

      事業(yè)部制也稱分權(quán)制結(jié)構(gòu),是一種在直線職能制基礎(chǔ)上演變而成的現(xiàn)代企業(yè)組織結(jié)構(gòu)。事業(yè)部制結(jié)構(gòu)遵循“集中決策,分散經(jīng)營(yíng)”的總原則,實(shí)行集中決策指導(dǎo)下的分散經(jīng)營(yíng),按產(chǎn)品、地區(qū)和顧客等標(biāo)志將企業(yè)劃分為若干相對(duì)獨(dú)立的經(jīng)營(yíng)單位,分別組成事業(yè)部。各事業(yè)部可根據(jù)需要設(shè)置相應(yīng)的職能部門。

      優(yōu)點(diǎn):

      a 權(quán)力下放,有利于管理高層人員從日常行政事務(wù)中擺脫出來(lái),集中精力考慮重大戰(zhàn)略問(wèn)題。

      b各事業(yè)部主管擁有很大的自主權(quán),有助于增強(qiáng)其責(zé)任感,發(fā)揮主動(dòng)性和創(chuàng)造性,提高企業(yè)經(jīng)營(yíng)適應(yīng)能力。

      c 各事業(yè)部集中從事某一方面的經(jīng)營(yíng)活動(dòng),實(shí)現(xiàn)高度專業(yè)化,整個(gè)企業(yè)可以容納若干經(jīng)營(yíng)特點(diǎn)有很大差別的事業(yè)部,形成大型聯(lián)合企業(yè)。

      d 各事業(yè)部經(jīng)營(yíng)責(zé)任和權(quán)限明確,物質(zhì)利益與經(jīng)營(yíng)狀況緊密掛鉤。

      缺點(diǎn):

      a 容易造成機(jī)構(gòu)重疊,管理人員膨脹。

      b 各事業(yè)部獨(dú)立性強(qiáng),考慮問(wèn)題時(shí)容易忽視企業(yè)整體利益。

      適用范圍:規(guī)模大、業(yè)務(wù)多樣化、市場(chǎng)環(huán)境差異大、要求具有較強(qiáng)適應(yīng)性的企業(yè)。

      7、管理的基本職能有哪些?它們之間的關(guān)系如何?

      基本職能:1.計(jì)劃2.組織3.領(lǐng)導(dǎo)4.控制5.創(chuàng)新

      關(guān)系:每一項(xiàng)管理工作一般都是從計(jì)劃開(kāi)始,經(jīng)過(guò)組織、領(lǐng)導(dǎo)到控制結(jié)束。各職能之間同時(shí)相互交叉滲透,控制的結(jié)果可能又導(dǎo)致新的計(jì)劃,開(kāi)始又一輪新的管理循環(huán)。如此循環(huán)不息,把工作不斷推向前進(jìn)。創(chuàng)新在這管理循環(huán)中處于軸心的地位,成為推動(dòng)管理循環(huán)的原動(dòng)力。

      8、如何恰當(dāng)處理直線和參謀的關(guān)系,從而有效的發(fā)揮參謀的作用?

      直線關(guān)系和參謀關(guān)系是相互聯(lián)系、相互矛盾的。

      由管理幅度的限制而產(chǎn)生的管理層次之間的關(guān)系便是所謂的直線關(guān)系。直線關(guān)系是一種命令關(guān)系,是上級(jí)指揮下級(jí)的關(guān)系。這種命令關(guān)系自上而下,從組織的最高層,經(jīng)

      過(guò)中間層,一直延伸到最基層,形成一種等級(jí)鏈。直線關(guān)系是組織中管理人員的主要關(guān)系,組織設(shè)計(jì)的重要內(nèi)容便是規(guī)定和規(guī)范這種關(guān)系。

      直線與參謀是兩類不同的職權(quán)關(guān)系。直線關(guān)系是一種指揮和命令的關(guān)系,授予直線人員的是決策和行動(dòng)的權(quán)力;而參謀關(guān)系則是一種服務(wù)和協(xié)助的關(guān)系,授予參謀人員的是思考、籌劃和建議的權(quán)力。

      區(qū)分直線與參謀的另一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)是分析不同管理部門和管理人員在組織目標(biāo)實(shí)現(xiàn)中的作用。把為實(shí)現(xiàn)組織基本目標(biāo),協(xié)助直線人員有效工作而設(shè)置的部門稱為參謀機(jī)構(gòu)。把企業(yè)中致力于生產(chǎn)或銷售產(chǎn)品與勞動(dòng)的部門稱為直線機(jī)構(gòu),而把采購(gòu)、人事、會(huì)計(jì)等列為參謀部門。這種分類方法雖然有直觀明確的好處,而且可在一定程度上與職權(quán)關(guān)系角度的分類有某種吻合。應(yīng)該主要從職權(quán)關(guān)系的角度來(lái)理解直線與參謀。直線管理人員擁有指揮和命令的權(quán)力,而參謀則是作為直線的助手來(lái)進(jìn)行工作的。

      直線與參謀的矛盾往往是組織缺乏效率的原因之一??疾爝@些低效率的組織活動(dòng),通??梢园l(fā)現(xiàn)兩種不同的傾向:雖然保持了命令的統(tǒng)一性,但參謀作用不能充分發(fā)揮;參謀作用發(fā)揮失當(dāng),破壞了統(tǒng)一指揮的原則。

      參謀人員為了克服來(lái)自低層直線管理者的抵制,往往會(huì)不自覺(jué)地尋求上級(jí)直線經(jīng)理的支持。在許多情況下,他們能夠得到這種支持,并使之產(chǎn)生一定作用。引起直線與參謀矛盾的另一個(gè)可能原因是參謀人員過(guò)高估計(jì)了自己的作用。

      (3)正確發(fā)揮參謀的作用

      ①明確職權(quán)關(guān)系。對(duì)直線經(jīng)理來(lái)說(shuō)只有了解參謀工作,才有可能自覺(jué)地發(fā)揮參謀的作用,利用參謀的知識(shí),認(rèn)真對(duì)待參謀的建議,充分吸收其中合理的內(nèi)容,并勇于對(duì)這種吸收以及據(jù)此采取的行動(dòng)的結(jié)果負(fù)責(zé)。對(duì)參謀人員來(lái)說(shuō),只有明確了自己工作的特點(diǎn),認(rèn)識(shí)到參謀存在的價(jià)值在于協(xié)助和改善直線的工作,才有可能在工作中不越權(quán)爭(zhēng)權(quán),而是努力地提供好的建議,推薦自己的主張,宣傳自己的觀點(diǎn),以說(shuō)服直線經(jīng)理樂(lè)于接受自己的方案。

      ②授予必要的職能權(quán)力。授予職能權(quán)力是指直線主管把原本屬于自己的指揮和命令直線下屬的某些權(quán)力授給有關(guān)的參謀部門或參謀人員行使,從而使這些參謀部門不僅具有研究、咨詢和服務(wù)的責(zé)任,而且在某種職能范圍內(nèi)具有一定的決策、監(jiān)督和控制權(quán)。

      ③向參謀人員提供必要的條件。要取得參謀人員的幫助,必須首先幫助參謀人員工作,向參謀人員提供必要的工作條件,特別是有關(guān)的信息情報(bào),使他們能及時(shí)地了解直線部門的活動(dòng)進(jìn)展情況,從而能夠提出有用的建議。

      9、影響集權(quán)與分權(quán)的因素有哪些?

      1、決策的代價(jià)

      2、政策的一致性

      3、組織的規(guī)模

      4、組織的成長(zhǎng)

      5、管理哲學(xué)

      6、管理人員的數(shù)量與素質(zhì)

      7、控制的可能性

      8、職能領(lǐng)域

      9、組織的動(dòng)態(tài)特性。

      五、分析說(shuō)明題

      1、某企業(yè)來(lái)了個(gè)能干的廠長(zhǎng)后很快起死因生,但該廠長(zhǎng)四年合同期滿調(diào)離后,這家企業(yè)迅速地衰退,試分析這位廠長(zhǎng)的管理行為有什么特點(diǎn)?

      主要特點(diǎn) 依靠個(gè)人領(lǐng)導(dǎo)力來(lái)進(jìn)行管理,“人治”色彩過(guò)濃,沒(méi)有使管理過(guò)程制度化形成“法治”,任職期間過(guò)分注重對(duì)短期目標(biāo)的追求,忽視了企業(yè)的長(zhǎng)遠(yuǎn)發(fā)展,廠長(zhǎng)個(gè)人榮辱沒(méi)有與所管理企業(yè)的長(zhǎng)期盛衰聯(lián)系起來(lái),缺乏一種長(zhǎng)短期利益相匹配的激勵(lì)方案來(lái)激勵(lì)廠長(zhǎng)任期內(nèi)的管理行為趨向。

      2、某公司今年提出的經(jīng)營(yíng)目標(biāo)是“樹(shù)立企業(yè)良好形象,增加市場(chǎng)分額”,請(qǐng)根據(jù)有效目標(biāo)的主要特征,對(duì)該公司的這一目標(biāo)做出分析評(píng)價(jià)。

      有效目標(biāo)必須明確、能夠考核,最好有具體的量化指標(biāo),便于檢查控制。該公司的目標(biāo)僅是定性的指出工作方向,缺乏具體標(biāo)準(zhǔn),不便于檢查考核,操作性不強(qiáng)。

      3、乙公司的員工一定會(huì)比甲公司的員工更有積極性

      對(duì)積極性會(huì)有一定影響,但是讓乙公司員工的積極性不一定比甲公司的員工積極性高。這種管理模式跟積極性肯定有關(guān)。但是要看對(duì)什么樣的員工實(shí)行這種方式。對(duì)剛進(jìn)公司比較年輕的來(lái)說(shuō)第一種也有他的優(yōu)勢(shì),但是對(duì)老員工來(lái)說(shuō)第二中就好很多了。相對(duì)來(lái)說(shuō)乙公司的管理模式更能激發(fā)員工的積極性。

      七、綜合案例分析

      1、外方采用的是泰勒科學(xué)管理模式,完整的運(yùn)用了泰勒科學(xué)管理模式中的①工作效率和工作定額管理。通過(guò)進(jìn)行工時(shí)和動(dòng)作研究,制訂合理的工作定額,保留和改善必要的動(dòng)作,使生產(chǎn)率得到提高。②科學(xué)選人用人。為工作挑選最合適的人。要為每一項(xiàng)工作挑選第一流的工人,并對(duì)工人進(jìn)行培訓(xùn)。③標(biāo)準(zhǔn)化管理。要求操作方法、使用的工具、機(jī)器和材料及作業(yè)環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)化。④差別計(jì)件工資管理。實(shí)行有差別的計(jì)件工資制,對(duì)于按照標(biāo)準(zhǔn)操作方法在規(guī)定的時(shí)間定額內(nèi)完成工作的工人,按較高的工資率計(jì)算工資,否則按較低的工資率計(jì)算工資。⑤把計(jì)劃職能和作業(yè)職能分開(kāi),明確劃分兩種職能。計(jì)劃職能人員負(fù)責(zé)研究、計(jì)劃、調(diào)查、控制以及對(duì)操作者進(jìn)行指導(dǎo),逐步發(fā)展管理專業(yè)隊(duì)伍。⑥例外原則,實(shí)質(zhì)是實(shí)行分權(quán)管理,工人和雇主兩方面都要認(rèn)識(shí)提高勞動(dòng)生產(chǎn)率對(duì)雙方的利益,以便共同協(xié)作努力提高勞動(dòng)生產(chǎn)率。

      2、中方的施工經(jīng)理應(yīng)該向外方學(xué)習(xí)精心做好計(jì)劃安排,每件事在實(shí)施前定好標(biāo)準(zhǔn),加強(qiáng)工作的科學(xué)性。多運(yùn)用管理學(xué)的原理例如:泰勒科學(xué)管理模式。做到準(zhǔn)確、及時(shí)完成任務(wù)。不能再做畫一個(gè)進(jìn)度圖,然后不斷的趕工期,拿獎(jiǎng)金而忽略質(zhì)量的事情。注重每一個(gè)過(guò)程的細(xì)節(jié),反復(fù)研究,嚴(yán)格執(zhí)行,堵住漏洞。嚴(yán)格遵守合同,不給外方有索賠的機(jī)會(huì)。然后,主動(dòng)出擊發(fā)現(xiàn)外方有任何違反合同的表現(xiàn)馬上取證,保留證據(jù)。申請(qǐng)索賠,維護(hù)我方利益。

      第四篇:審計(jì)學(xué)復(fù)習(xí)題部分答案

      審計(jì)學(xué)審計(jì)人員對(duì)存貨內(nèi)部控制系統(tǒng)提出的調(diào)查“問(wèn)題”如下:

      (1)存貨入庫(kù)是否有嚴(yán)格的驗(yàn)收制度?

      (2)存貨的庫(kù)存量是否合理?

      (3)倉(cāng)庫(kù)保管員的責(zé)任是否明確?

      (4)存貨是否實(shí)行永續(xù)盤存制度?

      (5)倉(cāng)庫(kù)保管員的明細(xì)賬卡與業(yè)務(wù)部門或會(huì)計(jì)部門的存貨賬簿有無(wú)勾稽制約關(guān)系?

      (6)存貨發(fā)出有無(wú)審批手續(xù)?出庫(kù)出廠的門衛(wèi)制度是否嚴(yán)格?

      (7)存貨中的材料有無(wú)實(shí)行限額領(lǐng)料制度?領(lǐng)料中是否存在突破限額的現(xiàn)象?有關(guān)審批手續(xù)是否齊全?

      (8)發(fā)料與發(fā)貨的依據(jù)是否齊全?退料及進(jìn)庫(kù)的處理是否合規(guī)?

      (9)存貨是否進(jìn)行定期或不定期的盤存?賬實(shí)差異的處理是否合理?盤存的組織是否產(chǎn)生自動(dòng)控制作用?

      (10)存貨的控制部門和有關(guān)人員是否認(rèn)真履行了自己的職責(zé)?

      (11)有無(wú)經(jīng)常性的檢查和監(jiān)督?

      (1)收料單與購(gòu)貨發(fā)票答案:購(gòu)貨發(fā)票的證明力更強(qiáng)。理由:購(gòu)貨發(fā)票是屬于外部證據(jù),而收料單是屬于內(nèi)部證據(jù)所以購(gòu)貨發(fā)票的證明力比收料單的證明力更強(qiáng)。(2)銷貨發(fā)票副本與產(chǎn)品出庫(kù)單答案:銷售發(fā)票副本的證明力強(qiáng)。

      理由:銷售發(fā)票副本的格式和外部流轉(zhuǎn)的銷售的格式和內(nèi)容是一樣的,所以具有很強(qiáng)的證明力。(3)領(lǐng)料單與材料成本計(jì)算表答案:領(lǐng)料單的證明力強(qiáng)。理由:領(lǐng)料單需要有關(guān)人員簽字批準(zhǔn),并且在內(nèi)部流轉(zhuǎn)所以證明力強(qiáng)。(4)工資計(jì)算單與工資發(fā)放單答案:工資發(fā)放單的證明力強(qiáng)。理由:工資發(fā)放單需要職工簽字所以證明力強(qiáng)。(5)存貨盤點(diǎn)表與存貨監(jiān)盤記錄答案:存貨監(jiān)盤記錄的證明力強(qiáng)。理由:注冊(cè)會(huì)計(jì)師自行獲得的審計(jì)證據(jù)比由被審計(jì)單位提供的證據(jù)可靠。(6)銀行詢證函回函與銀行對(duì)賬單答案:銀行詢證函的回函的證明力強(qiáng)。理由:銀行詢證函回函,沒(méi)有經(jīng)過(guò)被審計(jì)單位之手,而銀行對(duì)賬單經(jīng)過(guò)了被審計(jì)單位之手所以銀行詢證函的回函的證明力強(qiáng)。

      (1)此種情況下應(yīng)采取替代程序,主要是審查顧客訂貨單、購(gòu)銷合同、發(fā)票副本、貨運(yùn)文件、收款憑證等文件、資料,驗(yàn)證構(gòu)成應(yīng)收賬款的銷貨交易是否確實(shí)發(fā)生。

      (2)這種情況可能是由于時(shí)間差異造成的,注冊(cè)會(huì)計(jì)師應(yīng)審查收款憑證,看貨款是否收到及收到的日期。如果貨款函證日之前已收到則可能是記賬錯(cuò)誤,即收到貨款時(shí)貸記另一客戶的明細(xì)賬戶,注冊(cè)會(huì)計(jì)師應(yīng)審查賬戶記錄并對(duì)貸記的賬戶進(jìn)行函證。

      (3)該顧客的回答不清楚。注冊(cè)會(huì)計(jì)師應(yīng)重新函證,請(qǐng)具體準(zhǔn)確答復(fù)。

      (4)此種情況很有可能是客戶在貨物所有權(quán)尚未轉(zhuǎn)移前就認(rèn)定為銷售實(shí)現(xiàn)。注冊(cè)會(huì)計(jì)師應(yīng)審查銷貨發(fā)票的副本和有關(guān)的購(gòu)銷合同、協(xié)議。

      (5)應(yīng)查明預(yù)收貨款是否確實(shí)收到并已入賬,如查明確能抵付,應(yīng)提請(qǐng)客戶進(jìn)行相應(yīng)的賬務(wù)處理。

      (6)審核貨運(yùn)文件等資料以查明貨物是否確已運(yùn)出。如確已運(yùn)出,應(yīng)將貨運(yùn)文件影印件送請(qǐng)顧客重新查證;如確末運(yùn)出,應(yīng)提請(qǐng)客戶作調(diào)賬處理。

      第五篇:熱力發(fā)電廠復(fù)習(xí)題部分答案

      熱力發(fā)電廠復(fù)習(xí)題

      第一章

      1.什么是發(fā)電廠的可靠性:安全管理;可靠性管理;壽命管理。P11 2.大氣污染防治的方法有哪些:高煙囪排放;高效除塵器;SO2控制技術(shù)的開(kāi)發(fā)應(yīng)用;電廠鍋爐NOX控制技術(shù)的開(kāi)發(fā)應(yīng)用。P15 3.評(píng)價(jià)電廠熱經(jīng)濟(jì)方法,從熱力學(xué)的角度分析有幾種方法:兩種,一種是熱量法(效率法、熱平衡法),另一種是方法(損、做功能力損失)。P20 4.再熱前的回?zé)岢槠龉Σ蛔阆禂?shù)=P30 5.再熱后的回?zé)岢槠龉Σ蛔阆禂?shù)= 6.電廠生產(chǎn)的方針是什么:把節(jié)約能源資源放在更突出的戰(zhàn)略位置,切實(shí)做好節(jié)約發(fā)展,清潔發(fā)展,安全發(fā)展,可持續(xù)發(fā)展,堅(jiān)定不移的走生產(chǎn)發(fā)展、生活富裕、生態(tài)良好的文明發(fā)展道路。P41 第二章

      1.提高蒸汽初溫對(duì)循環(huán)熱效率有何影響?受什么因素制約,對(duì)汽輪機(jī)的效率有何影響?P44 答:提高蒸汽初溫,使排氣干度提高,減少了低壓缸排氣濕汽損失。提高蒸汽溫度使其比體積增大,當(dāng)其他條件不變時(shí),汽輪機(jī)高壓端的葉片高度加大,相對(duì)減少了高壓端漏氣損失,因此可提高汽輪機(jī)的相對(duì)內(nèi)效率從而提高絕對(duì)內(nèi)效率。提高初溫受金屬材料的制約。2.提高蒸汽初壓對(duì)循環(huán)熱效率有何影響?受什么因素制約,對(duì)汽輪機(jī)的效率有何影響? 答:提高初壓使蒸汽干度減小,濕氣損失增加;提高初壓使進(jìn)入汽輪機(jī)的濕氣體積和容積流量減小,相對(duì)加大了高壓端漏氣損失,有可能要局部進(jìn)氣而導(dǎo)致鼓風(fēng)損失、斥汽損失、使得汽機(jī)相對(duì)內(nèi)效率下降。而排氣濕度的增加不僅影響機(jī)組熱經(jīng)濟(jì)性,還將危及機(jī)組的正常運(yùn)行。提高初壓受蒸汽膨脹終了時(shí)濕度的限制。3.降低蒸汽終參數(shù)對(duì)循環(huán)效率有何影響?

      答:降低蒸汽終參數(shù)即降低蒸汽排氣壓力,降低排氣壓力總是可以提高循環(huán)熱效率的。P57 4.蒸汽再熱的方法有幾種?其受到何因素的限制? 答:煙氣再熱、蒸汽再熱兩種。P76 第四章

      1.什么是熱力系統(tǒng)?按范圍分有全廠和局部,按用途分有原則性和全向性 答:熱力系統(tǒng)是熱力發(fā)電廠實(shí)現(xiàn)熱功轉(zhuǎn)換熱力部分的工藝系統(tǒng)。P137 2.回?zé)峒訜崞鞯姆诸?/p>

      答:分為混合式(接觸式)和表面式兩類。P138 3.面式加熱器分類 答:立式和臥式。P139 4.什么是高壓加熱器?什么是低壓加熱器?

      答:高壓加熱器簡(jiǎn)稱高加,是接在高壓給水泵之后的加熱給水的混合式加熱器,用來(lái)提高給水溫度以提高經(jīng)濟(jì)效益的。低壓加熱器是接在軸封加熱器之后的,用來(lái)加熱上高壓除氧器的凝結(jié)水的,也是提高凝結(jié)水溫度以提高經(jīng)濟(jì)效益的。(來(lái)源度娘)5.蒸汽冷卻器的作用是什么?其對(duì)熱效率有何影響

      答:提高加熱器出口水溫或整個(gè)回?zé)嵯到y(tǒng)的出口水溫,減小加熱器內(nèi)換熱溫差和損以提高熱經(jīng)濟(jì)性。提高熱效率。P146 6.表面式加熱器的疏水方式有哪些?哪種疏水方式熱經(jīng)濟(jì)性好?

      答:

      1、利用相鄰加熱器的汽測(cè)壓差,使疏水逐級(jí)自流的方式。

      2、采用疏水泵,將疏水打入該加熱器出口水流。疏水泵方式經(jīng)濟(jì)性最高。P148~149 7.什么是表面式加熱器的上端差和下端差?

      答:上端差又稱出口端差,指加熱器汽測(cè)壓力下的飽和水溫與出口水溫之間的差值;下端差又稱入口端差,指離開(kāi)疏水冷卻器的疏水溫度與進(jìn)口水溫之間的差值。P151 8.采用疏水冷卻器的作用是什么?對(duì)熱經(jīng)濟(jì)性有何影響

      答:減少了疏水排擠低壓抽汽而引起的熱損失。裝置疏水冷卻器可以提高回?zé)嵩O(shè)備的經(jīng)濟(jì)性。如果沒(méi)有疏水冷卻器,加熱器的疏水進(jìn)入壓力較低的加熱器中,使部分疏水蒸發(fā),產(chǎn)生一定量的飽和蒸汽,其壓力為較低的加熱器中壓力,這樣就排擠了一部分低壓抽汽,而多用了一部分較高壓力的抽汽,使經(jīng)濟(jì)性降低。(P148&度娘)

      第五章

      1.發(fā)電廠的汽水損失有哪兩大類? 答:內(nèi)部損失和外部損失。2.內(nèi)部汽水損失包括哪些?

      答:包括熱力設(shè)備及其管道的暖管疏放水,加熱重油、各種汽動(dòng)設(shè)備的用汽,蒸汽吹灰用汽、汽包爐的排污水、汽封用汽、汽水取樣、設(shè)備檢修時(shí)的排放水等工藝上要求的正常性汽水工質(zhì)損失;還包括熱力設(shè)備或管道的跑冒滴漏等偶然性非工藝要求汽水損失。P171 3.采取減少工質(zhì)損失的技術(shù)措施有哪些?

      答:

      1、選擇合理的熱力系統(tǒng)及汽水回收方式;

      2、改進(jìn)工藝過(guò)程;

      3、提高安裝檢修質(zhì)量;

      4、提高運(yùn)行技術(shù)管理水平、改善維修運(yùn)行人員素質(zhì)的提高和相應(yīng)的監(jiān)督機(jī)制、完善考核管理辦法等。P171 4.蒸汽帶鹽的兩種攜帶方式是什么? 答:水滴攜帶和溶解攜帶

      5.鍋爐連續(xù)排污利用系統(tǒng)對(duì)汽輪機(jī)組的熱經(jīng)濟(jì)性有何影響?對(duì)全廠的熱經(jīng)濟(jì)性有何影響? 答:P174~175我沒(méi)總結(jié)出來(lái)??

      6.發(fā)電廠的工質(zhì)回收和“廢熱”利用的原則是什么? 答:P175最后幾段 7.加熱用的蒸汽通常有哪些? 答:加熱總有、空氣、煙氣、和廠內(nèi)采暖加熱器等.P176 8.鍋爐為什么要設(shè)置暖風(fēng)器?

      答:可以提高進(jìn)入空氣預(yù)熱器的進(jìn)口空氣溫度,以減少鍋爐尾部受熱面的金屬溫度低于露點(diǎn)引起的腐蝕、堵灰。P176 9.給水除氧的方法有哪兩類? 答:化學(xué)除氧和物理(熱力)除氧。10.影響凝結(jié)水水質(zhì)的因素有哪些?

      答:

      1、因凝結(jié)器泄漏混入的冷卻水中的雜質(zhì)。

      2、補(bǔ)入軟化水帶入的懸浮物和溶解鹽。

      3、機(jī)組啟停及負(fù)荷變動(dòng),導(dǎo)致給水、凝結(jié)水溶解氧升高,使熱力系統(tǒng)中腐蝕物增加。P177 11.凝結(jié)水精處理裝置的兩種連接方式是什么 答:低壓系統(tǒng)和中壓系統(tǒng)。P177 12.熱除氧的機(jī)理是什么?

      答:分壓定律(道爾頓定律)、亨利定律、傳熱方程、傳質(zhì)方程。13.熱除氧器的構(gòu)造要求有哪些? 答:P179~180 14.為什么除氧器的儲(chǔ)水箱要設(shè)置再沸騰管?

      答:以免水箱的水溫因散熱降溫低于除氧器壓力下的飽和溫度,產(chǎn)生返氧。15.除氧器的運(yùn)行方式有哪兩種? 答:定壓除氧器、滑壓除氧器。16.除氧器的自身沸騰是什么?如何防止?

      答:當(dāng)無(wú)需抽氣加熱,其他各項(xiàng)汽水流量的熱量,已能將水加熱至除氧器工作壓力下的飽和溫度,這種現(xiàn)象叫除氧器自身沸騰。

      防治:將一些輔助汽水流量如軸封漏氣、門桿漏氣、或某些疏水改為引至其他較合適的加熱器;也可設(shè)高加疏水冷卻器,降低其焓值后再引入除氧器;還可提高除氧器的工作壓力來(lái)減少高壓加熱器的數(shù)量使其疏水量、疏水比焓降低;還可以引入溫度低的補(bǔ)充水。P186 17.滑壓除氧器在機(jī)組負(fù)荷驟變時(shí),對(duì)除氧效果、給水泵的汽蝕有何影響? 答:P192表5-6 18.除氧器排汽帶水和震動(dòng)的原因

      答:排氣帶水的原因是排氣量過(guò)大或除氧器內(nèi)加熱不足。除氧器震動(dòng)的原因有:?jiǎn)?dòng)時(shí)暖管不充分,突然進(jìn)入大量低溫水造成汽、水沖擊;淋水盤式除氧器負(fù)荷過(guò)載,盤內(nèi)水溢流阻塞氣流通道,再循環(huán)管的流速過(guò)高,除氧器結(jié)構(gòu)產(chǎn)生缺陷等。P198第三段 第六章

      1.什么是熱負(fù)荷,熱負(fù)荷有哪些,水網(wǎng)和汽網(wǎng)特點(diǎn)

      答:有熱電廠通過(guò)熱網(wǎng)向熱用戶供應(yīng)不同用途的熱量,稱為熱負(fù)荷。熱負(fù)荷有:生產(chǎn)熱負(fù)荷、熱水供應(yīng)負(fù)荷、采暖季通風(fēng)熱負(fù)荷。P200 水網(wǎng)和汽網(wǎng)的特點(diǎn)在P205中間。第七章

      1.鍋爐和汽輪機(jī)本體汽水系統(tǒng)有哪些?

      答:鍋爐本體汽水系統(tǒng)包括:鍋爐本體的汽水循環(huán)系統(tǒng),主蒸汽及再熱蒸汽的減溫水系統(tǒng),給水調(diào)節(jié)系統(tǒng),及鍋爐排污水和疏放水系統(tǒng)等。汽輪機(jī)本體熱力系統(tǒng)主要有汽輪機(jī)的表面式回?zé)峒訜崞飨到y(tǒng)、凝氣系統(tǒng)、本體疏放水系統(tǒng)。P217 2.擬定原則性熱力系統(tǒng)步驟

      答:

      1、確定發(fā)電廠的型式及規(guī)劃容量。

      2、選擇汽輪機(jī)。

      3、繪制電廠原則性熱力系統(tǒng)圖。

      4、發(fā)電廠原則性熱力系統(tǒng)計(jì)算。

      5、選擇鍋爐。

      6、選擇熱力輔助設(shè)備。3.何為發(fā)電廠原則性熱力系統(tǒng),有何特點(diǎn),實(shí)質(zhì)和作用?

      答:發(fā)電廠原則性熱力系統(tǒng)是將鍋爐設(shè)備、汽輪機(jī)設(shè)備及相關(guān)的輔助設(shè)備作為整體的全廠性的熱力系統(tǒng)。其實(shí)質(zhì)是表明循環(huán)的特征、工質(zhì)的能量轉(zhuǎn)化、熱量利用程度以及技術(shù)完善程度,主要作為定性分析和定量計(jì)算的應(yīng)用。P217 4.認(rèn)知發(fā)電廠原則性熱力系統(tǒng)(P223頁(yè)圖)第八章

      1.什么是發(fā)電廠全面性熱力系統(tǒng),和原則性熱力系統(tǒng)有和區(qū)別?

      答:發(fā)電廠全面性熱力系統(tǒng)是用規(guī)定的符號(hào),表明全廠性的所有熱力設(shè)備及汽水管道和附件的總系統(tǒng)圖。發(fā)電廠原則性熱力系統(tǒng)只涉及到電廠的能量轉(zhuǎn)換及熱量利用過(guò)程,而發(fā)電廠全面性熱力系統(tǒng)在此基礎(chǔ)之上還反映了發(fā)電廠的能量是怎樣實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)換的。P281 2.再熱機(jī)組旁熱系統(tǒng)有哪些作用 答:

      3.給水泵和凝結(jié)水泵的作用、區(qū)別? 答:

      4.如何減少ES蒸汽壓損和偏差 答:減少沿程和局部損失、減少閥門 5.國(guó)產(chǎn)機(jī)組采用哪些煨溫措施? 答:

      6.氣動(dòng)泵與電動(dòng)泵比較有哪些優(yōu)點(diǎn)? 答:P318~319 7.旁路系統(tǒng)作用是什么?畫出旁路系統(tǒng)圖(P303 A B C D任選一個(gè))8.汽輪機(jī)進(jìn)水水源有哪些 答:P298中間段落4點(diǎn) 9.如何防止汽輪機(jī)進(jìn)水?

      答:防止汽輪機(jī)進(jìn)水的疏水系統(tǒng)包括:

      一、二次蒸汽管道的疏水、汽輪機(jī)抽氣管道疏水、給水加熱器緊急放水、汽輪機(jī)汽封管道疏水??刹捎脙身?xiàng)技術(shù)措施和一種裝置:

      1、可控的再熱器事故噴水系統(tǒng)。

      2、有疏水水位指示的冷再熱蒸汽管道的疏水筒系統(tǒng)。

      3、防汽輪機(jī)進(jìn)水的自動(dòng)監(jiān)測(cè)裝置或儀表。P298~299 10.ES蒸汽系統(tǒng)為什么來(lái)采取煨溫措施 答:

      11.法門類型有哪些

      答:關(guān)斷閥、調(diào)節(jié)閥、保護(hù)閥。P289 12.發(fā)電廠對(duì)疏放水的一般要求是什么? 答:

      13.蒸汽管道的疏水類型?

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